酸性清洗剂及其制备方法与应用技术

本发明专利技术涉及一种酸性清洗剂及其制备方法与应用。其中，以质量百分数计，该酸性清洗剂包括：5％～20％有机酸、3％～10％无机酸、5％～30％还原剂、1％～8％pH缓冲剂、1％～8％表面活性剂、1％～5％螯合剂和余量水。采用特定配比的有机酸、无机酸和pH缓冲剂配合，以提供特定的酸性清洗环境，在此酸性环境中，抛光粉表现出强氧化性；同时通过添加特定配比的还原剂，使抛光粉在特定的酸性环境中与还原剂快速发生化学反应，并配合特定配比的螯合剂及表面活性剂的润湿、分散作用，通过各特定配比的组分协调配合，从而能非常迅速处理掉玻璃表面抛光粉，且不对玻璃产生损伤。

【技术实现步骤摘要】
酸性清洗剂及其制备方法与应用
本专利技术涉及玻璃清洗领域，特别是涉及一种酸性清洗剂及其制备方法与应用。
技术介绍
在玻璃元件的生产过程中，为了使玻璃表面的粗糙度降低，需要对玻璃的表面进行抛光处理。在抛光过程中通常会利用抛光粉对玻璃的表面进行抛光加工，在抛光之后会有一部分抛光粉残留在玻璃表面。一方面，残留在玻璃元件表面的抛光粉微粒会对玻璃元件表面产生腐蚀，例如，精密抛光后的光学玻璃元件上残留的抛光粉微粒是影响元件抗激光辐照损伤能力的关键因素之一；另一方面，当将玻璃元件组装到电子产品上之后，玻璃元件表面残留的抛光粉会严重影响电子产品的稳定性和可靠性，甚至导致电子产品失效。针对玻璃上残留的抛光粉，传统技术中一般采用以强碱为主的碱性清洗剂或以酸为主的酸性清洗剂；两者均是以酸或碱提供清洗剂所需的pH值体系，并通过其他助剂的配合以达到清洗抛光粉的目的。然而，电子玻璃元件以高铝硅酸盐为主，其主要成分是二氧化硅，传统的碱性清洗剂因碱性太强会导致玻璃被腐蚀，从而出现朦划伤、发蓝等不良现象；而传统的酸性清洗剂通过在酸性体系中添加表面活性剂及分散剂等助剂，以本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种酸性清洗剂，其特征在于，以质量百分数计，所述酸性清洗剂的组分包括：5％～20％有机酸、3％～10％无机酸、5％～30％还原剂、1％～8％pH缓冲剂、1％～8％表面活性剂、1％～5％螯合剂和余量水。/n

【技术特征摘要】
1.一种酸性清洗剂，其特征在于，以质量百分数计，所述酸性清洗剂的组分包括：5％～20％有机酸、3％～10％无机酸、5％～30％还原剂、1％～8％pH缓冲剂、1％～8％表面活性剂、1％～5％螯合剂和余量水。


2.如权利要求1所述的酸性清洗剂，其特征在于，所述还原剂的质量百分数为15％～30％。


3.如权利要求2所述的酸性清洗剂，其特征在于，以质量百分数计，所述酸性清洗剂的组分包括：10％～15有机酸、3％～5％无机酸、15％～30％还原剂、3％～5％pH缓冲剂、2％～5％表面活性剂、2％～4％螯合剂和余量水。


4.如权利要求1～3任一项所述的酸性清洗剂，其特征在于，所述酸性清洗剂的pH值为0.5～4。


5.如权利要求1～3任一项所述的酸性清洗剂，其特征在于，所述还原剂选自双氧水、硫酸亚铁、硫脲和抗坏血酸中的一种或者几种。


6.如权利要求1～3任一项所述的酸性清...

【专利技术属性】
技术研发人员：王世军，彭晓林，陈建章，丁雄风，
申请(专利权)人：万津实业赤壁有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42