三维打印平台、加工方法及三维打印设备技术

本发明专利技术提供一种三维打印平台、加工方法及三维打印设备，所述三维打印设备包括滑动组件、三维打印平台、曝光屏幕和料盘，所述滑动组件与所述三维打印平台固定连接，并驱动所述三维打印平台靠近或远离所述曝光屏幕和所述料盘，所述三维打印平台包括目标成型面，所述目标成型面包括至少一个镭雕区域，所述镭雕区域包括多条凹陷的镭雕线条；其中，所述目标成型面由所述三维打印平台正对曝光屏幕且用于打印的成型平面，依次经平面度加工处理、粗糙处理和激光镭雕处理后得到。本发明专利技术实施例可以使得三维打印平台能够在吸附打印模型的同时，便于实现打印模型的脱离。

【技术实现步骤摘要】
三维打印平台、加工方法及三维打印设备
本专利技术涉及三维打印
，尤其涉及一种三维打印平台、加工方法及三维打印设备。
技术介绍
3D打印设备又称三维打印设备(3DimensionPrinter，3DP)，是一种累积制造技术，即快速成形技术的一种设备，它是一种数字模型文件为基础，运用特殊蜡材、粉末状金属或塑料等可粘合材料，通过依次打印多层的粘合材料来制造三维的物体。光固化三维打印设备中，滑动组件会驱动打印平台由紧贴曝光屏幕到逐渐远离曝光屏幕，曝光屏幕将料盘中的打印材料固化，逐步形成的打印模型粘贴在打印平台上。因此打印完成后，需要从打印平台上将打印模型取下，而对于现有的打印平台，由于需要克服打印模型的重力进行打印，通常打印平台与打印模型间的粘附力的较大，以避免打印过程中打印平台和打印模型分离，因此若需要从打印平台取下打印模型，需要花费较大的力，且容易造成打印模型损伤。可见，现有的三维打印设备存在脱模不便的问题。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种三维打印平台、加工方法及三维打印设备，以解决现有的三维打印设备存在脱模不便的问题。第一方面，本专利技术实施例提供了一种三维打印平台，应用于三维打印设备，所述三维打印设备包括滑动组件、三维打印平台、曝光屏幕和料盘，所述滑动组件与所述三维打印平台固定连接，并驱动所述三维打印平台靠近或远离所述曝光屏幕和所述料盘；所述三维打印平台包括目标成型面，所述目标成型面包括至少一个镭雕区域，所述镭雕区域包括多条凹陷的镭雕线条；其中，所述目标成型面由所述三维打印平台正对曝光屏幕且用于打印的成型平面，依次经平面度加工处理、粗糙处理和激光镭雕处理后得到.第二方面，本专利技术实施例还提供了一种三维打印平台的加工方法，应用于三维打印平台，所述方法包括：对所述三维打印平台的正对曝光屏幕且用于打印的成型平面进行平面度加工处理，得到第一成型面；对所述第一成型面进行粗糙处理，得到第二成型面；对所述第二成型面进行激光镭雕处理，得到目标成型面，所述目标成型面包括至少一个镭雕区域，所述镭雕区域包括多条凹陷的镭雕线条。第三方面，本专利技术实施例还提供了一种三维打印设备，包括滑动组件、曝光屏幕、料盘和如第一方面所述的三维打印平台，所述滑动组件与所述三维打印平台固定连接，并驱动所述三维打印平台靠近或远离所述曝光屏幕和所述料盘。本专利技术实施例中，三维打印平台正对曝光屏幕且用于打印的成型平面依次经过平面度处理、粗糙处理和激光镭雕处理，最终得到所述目标成型面，通过平面度处理，使得最终得到的目标成型面能够保持较好的平整度，能够与曝光屏幕较好地贴合，从而便于打印材料在目标成型面上成型，通过粗糙处理，增大了最终得到的目标成型面的粗糙度，从而便于打印模型与目标成型面的分离，而通过激光镭雕处理，得到的目标成型面由多条凹陷的镭雕线条形成至少一个镭雕区域，这样，打印材料的分子可以在固化成型的过程中，被挤入凹陷的镭雕线条内，增大了打印材料与目标成型面的接触面积，提升了打印模型与目标成型面的粘附力，从而使得三维打印平台能够在吸附打印模型的同时，便于实现打印模型的脱离。本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。附图说明本专利技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1是本专利技术实施例提供的三维打印设备的结构示意图之一；图2是本专利技术实施例提供的三维打印设备的结构示意图之二；图3是本专利技术实施例提供的三维打印平台中目标成型面的示意图之一；图4是图3中单个镭雕区域的示意图；图5是本专利技术实施例提供的三维打印平台中目标成型面的示意图之二；图6是图5中单个镭雕区域的示意图；图7是本专利技术实施例提供的三维打印平台中目标成型面的示意图之三；图8是图7中单个镭雕区域的示意图；图9是本专利技术实施例提供的三维打印平台中目标成型面的示意图之四；图10是图9中单个镭雕区域的示意图；图11是本专利技术实施例提供的三维打印平台中目标成型面的示意图之五；图12是图11中单个镭雕区域的示意图；图13是本专利技术实施例提供的三维打印平台中目标成型面的示意图之六；图14是图13中单个镭雕区域的示意图；图15是本专利技术实施例提供的三维打印平台中目标成型面的示意图之七；图16是本专利技术实施例提供的三维打印平台中目标成型面的示意图之八；图17是本专利技术实施例提供的三维打印平台中目标成型面的示意图之九；图18是本专利技术实施例提供的三维打印平台中目标成型面的示意图之十。具体实施方式下面将详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术的说明书和权利要求书中的术语“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本专利技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。此外，说明书以及权利要求中“和/或”表示所连接对象的至少其中之一，字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是设备械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。参见图1至图18，本专利技术实施例提供了一种三维打印平台，应用于三维打印设备，所述三维打印设备包括滑动组件100、三维打印平台200、曝光屏幕300和料盘400，所述滑动组件100与所述三维打印平台200固定连接，并驱动所述三维打印平台200靠近或远离所述曝光屏幕300和所述料盘400；所述三维打印平台包括目标成型面210，所述目标成型面210包括至少一个镭雕区域211，所述镭雕区域211包括多条凹陷的镭雕线条；其中，所述目标成型面210由所述三维打印平台正对曝光屏幕300且用于打印的成型平面，依次经平面度加工处理、粗糙处理和激光镭雕处理后得到。上述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种三维打印平台，应用于三维打印设备，所述三维打印设备包括滑动组件、三维打印平台、曝光屏幕和料盘，所述滑动组件与所述三维打印平台固定连接，并驱动所述三维打印平台靠近或远离所述曝光屏幕和所述料盘，其特征在于，/n所述三维打印平台包括目标成型面，所述目标成型面包括至少一个镭雕区域，所述镭雕区域包括多条凹陷的镭雕线条；/n其中，所述目标成型面由所述三维打印平台正对曝光屏幕且用于打印的成型平面，依次经平面度加工处理、粗糙处理和激光镭雕处理后得到。/n

