手动涂胶协助装置制造方法及图纸

本发明专利技术适用于光刻胶涂胶设备领域，提供了一种手动涂胶协助装置，其包括固定支架、倾斜固定在该固定支架上的试管、分别固定在该试管两端且与该试管相连通的漏斗和滴管。本发明专利技术的手动涂胶协助装置，在涂胶时，将胶体装入漏斗内，胶体在自身重力的作用下，通过试管流入滴管，再在自身重力作用下滴在基材表面，如此，涂胶的速率均衡，因此，基材表面胶体涂布均匀。此外，使用本发明专利技术的手动涂胶协助装置时，不需要实验者将手伸入机台内部进行涂胶，因此，不存在胶体溅出而对实验者造成伤害的情况。

【技术实现步骤摘要】
手动涂胶协助装置
本专利技术属于光刻胶涂胶设备领域，尤其涉及一种手动涂胶协助装置。
技术介绍
随着半导体行业的飞速发展，“光刻”这个词已经逐渐变得流行起来。光刻胶材料是光刻技术的关键材料，也是半导体制造的核心材料之一。涂胶显影机(Track)是光刻胶研发不可缺少的设备，其工作原理是：将光刻胶加仑瓶装入涂胶显影机后，对基材表面进行光刻胶旋涂或者其它试剂的旋涂。在光刻胶的研发阶段，需要进行大量实验，然而因为光刻胶研发阶段均为小样研发，若频繁地将光刻胶装入光刻胶加仑瓶然后装机进行实验，会浪费时间及材料。因此，在光刻胶的研发阶段，只能人工在涂胶显影机的机台里对基材手动涂胶。但是，目前，还没有一个成熟的技术方案可以很好的完成手动涂胶实验，只是简单的将光刻胶从小试剂瓶倒入烧杯，然后人工将烧杯伸入机台里，将胶样倒入基材上进行涂布操作。人工手动倒胶，不能控制实验的精准度，会造成基材表面涂胶不均匀，导致胶膜的厚度范围变大。此外，由于机台内部的光线较暗，基材旋涂的转速较快时，光刻胶可能会溅出，而对实验者造成伤害
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种手动涂胶协助装置，旨在解决人工手动涂胶不均匀及存在危险性的问题。本专利技术实施例是这样实现的，一种手动涂胶协助装置，其包括固定支架、倾斜固定在该固定支架上的试管、分别固定在该试管两端且与该试管相连通的漏斗和滴管。更进一步地，所述试管具有一第一端部及远离该第一端部的第二端部，该第一端部的高度等于或高于该第二端部的高度，所述漏斗固定在该第一端部，所述滴管固定在该第二端部。更进一步地，所述固定支架包括底座及垂直安装在该底座上的固定杆，所述试管固定在该固定杆的远离所述底座的一端。更进一步地，所述试管与所述固定杆相接触的部位为固定部，该固定部为所述试管的中点。更进一步地，所述试管焊接在所述固定杆上。更进一步地，所述试管通过固定件固定在所述固定杆上。更进一步地，所述试管的材质为玻璃、金属或陶瓷。更进一步地，所述漏斗的材质为玻璃、金属或陶瓷。更进一步地，所述滴管的材质为玻璃、金属或陶瓷。更进一步地，所述试管的倾斜角度大于等于0度小于90度。本专利技术的手动涂胶协助装置包括试管、固定在该试管较高一端且与该试管相连通的漏斗、固定在该试管较低一端且与该试管相连通的滴管，在涂胶时，将胶体装入漏斗内，胶体在自身重力的作用下，通过试管流入滴管，再在自身重力作用下滴在基材表面，如此，涂胶的速率均衡，因此，基材表面胶体涂布均匀。此外，使用本专利技术的手动涂胶协助装置时，不需要实验者将手伸入机台内部进行涂胶，因此，不存在胶体溅出对实验者造成伤害的情况。附图说明图1为本专利技术较佳实施方式的手动涂胶协助装置的示意图。主要元件符号说明手动涂胶协助装置100固定支架10底座11固定杆12试管20第一端部21第二端部22漏斗30滴管40倾斜角度θ如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本专利技术。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。请参阅图1，本专利技术较佳实施方式提供一种手动涂胶协助装置100，用于光刻胶的涂布。该手动涂胶协助装置100包括固定支架10、倾斜固定在该固定支架10上的试管20、分别固定在该试管20两端且与该试管20相连通的漏斗30和滴管40。所述试管20具有一第一端部21及远离该第一端部21的第二端部22。该第一端部21的高度等于或高于该第二端部22的高度。