一种无磷双组份清洗剂及其制备方法和应用技术

技术编号:28313807 阅读:29 留言:0更新日期:2021-05-04 12:52
本发明专利技术提供了一种无磷双组份清洗剂及其制备方法和应用,包括A组分和B组分;其中,以所述A组分总质量为100%计,所述A组分包括如下成分:氢氧化钾1‑3%;表面活性剂2‑5%;助溶剂2‑5%;有机碱1‑3%;葡萄糖酸钠0.5‑1%;氨基多羧酸类螯合剂0.5‑1%;余量为水;以所述B组分总质量为100%计,所述B组分包括如下成分:氢氧化钾3‑20%;助溶剂1‑3%;余量为水。本发明专利技术提供的双组份清洗剂具有与市售清洗剂相当的清洗能力,并且对金属杂质的去除效果较佳。

【技术实现步骤摘要】
一种无磷双组份清洗剂及其制备方法和应用
本专利技术属于清洗剂领域,涉及一种无磷双组份清洗剂及其制备方法和应用,尤其涉及一种无磷双组份硅片清洗剂及其制备方法和应用。
技术介绍
金刚线切割晶体硅是近年发展起来的新型硅片加工工艺。相比砂线切割具有显著的成本优势,主要表现在切割产能高、环境污染小、锯缝硅料损失少等方面,目前已发展成为主流的切片工艺。电池硅片在使用前外观应呈银灰色,不允许存在夹层、发黑、氧化、指纹等痕迹或杂质,因此,在高效单晶硅太阳能电池硅片制备工艺中,要想获得高的光电转化效率,必须要有表面清洁的硅晶片,表面金属污染必须降低到有害值以下。现阶段电池硅片加工都采用多线切割机,多线切割机采用钢丝带动碳化硅磨料进行切割电池硅片,而金刚线是通过电镀工艺使用金属镍,将金刚石固结在母线钢丝上制备得到,切割过程中镀层会有一定程度的磨损和剥落,镀层中的金属镍,母线钢丝上的铜、铁等金属离子会残留在硅片上,会造成电池硅片表面的有机物沾污、粒沾污以及金属离子沾污,这些杂质的污染特别是金属离子污染物如Cu、Fe、Na等,很容易从电池硅片表面扩散到本文档来自技高网...

【技术保护点】
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【技术特征摘要】
1.一种无磷双组份清洗剂,其特征在于,包括A组分和B组分;
其中,以所述A组分总质量为100%计,所述A组分包括如下成分:



以所述B组分总质量为100%计,所述B组分包括如下成分:
氢氧化钾3-20%;
助溶剂1-3%;
余量为水。


2.根据权利要求1所述的无磷双组份清洗剂,其特征在于,以所述A组分总质量为100%计,所述A组分还包括五水偏硅酸钠0.2-0.5%。


3.根据权利要求1或2所述的无磷双组份清洗剂,其特征在于,以所述B组分总质量为100%计,所述B组分还包括柠檬酸钠和/或醋酸钠0.2-0.5%。


4.根据权利要求1-3中的任一项所述的无磷双组份清洗剂,其特征在于,所述氨基多羧酸类螯合剂选自亚氨基琥珀酸钠盐、乙二胺四乙酸、二乙基三胺五乙酸或氮川三乙酸中的任意一种或至少两种的组合。


5.根据权利要求1-4中的任一项所述的无磷双组份清洗剂,其特征在于,所述表面活性剂选自脂肪醇聚醚,为壬基酚聚氧乙烯醚和/或脂肪醇聚氧乙烯醚;
优选地,所述脂肪...

【专利技术属性】
技术研发人员:王珊珊董保东李飞龙熊震
申请(专利权)人:洛阳阿特斯光伏科技有限公司
类型:发明
国别省市:河南;41

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