【技术特征摘要】
1.一种三维打印平台，应用于三维打印设备，所述三维打印设备包括滑动组件、三维打印平台、曝光屏幕和料盘，所述滑动组件与所述三维打印平台固定连接，并驱动所述三维打印平台靠近或远离所述曝光屏幕和所述料盘，其特征在于，
所述三维打印平台包括目标成型面，所述目标成型面包括至少一个镭雕区域，所述镭雕区域包括多条凹陷的镭雕线条；
其中，所述目标成型面由所述三维打印平台正对曝光屏幕且用于打印的成型平面，依次经平面度加工处理、粗糙处理和激光镭雕处理后得到。


2.根据权利要求1所述的三维打印平台，其特征在于，当所述镭雕区域的数量为1时，所述镭雕区域覆盖所述目标成型面的全部区域；当所述镭雕区域的数量为多个时，多个所述镭雕区域分布于所述目标成型面上，且相邻两个所述镭雕区域之间存在间距，以使相邻两个所述镭雕区域之间形成非镭雕区域。


3.根据权利要求2所述的三维打印平台，其特征在于，所述目标成型面上多个所述镭雕区域的面积和与多个所述非镭雕区域的面积和的比值为预设值。


4.根据权利要求3所述的三维打印平台，其特征在于，所述预设值为0.8:1.2～1.2:0.8。


5.根据权利要求2所述的三维打印平台，其特征在于，多个所述镭雕区域在所述目标成型面上沿预设方向排列形成N列镭雕区域组合，且任意相邻两列的所述镭雕区域组合包含的所述镭雕区域在所述预设方向上交错设置，N为大于1的整数。


6.根据权利要求5所述的三维打印平台，其特征在于，在多个所述镭雕区域均呈正方形设置时，在每列所述镭雕区域组合中，相邻设置的两个所述镭雕区域之间的间距等于所述镭雕区域的边长，以使相邻设置的两个所...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡桂源，龚箭，
申请(专利权)人：深圳市纵维立方科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44