【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】流体试样的内部构造观察装置及内部构造分析系统、流体试样的内部构造观察方法及内部构造分析方法、以及陶瓷的制造方法
本专利技术涉及一种含有折射率不同的成分的流体试样的内部构造观察装置及内部构造分析系统、流体试样的内部构造观察方法及内部构造分析方法、以及陶瓷的制造方法。本申请主张2019年2月28日在日本申请的日本专利申请号特愿2019-036998的优先权,通过参照该申请将该申请引用到本申请中。
技术介绍
以往,在观察陶瓷的内部构造时一直使用利用光学显微镜的方法(例如参照非专利文献1)、利用X射线CT的方法(例如参照非专利文献2、3)等。已知陶瓷的特性取决于陶瓷的内部构造。因而,如果能够准确地掌握从原料起至作为最终产品的陶瓷为止的陶瓷工艺链中的构造的形成过程并且控制该构造,则能够制造出具有优异的功能和高可靠性的陶瓷。另外,如果能够有效利用这样的构造形成过程的观察方法并且实时地评价在制造工艺中时刻变化的浆料、成形体、烧结体等的构造,则能够不用依赖视觉或专门工艺地在比较靠前的工序中探测形成不均匀的构造的原因并且消除该原因。并且,如果能够以高速、高分辨率且在大范围内廉价地进行最终产品的内部构造的全数检查,则能够实现产品的可靠性的提高以及检查所需的成本的降低。像这样动态且三维地观察陶瓷的制造工艺中的构造形成过程并科学地理解该过程,对于提高陶瓷的成品率、可靠性极为重要。另一方面,在陶瓷的制造工艺中的各单位操作中存在大量的控制因素。例如,在陶瓷细颗粒的分散中,分散剂的种类、添加量相当于 ...
【技术保护点】
1.一种流体试样的内部构造观察装置,其特征在于,具备:/n流变仪,其评价含有折射率不同的成分的流体试样的流变特性;以及/n光学相干断层图像生成部,其从所述流变仪的外部向通过该流变仪来评价流变特性的评价过程中的所述流体试样照射红外线区域的光来进行光学相干断层摄影,来生成光学相干断层图像,/n其中,作为使从所述光学相干断层图像生成部向所述流体试样照射的红外线区域的光的光轴相对于所述流变仪中的所述流体试样的观察面的法线方向倾斜1~10°的角度范围内的规定角度来通过所述光学相干断层图像生成部生成的光学相干断层图像,能够观察通过所述流变仪来评价流变特性的评价过程中的流体试样内部的构造。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20190228 JP 2019-0369981.一种流体试样的内部构造观察装置,其特征在于,具备:
流变仪,其评价含有折射率不同的成分的流体试样的流变特性;以及
光学相干断层图像生成部,其从所述流变仪的外部向通过该流变仪来评价流变特性的评价过程中的所述流体试样照射红外线区域的光来进行光学相干断层摄影,来生成光学相干断层图像,
其中,作为使从所述光学相干断层图像生成部向所述流体试样照射的红外线区域的光的光轴相对于所述流变仪中的所述流体试样的观察面的法线方向倾斜1~10°的角度范围内的规定角度来通过所述光学相干断层图像生成部生成的光学相干断层图像,能够观察通过所述流变仪来评价流变特性的评价过程中的流体试样内部的构造。
2.根据权利要求1所述的流体试样的内部构造观察装置,其特征在于,
所述流变仪是锥板型流变仪,
将从所述光学相干断层图像生成部向所述流体试样照射的红外线区域的光的光轴将所述流变仪的旋转轴的轴向设为所述流体试样的观察面的法线方向。
3.根据权利要求1所述的流体试样的内部构造观察装置,其特征在于,
所述流变仪是同轴双层圆筒型流变仪,
将从所述光学相干断层图像生成部向所述流体试样照射的红外线区域的光的光轴将与所述流变仪的旋转轴的轴向正交的方向设为所述流体试样的观察面的法线方向。
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的流体试样的内部构造观察装置,其特征在于,
所述流体试样为包含陶瓷的细颗粒的浆料。
5.一种流体试样的内部构造分析系统,其特征在于,具备:
流变仪,其评价含有折射率不同的成分的流体试样的流变特性;
光学相干断层图像生成部,其从所述流变仪的外部向通过该流变仪来评价流变特性的评价过程中的所述流体试样照射红外线区域的光来进行光学相干断层摄影,来生成光学相干断层图像;以及
图像处理装置,其进行使通过所述相干断层图像生成装置生成的光学相干断层图像清晰化的图像处理,
其中,使从所述光学相干断层图像生成部向所述流体试样照射的红外线区域的光的光轴相对于所述流体试样的观察面的相应法线方向倾斜1~10°的角度范围内的规定角度来得到通过所述光学相干断层图像生成部生成的光学相干断层图像,通过所述图像处理装置进行清晰化的图像处理,从而能够对通过所述流变仪来评价流变特性的评价过程中的流体试样内部的构造进行分析。
6.根据权利要求5所述的流体试样的内部构造分析系统,其特征在于,
所述流变仪为锥板型流变仪,
将所...
【专利技术属性】
技术研发人员:高桥拓实,多多见纯一,鹰羽纮希,
申请(专利权)人:地方独立行政法人神奈川县立产业技术综合研究所,国立大学法人横浜国立大学,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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