所述漏斗30固定在该第一端部21，所述滴管40固定在该第二端部22。所述固定支架10包括底座11及垂直安装在该底座11上的固定杆12。所述试管20固定在该固定杆12的远离所述底座11的一端。所述试管20与所述固定杆12相接触的部位为固定部，该固定部可以为所述试管20的除第一端部21及第二端部22的任意位置。优选的，所述固定部为所述试管20的中点，换言之，该固定部距离所述第一端部21的距离及距离所述第二端部22的距离相同。在至少一实施例中，所述试管20直接焊接在所述固定杆12上。可以理解的，在其它实施例中，所述试管20还可以通过常规使用的固定件(图未示)固定在所述固定杆12上。所述试管20、漏斗30及滴管40的材质可以为玻璃、金属或陶瓷等材质。在至少一实施例中，所述试管20为玻璃试管，所述漏斗30为玻璃漏斗，所述滴管40为玻璃滴管。所述试管20的倾斜角度θ可以根据需要设定为大于等于0度小于90度的任意值。设定涂胶显影机(图未示)的托盘上的基材中心与机台外端的直线距离为L1，所述试管20的中点固定在所述固定杆12上，则试管20的长度L＝2L1/cosθ。所述固定杆12的高度依据固定部与固定座11的放置面的距离设定。在至少一实施例中，所述倾斜角度θ为37°(度)，所述基材中心与机台外端的直线距离为65cm，所述试管20的长度为81.25cm，所述固定杆12的长度为112cm。所述滴管40的滴头的开口大小可以根据涂布速率的需要选择，在涂布量大和/或涂布速率高时，可以选择使用滴头开口相对大的滴管，对应的，在涂布量小和/或涂布速率低时，则选择使用滴头开口相对小的滴管。所述手动涂胶协助装置100的工作时，将所述手动涂胶协助装置100放置在涂胶显影机的外部，将滴管40置于机台内的托盘上的基材中心的上方，向漏斗30内加入胶体，胶体在自身重力的作用下通过试管20进入滴管40，再经由滴管40滴在基材的表面。由于本专利技术的手动涂胶协助装置100在涂胶时，胶体装在漏斗30内，胶体在自身重力的作用下，通过试管20流入滴管40，再在自身重力作用下滴在基材表面，如此，涂胶的速率均衡，因此，基材表面胶体涂布均匀。此外，使用本专利技术的手动涂胶协助装置100时，不需要实验者将手伸入机台内部进行涂胶，因此，不存在胶体溅出对实验者造成伤害的情况。下面通过具体实施例和对比例来对本专利技术进行具体说明，实施例仅是本专利技术的优选实施方式，不是对本专利技术的限定。实施例本实施例使用本专利技术的手动涂胶协助装置100进行涂胶。本实施例的手动涂胶协助装置100的试管20的倾斜角度θ为37°，所述基材中心与机台外端的直线距离为65cm，所述试管20的长度为81.25cm，所述固定杆12的长度为112cm。胶膜的目标厚度为2000A，允许的波动值(膜厚range)为膜厚的1％左右。实验时仅需佩戴一般手套。最终所得胶膜的波动值为12.4A。对比例本对比例使用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种手动涂胶协助装置，其特征在于：该手动涂胶协助装置包括固定支架、倾斜固定在该固定支架上的试管、分别固定在该试管两端且与该试管相连通的漏斗和滴管。/n

【技术特征摘要】
1.一种手动涂胶协助装置，其特征在于：该手动涂胶协助装置包括固定支架、倾斜固定在该固定支架上的试管、分别固定在该试管两端且与该试管相连通的漏斗和滴管。


2.如权利要求1所述的手动涂胶协助装置，其特征在于：所述试管具有一第一端部及远离该第一端部的第二端部，该第一端部的高度等于或高于该第二端部的高度，所述漏斗固定在该第一端部，所述滴管固定在该第二端部。


3.如权利要求1所述的手动涂胶协助装置，其特征在于：所述固定支架包括底座及垂直安装在该底座上的固定杆，所述试管固定在该固定杆的远离所述底座的一端。


4.如权利要求3所述的手动涂胶协助装置，其特征在于：所述试管与所述固定杆相接触的部位为固定部，该固定部为所述试...

【专利技术属性】
技术研发人员：何学涛，顾大公，岳力挽，阴奔野，张宇，郑广磊，马潇，毛智彪，许从应，
申请(专利权)人：宁波南大光电材料有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33