一种冷喷涂制造旋转靶材的工艺及其生产设备制造技术

本发明专利技术公开了一种冷喷涂制造旋转靶材的工艺及其生产设备，工艺包括如下步骤：1)对基体依次进行超声波清洗、烘干、喷砂处理；2)对基体所在区域进行抽真空操作；3)将ITO粉末导入喷枪内；同时在喷枪内导入惰性气体；4)驱动控制基体旋转，并控制喷枪沿基体轴向方向运动，使得ITO靶材呈成型。通过上述步骤制备的ITO靶材，由于喷涂时始终处于氦气保护氛围中，降低了氧含量和其他杂质的混入，此外，靶材在冷喷涂时，颗粒高速撞击基体充分变形形成涂层，涂层组织致密，靶材的相对密度可以达到99.9％以上，靶材内部晶粒组织均匀细小，无缺陷组织，同时沉积效率高，降低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】
一种冷喷涂制造旋转靶材的工艺及其生产设备
本专利技术涉及旋转靶材加工
，特别是属于一种冷喷涂制造旋转靶材的工艺及其生产设备。
技术介绍
旋转靶材是磁控的靶材。靶材做成圆筒型的，里面装有静止不动的磁体，以慢速转动，其优点是利用率高达70％以上，缺点是造价高。用于太阳能电池，建筑玻璃，汽车玻璃，半导体，平板电视等。现有的旋转靶材大多是通过冷喷涂的方式进行加工，其主要操作是通过高压气体将靶材原料喷涂至基体表面，同时，基体自身匀速转动，从而实现靶材的均匀铺设，直至将靶材原料喷涂至筒状。现有靶材在加工过程中，基体与靶材的连接不紧密，常易出现加工后脱离的情况，不便于使用。
技术实现思路
本专利技术的目的在于：提供一种能够提高连接紧密型的冷喷涂制造旋转靶材的工艺及其生产设备。本专利技术采用的技术方案如下：一种冷喷涂制造旋转靶材的工艺，包括如下步骤：步骤一：选用无磁金属管件为基体，对基体依次进行超声波清洗、烘干、喷砂处理；步骤二：将基体固定在机架上，并对基体所在区域进行抽真空操作；...

【技术保护点】
1.一种冷喷涂制造旋转靶材的工艺,包括如下步骤：/n步骤一：选用无磁金属管件为基体，对基体依次进行超声波清洗、烘干、喷砂处理；/n步骤二：将基体固定在机架上，并对基体所在区域进行抽真空操作；/n步骤三：选用平均粒度100-300目的ITO粉末，将其导入喷枪内；同时在喷枪内导入惰性气体；/n步骤四：驱动控制基体旋转，并控制喷枪沿基体轴向方向运动，使得ITO靶材呈成型；/n步骤五：将喷涂好的靶材机加工成所需尺寸与精度，得到成品。/n

【技术特征摘要】
1.一种冷喷涂制造旋转靶材的工艺,包括如下步骤：
步骤一：选用无磁金属管件为基体，对基体依次进行超声波清洗、烘干、喷砂处理；
步骤二：将基体固定在机架上，并对基体所在区域进行抽真空操作；
步骤三：选用平均粒度100-300目的ITO粉末，将其导入喷枪内；同时在喷枪内导入惰性气体；
步骤四：驱动控制基体旋转，并控制喷枪沿基体轴向方向运动，使得ITO靶材呈成型；
步骤五：将喷涂好的靶材机加工成所需尺寸与精度，得到成品。


2.一种冷喷涂制造旋转靶材生产设备，包括加工室(1)，其特征在于，所述加工室(1)内设置有喷枪(2)，加工室(1)内还设置有用于控制所述喷枪(2)的水平偏移装置，其中：
所述喷枪(2)上还设置有通气口(3)和通料口(4)，所述喷枪(2)底端设置有与所述通气口(3)以及通料口(4)连通设置的喷涂头(5)；
所述加工室(1)内还设置有基体(6)，所述加工室(1)的侧壁上设置有用于固定所述基体(6)的夹固装置；
所述加工室(1)底端还设置有换料室(7)，所述换料室(7)顶端侧壁上设置有封口装置；
所述换料室(7)底端侧壁上设置有换料装置。


3.根据权利要求2所述的一种冷喷涂制造旋转靶材生产设备，其特征在于，所述加工室(1)的侧壁上设置有与所述加工室(1)连通设置的真空泵(8)，所述加工室(1)内还设置有压力传感器(9)。


4.根据权利要求2所述的一种冷喷涂制造旋转靶材生产设备，其特征在于，所述水平偏移装置包括转动设置在所述加工室(1)内的偏移螺杆(10)，所述加工室(1)的侧壁上还设置有与所述偏移螺杆(10)传动连接的偏移电机(11)，所述喷枪(2)上设置有与所述偏移螺杆(10)配合的螺纹通孔。


5.根据权利要求4所述的一种冷喷涂制造旋转靶材生产设备，其特征在于，所述加工室(1)内还设置有与所述偏移螺杆(10)平行的定位杆(12)，所述定位杆(12)穿过所述喷枪(2)设置。


6.根据权利要求5所述的一种冷喷涂制造旋转靶材生产设备，其特征在于，所述加工室(1)的侧壁上设置有进气口(13)和进靶口(14)，所述进气口(13)与通气口(3)，进靶口(14)与...

【专利技术属性】
技术研发人员：卫义成，史伟，欧阳光华，石亮，刘城磊，
申请(专利权)人：湖南柯盛新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南;43