一种暗挖隧道初次衬砌阶段快速施工局部地下二层井的施工方法技术

一种暗挖隧道初次衬砌阶段快速施工局部地下二层井的施工方法，包括以下步骤：第一步：采取分段开挖暗挖隧道二层井结构；先开挖二层井结构的首层，施工首层格栅；第二步：制作首层底板结构，并在首层底板结构与首层格栅连接的边角处采用“T型格栅”预留接头；第三步：开挖二层井结构的底层结构，及时将底层结构的格栅与所述“T型格栅”预留接头连接，形成封闭结构，保证施工完全。本发明专利技术可有效降低暗挖法隧道施工局部二层井过程中的安全风险，且不对后续各类施工造成干扰，实现高效、简单、灵活的目的。本发明专利技术施工简单、安全可靠、灵活度高，可有效提高暗挖隧道施工过程中局部二层井施工的工作效率与安全性。率与安全性。率与安全性。

【技术实现步骤摘要】
一种暗挖隧道初次衬砌阶段快速施工局部地下二层井的施工方法


[0001]本专利技术涉及隧道施工的建筑工程
，具体地，涉及一种暗挖隧道初次衬砌阶段快速施工局部地下二层井的施工方法。

技术介绍

[0002]随着人类社会的不断发展进步，各种用途的隧道不断修建，隧道工程技术水平也不断提高与发展。因埋深条件、周边环境等因素的限制，在建筑物密集的繁华市区和特殊地质区段经常采用暗挖法进行施工。暗挖法施工隧道过程中，根据隧道使用功能、承载能力不同，隧道部分区域构造形式为局部二层井形式，如综合管廊隧道管线节点井部位、地铁隧道集水坑部位等均需设置局部二层井以实现隧道正常使用功能。
[0003]目前施工暗挖法隧道局部二层井的方法主要有以下两种：(1)暗挖法施工至相应部位时结构底部局部加深，施工至设计深度，后续加设中层隔板，完成暗挖法隧道二次结构；(2)首先运用暗挖法施工局部二层井首层结构，后续破除相应部位隧道底板结构，向下开挖至设计深度，并施工局部二层结构，形成稳定结构。方法(1)中暗挖法隧道局部二层井结构与首层结构同步施工，在施工过程中，由于局部开挖深本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种暗挖隧道初次衬砌阶段快速施工局部地下二层井的施工方法，其特征在于，包括以下步骤：第一步：采取分段开挖暗挖隧道二层井结构；先开挖二层井结构的首层，施工首层格栅；第二步：制作首层底板结构，并在首层底板结构与首层格栅连接的边角处采用“T型格栅”预留接头；第三步：开挖二层井结构的底层结构，及时将底层结构的格栅与所述“T型格栅”预留接头连接，形成封闭结构，保证施工完全。2.根据权利要求1所述的暗挖隧道初次衬砌阶段快速施工局部地下二层井的施工方法，其特征在于，所述第二步中，所述首层底板结构的格栅采用玻璃纤维钢筋制作，以便于首层底板结构的破除施工。3.根据权利要求1
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【专利技术属性】
技术研发人员：李松，侯宇璐，雷铭，张睿，李锁辉，张艳鹏，王道乐三，武波，陈俐光，李桐，刘国怀，
申请(专利权)人：中建市政工程有限公司，
类型：发明
国别省市：