一种显示面板的制备方法技术

本发明专利技术实施例涉及半导体技术领域，公开了一种显示面板的制备方法。本发明专利技术中，显示面板的制备方法包括：提供透明基板；在透明基板上形成量子点光转换层，量子点光转换层具有朝向透明基板的第一面以及与第一面相对的第二面；沿自第二面指向第一面的方向，对量子点光转换层进行第一曝光处理；沿自第一面指向第二面的方向，对量子点光转换层进行第二曝光处理；其中，第一曝光处理的区域在透明基板上的正投影，与第二曝光处理的区域在透明基板上的正投影至少部分重叠；对第一曝光处理和第二曝光处理后的量子点光转换层进行显影处理，以形成图形化的量子点光转换层。本发明专利技术提供的显示面板的制备方法，能够提高量子点光转换层的制作精度不高，改善显示面板的显示效果。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板的制备方法
本专利技术实施例涉及半导体
，特别涉及一种显示面板的制备方法。
技术介绍
微发光二极管(Micro-LED或u-LED)由于使用无机发光材料，因此具有更好的材料稳定性、更长的寿命、更高的亮度等优点，应用前景非常巨大。目前，微发光二极管可以通过激发光源和量子点(quantumdot，QD)光转换层组成的发光子像素来实现彩色化。但此种显示面板的量子点光转换层的制作精度不高，导致显示面板的显示效果不佳。
技术实现思路
本专利技术实施方式的目的在于提供一种显示面板的制备方法，能够提高量子点光转换层的制作精度不高，改善显示面板的显示效果。为解决上述技术问题，本专利技术的实施方式提供了一种显示面板的制备方法，包括：提供透明基板；在所述透明基板上形成量子点光转换层，所述量子点光转换层具有朝向所述透明基板的第一面以及与所述第一面相对的第二面；沿自所述第二面指向所述第一面的方向，对所述量子点光转换层进行第一曝光处理；沿自所述第一面指向所述第二面的方向，对所述量子点光转换层进行第二曝光处理；其中，所述第一曝本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：/n提供透明基板；/n在所述透明基板上形成量子点光转换层，所述量子点光转换层具有朝向所述透明基板的第一面以及与所述第一面相对的第二面；/n沿自所述第二面指向所述第一面的方向，对所述量子点光转换层进行第一曝光处理；/n沿自所述第一面指向所述第二面的方向，对所述量子点光转换层进行第二曝光处理；/n其中，所述第一曝光处理的区域在所述透明基板上的正投影，与所述第二曝光处理的区域在所述透明基板上的正投影至少部分重叠；/n对所述第一曝光处理和所述第二曝光处理后的所述量子点光转换层进行显影处理，以形成图形化的量子点光转换层。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
提供透明基板；
在所述透明基板上形成量子点光转换层，所述量子点光转换层具有朝向所述透明基板的第一面以及与所述第一面相对的第二面；
沿自所述第二面指向所述第一面的方向，对所述量子点光转换层进行第一曝光处理；
沿自所述第一面指向所述第二面的方向，对所述量子点光转换层进行第二曝光处理；
其中，所述第一曝光处理的区域在所述透明基板上的正投影，与所述第二曝光处理的区域在所述透明基板上的正投影至少部分重叠；
对所述第一曝光处理和所述第二曝光处理后的所述量子点光转换层进行显影处理，以形成图形化的量子点光转换层。


2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述透明基板上形成量子点光转换层之前，还包括：
在所述透明基板上形成像素阻挡层，且所述像素阻挡层内具有若干凹槽，形成的所述量子点光转化层覆盖在所述像素阻挡层上且填充所述凹槽，所述第一曝光处理的区域在所述透明基板上的正投影，以及所述第二曝光处理的区域在所述透明基板上的正投影，均位于所述凹槽在所述透明基板上的正投影内；
所述对所述第一曝光处理和所述第二曝光处理后的所述量子点光转换层进行显影处理，以形成图形化的量子点光转换层，具体为：
去除未曝光部分的所述量子点光转换层，以形成图形化的量子点光转换层。


3.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述沿自所述第一面指向所述第二面的方向，对所述量子点光转换层进行第二曝光处理，具体包括：
利用曝光处理的光线照射整个所述透明基板远离所述量子点光转换层一侧。


4.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述沿自所述第一面指向所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王程功，顾杨，王涛，
申请(专利权)人：成都辰显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51