半导体晶片用干燥机的导向装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种半导体晶片用干燥机的导向装置，为了对用去离子水清洗的经过洗涤溶液等化学溶液处理的半导体晶片进行干燥，在为进行马兰哥尼干燥而以升降的形式从冲洗用槽移动至干燥用槽时，为了防止在使用弯曲较大的3D工艺较多的存储器设备的工艺或晶片再生过程中发生微小的扭曲或弯曲的晶片脱离水面时因表面张力梯度而相互粘住，在冲洗用槽内周面构成晶片导向装置，从而防止微小的扭曲或弯曲的晶片损伤到正常的晶片。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】半导体晶片用干燥机的导向装置
本专利技术涉及一种半导体晶片用干燥机的导向装置，更加详细的涉及一种半导体晶片用干燥机的导向装置，为了对用去离子水(DIwater)清洗的经过洗涤溶液等化学溶液处理的半导体晶片进行干燥，在为进行马兰哥尼(Marangoni)干燥而以升降的形式从冲洗用槽(rinsingbath)移动至干燥用槽(dryingbath)时，为了防止在晶片脱离水面时因表面张力梯度(gradient)相互粘住，在冲洗用槽内周面构成晶片导向装置，从而防止晶片受损。
技术介绍
通常，在制造半导体的整个工艺中，最常用冲洗及干燥工艺。例如，在清洗工艺中，用洗涤液去除颗粒等杂质或自然氧化膜后，为了去除残留的洗涤液而使用冲洗及干燥工艺。并且，在对规定的物质膜进行蚀刻或浸蚀的工艺等中，作为最后的步骤，也实施冲洗及干燥工艺。冲洗工艺是用去离子水对用洗涤溶液等化学溶液进行处理的半导体晶片进行洗涤的工艺，而干燥工艺是对经过冲洗工艺的半导体晶片进行干燥的工艺。在上述的冲洗及干燥工艺中，重要的是，要防止硅晶片上产生所谓的水印(watermark)。<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半导体晶片用干燥机的导向装置，其特征在于，包括：/n引导部件(110)，其设置于冲洗用槽(12)的内周面，以便在通过半导体晶片用干燥机(10)对各晶片进行马兰哥尼干燥时，防止晶片由于表面张力梯度而互相粘住，当安置有多个晶片的开槽机(13)通过升降机(14)的驱动向干燥用槽(15)侧移动时，为了能够分别单独地引导多个晶片，在引导部件(110)各一面以一定的间隔形成有多个引导用槽(111)并以相互面对的形式设置，其中，半导体晶片用干燥机(10)包括：冲洗用槽(12)，其设置于形成外观的外壳(11)的内侧下部，底面以通过配管的去离子水供给口(12a)得到去离子水的供给后能够储存去离子水的形式...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181226 KR 10-2018-01693561.一种半导体晶片用干燥机的导向装置，其特征在于，包括：
引导部件(110)，其设置于冲洗用槽(12)的内周面，以便在通过半导体晶片用干燥机(10)对各晶片进行马兰哥尼干燥时，防止晶片由于表面张力梯度而互相粘住，当安置有多个晶片的开槽机(13)通过升降机(14)的驱动向干燥用槽(15)侧移动时，为了能够分别单独地引导多个晶片，在引导部件(110)各一面以一定的间隔形成有多个引导用槽(111)并以相互面对的形式设置，其中，半导体晶片用干燥机(10)包括：冲洗用槽(12)，其设置于形成外观的外壳(11)的内侧下部，底面以通过配管的去离子水供给口(12a)得到去离子水的供给后能够储存去离子水的形式形成，上部以使得供给的去离子水溢出的形式开口，在外侧面上部形成有用于将溢出的去离子水朝排出口(12b)方向引导的排出部(12c)；升降机(14)，其位于冲洗用槽(12)，并以能够使得开槽机(13)升降的形式设置，在开槽机(13)上部形成有多个安置槽，以便能够使得多个晶片以一定的间隔安置...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵仁淑，安钟八，
申请(专利权)人：爱捷株式会社，赵仁淑，
类型：发明
国别省市：韩国;KR