一种中心进气的电弧离子镀装置制造方法及图纸

技术编号:28334676 阅读:37 留言:0更新日期:2021-05-04 13:22
本实用新型专利技术属于涉及电弧离子镀技术关键部件阴极弧源装备领域,具体涉及一种中心进气的电弧离子镀装置,包括阴极盖和阴极座,所述阴极盖和阴极座相连接形成阴极组件,所述阴极座远离阴极盖的一侧表面上设有靶材安装部,所述靶材安装部上连接有靶材,所述靶材中心处设有第一通孔,所述阴极座上设有连通第一通孔的第二通孔,所述阴极盖上设有连通第二通孔的第三通孔,所述第一通孔、第二通孔、第三通孔形成进气管路。本实用新型专利技术采用中心通气实现工艺气体从靶材中心进入,增大沉积化合物相的能量,优化涂层结构,降低弧光放电的熔池大小,抑制大颗粒的产生。

【技术实现步骤摘要】
一种中心进气的电弧离子镀装置
本技术属于涉及电弧离子镀技术关键部件阴极弧源装备领域,具体涉及一种中心进气的电弧离子镀装置。
技术介绍
电弧离子镀膜技术是当今一种先进的真空镀膜技术,由于其结构简单,离化率高,入射粒子能量高,绕射性好,可实现低温沉积等一系列优点,使电弧离子镀技术得到快速发展并获得广泛应用,展示出很大的经济效益和工业应用前景。但是大颗粒的喷射造成了薄膜表面污染,导致表面的粗糙度增大而降低薄膜的光泽,对装饰及抗磨应用带来不利影响,严重影响薄膜的质量,导致镀层附着力降低并出现剥落现象,镀层严重不均匀等。电弧离子镀高离化率,低温沉积的突出优点使其在工模具镀上展现出其他镀膜方式所不具备的优势,但是电弧放电的特点使得大颗粒的存在成为工模具镀的阻碍,也成为阻碍电弧离子镀技术更深入广泛应用的瓶颈问题。此外,现阶段的常规弧源并不能很好的运用到部分放电异常的材料上,例如:石墨作为一种常见的导电低摩擦材料,其是制备导电及具有一定摩擦磨损性、超硬类金刚石的基础材料,但是石墨靶材在弧光放电时,存在着弧斑聚集,运动速度低,刻蚀坑明显的缺点;氧本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种中心进气的电弧离子镀装置,包括阴极盖(1)和阴极座(2),所述阴极盖(1)和阴极座(2)相连接形成阴极组件,所述阴极座(2)远离阴极盖(1)的一侧表面上设有靶材安装部(201),所述靶材安装部(201)上连接有靶材,其特征在于:所述靶材中心处设有第一通孔(301),所述阴极座(2)上设有连通第一通孔(301)的第二通孔(202),所述阴极盖(1)上设有连通第二通孔(202)的第三通孔(101),所述第一通孔(301)、第二通孔(202)、第三通孔(101)相连接形成进气管路。/n

【技术特征摘要】
1.一种中心进气的电弧离子镀装置,包括阴极盖(1)和阴极座(2),所述阴极盖(1)和阴极座(2)相连接形成阴极组件,所述阴极座(2)远离阴极盖(1)的一侧表面上设有靶材安装部(201),所述靶材安装部(201)上连接有靶材,其特征在于:所述靶材中心处设有第一通孔(301),所述阴极座(2)上设有连通第一通孔(301)的第二通孔(202),所述阴极盖(1)上设有连通第二通孔(202)的第三通孔(101),所述第一通孔(301)、第二通孔(202)、第三通孔(101)相连接形成进气管路。


2.根据权利要求1所述的中心进气的电弧离子镀装置,其特征在于:所述阴极盖(1)和阴极座(2)之间具有冷却水腔(7);所述阴极座(2)接近阴极盖(1)的一侧设有凸起的中空的导气柱(203),第二通孔(202)的部分为导气柱(203)中空部分,所述阴极盖(1)对应所述导气柱(203)设有适配的内沉槽(105),所述导气柱(203)位于内沉槽(105)内且与内沉槽(105)密封配合。


3.根据权利要求2所述的中心进气的电弧离子镀装置,其特征在于:所述导气柱(203)的周向侧壁上设有第一环形密封槽(208),所述导气柱(203)抵接阴极盖(1)的一端端部设有第二环形密封槽(209),所述第一环形密封槽(208)和第二环形密封槽(209)内均设有密封件用于与内沉槽(105)内壁之间形成密封配合关系。


4.根据权利要求1-3任一项所述的中心进气的电弧离子镀装置,其特征在于:所述阴极座(2)远离靶材安装部(201)的一侧表面设有凹槽(204),所述凹槽(204)内设有凸起的隔板(205),所述隔板(205)抵接阴极盖(1),所述阴极盖(1)与凹槽(204)底部之间形成冷却水腔(7),所述隔板(205)使冷却水腔(7)形成若干个单独的空腔以及所述隔板(205)上设有通口(206)使若干个单独的空腔相连通形成一个螺旋水道;
所述阴极盖(1)上设有两个分别连通螺旋水道的两端的进...

【专利技术属性】
技术研发人员:郎文昌刘伟陈智杰黄志宏
申请(专利权)人:温州职业技术学院
类型:新型
国别省市:浙江;33

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