化学制品供应设备、用于从化学制品去除颗粒的方法、喷嘴单元以及基板处理设备技术

一种化学制品供应设备，包括：蒸发单元，其设置在化学制品供应源的下游以使向其中供应的化学制品蒸发；过滤器单元，其设置在所述蒸发单元的下游，其中当蒸发的化学制品通过所述过滤器单元时，所述过滤器单元过滤所述蒸发的化学制品中的杂质；液化单元，其设置在所述过滤器单元的下游以液化所述蒸发的化学制品；以及化学制品储罐，其设置在所述液化单元的下游以在其中储存所述液化的化学制品，其中在所述化学制品供应源与所述液化单元之间设置电极，其中所述电极与所述化学制品或所述化学制品中的颗粒发生电反应以改变所述化学制品或所述颗粒的电特性。

【技术实现步骤摘要】
化学制品供应设备、用于从化学制品去除颗粒的方法、喷嘴单元以及基板处理设备
技术介绍
本文所述的本专利技术构思的实施例涉及化学制品供应设备、用于从化学制品去除颗粒的方法、喷嘴单元以及基板处理设备。在一般的半导体器件制造工艺和平板显示器制造工艺中使用各种化学制品。例如，在清洁基板的过程中，诸如IPA的各种化学制品可以用于清洁基板，以去除残留在基板的表面上的异物。用于供应化学制品的设备可以包括中央化学制品供应系统(CCSS)。从CCSS供应的化学制品被转移到混合罐中，并且随后在其中使用。过滤器设置在将CCSS连接到混合罐的供应管线中，以去除与化学制品混合的颗粒。然而，因为过滤器价格昂贵，所以相关行业需要可以降低成本的装置。此外，因为化学制品供应设备不是循环结构，所以无论过滤器存在或不存在，阳离子、阴离子、金属颗粒和非极性颗粒都很有可能积聚在混合罐中。酸性溶液用于去除这些颗粒，但是没有方法以高纯度纯化化学制品。
技术实现思路
本专利技术构思的实施例提供了能够有效地处理基板的化学制品供应设备、用于从化学制品去除颗粒的方法、喷嘴单元以本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种化学制品供应设备，包括：/n蒸发单元，其设置在化学制品供应源的下游以使向其中供应的化学制品蒸发；/n过滤器单元，其设置在所述蒸发单元的下游，其中当蒸发的化学制品通过所述过滤器单元时，所述过滤器单元过滤所述蒸发的化学制品中的杂质；/n液化单元，其设置在所述过滤器单元的下游以液化所述蒸发的化学制品；以及/n化学制品储罐，其设置在所述液化单元的下游以在其中储存液化的化学制品，/n其中在所述化学制品供应源与所述液化单元之间设置电极，其中所述电极与所述化学制品或所述化学制品中的颗粒发生电反应以改变所述化学制品或所述颗粒的电特性。/n

【技术特征摘要】
20191031 KR 10-2019-01370651.一种化学制品供应设备，包括：
蒸发单元，其设置在化学制品供应源的下游以使向其中供应的化学制品蒸发；
过滤器单元，其设置在所述蒸发单元的下游，其中当蒸发的化学制品通过所述过滤器单元时，所述过滤器单元过滤所述蒸发的化学制品中的杂质；
液化单元，其设置在所述过滤器单元的下游以液化所述蒸发的化学制品；以及
化学制品储罐，其设置在所述液化单元的下游以在其中储存液化的化学制品，
其中在所述化学制品供应源与所述液化单元之间设置电极，其中所述电极与所述化学制品或所述化学制品中的颗粒发生电反应以改变所述化学制品或所述颗粒的电特性。


2.根据权利要求1所述的化学制品供应设备，其中所述电极与所述化学制品或所述颗粒之间的所述电反应包括所述颗粒的还原反应。


3.根据权利要求1所述的化学制品供应设备，其中所述电极与所述化学制品或所述颗粒之间的所述电反应包括所述颗粒的极化。


4.根据权利要求3所述的化学制品供应设备，其中所述颗粒包括非极性颗粒。


5.根据权利要求1所述的化学制品供应设备，其中所述电极包括在所述过滤器单元中。


6.根据权利要求1所述的化学制品供应设备，其中所述电极包括在所述液化单元中。


7.根据权利要求1所述的化学制品供应设备，其中所述电极设置在所述过滤器单元的前端处。


8.根据权利要求1所述的化学制品供应设备，其中所述蒸发单元包括第一蒸发单元和第二蒸发单元，其中所述第一蒸发单元和所述第二蒸发单元中的每一个包括所述电极。


9.根据权利要求1所述的化学制品供应设备，其中所述颗粒包括金属颗粒。


10.一种用于去除包含在化学制品中的颗粒的方法，所述方法包括：
改变包含在所述化学制品中的所述颗粒的电特性；以及
收集其电特性已被改变的所述颗粒。


11.根据权利要求10所述的方法，其中改变包含在所述化学制品中的所述颗粒的所述电特性包括还原包含在所述化学制品中的所述颗粒。


12.根据权利要求11所述的方法，其中所述颗粒包括金属颗粒。

【专利技术属性】
技术研发人员：洪榕焄，尹堵铉，金俙焕，李知泳，金荣洙，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR