一种用于多晶硅还原炉的清洗系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种用于多晶硅还原炉的清洗系统，包括两种清洗流程，一种包括连接有脱盐水单元、高纯水单元和热风单元的清洗底座，取消了碱液喷射清洗，避免了碱液循环使用过程中带来的杂质污染问题；另一种包括连接有脱盐水单元、碱液单元、高纯水单元和热风单元的清洗底座，通过对碱液进行过滤和排气处理，有效解决了碱液循环过程中的杂质污染，结合现有脱盐水预处理、高纯水喷射清洗以及热风烘干的工艺流程，能显著提高现有还原炉清洗效率，降低设备损耗。

【技术实现步骤摘要】
一种用于多晶硅还原炉的清洗系统
本技术属于工业设备清洗领域，具体的说，是一种用于多晶硅还原炉的清洗系统。
技术介绍
还原炉是多晶硅生产的主要设备，采用炉筒和底盘两大部分组成。在多晶硅的生产过程中，为满足多晶硅提炼和生产的纯度与洁净度，需要对多晶硅还原炉内的残留物以及污垢进行清理，任何颗粒性杂质、油脂物质余留在炉内，都会对产品质量造成影响。我们发现，在还原炉内的残存物质主要成分是硅，其余还包括二氧化硅、水合物等杂质，均可以与NaOH进行反应而除去。例如：张才刚在“多晶硅还原炉内主要残留物及清理工艺”《化工管理》，2018年9月，196-197，中提到，钟罩清洁流程：第一步，使用高压水枪将碱液喷洒，对其内部表层实施清理，第二步，使用脱水盐，展开喷洒清洁，第三步，使用热氮，将其吹干。同样的，专利文献CN202185421U（一种多晶硅还原炉及氢化炉钟罩自动清洗烘干系统，2012.04.11）还记载了一种可以全面对钟罩进行喷洒的清洗系统，其工作原理是：以高压水动力装置产生的热水射流为动力，以水力自驱动三维的洗罐器为执行喷头，在一定的工作时间形成本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于多晶硅还原炉的清洗系统，其特征在于：包括连接有脱盐水单元、高纯水单元和热风单元的清洗底座（1），脱盐水单元和高纯水单元并联设置，均设有切断阀，清洗底座（1）上设有作用于炉筒（2）的风管（3）和喷射器（4），脱盐水单元和高纯水单元均连通喷射器（4），热风单元包括加热炉（5），加热炉（5）上设空气进口（6）和热风出口（7），热风出口（7）连通风管（3）。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于多晶硅还原炉的清洗系统，其特征在于：包括连接有脱盐水单元、高纯水单元和热风单元的清洗底座（1），脱盐水单元和高纯水单元并联设置，均设有切断阀，清洗底座（1）上设有作用于炉筒（2）的风管（3）和喷射器（4），脱盐水单元和高纯水单元均连通喷射器（4），热风单元包括加热炉（5），加热炉（5）上设空气进口（6）和热风出口（7），热风出口（7）连通风管（3）。


2.根据权利要求1所述的一种用于多晶硅还原炉的清洗系统，其特征在于：所述清洗底座（1）上设连通室外的排气通道（8），清洗底座（1）的底部设有连通系统废水池（9）的废液收集管（10）。


3.根据权利要求2所述的一种用于多晶硅还原炉的清洗系统，其特征在于：所述排气通道（8）上设水浴喷淋装置（11），水浴喷淋装置（11）的排液口连通系统废水池（9）。


4.一种用于多晶硅还原炉的清洗系统，其特征在于：包括连接有脱盐水单元、碱液单元、高纯水单元和热风单元的清洗底座（1），脱盐水单元、碱液单元和高纯水单元并联设置，均设有切断阀，清洗底座（1）上设有作用于炉筒（2）的风管（3）和喷射器（4），脱盐水单元、碱液单元和高纯水单元均连通喷射器（4），热风单元包括加热炉（5），加热炉（5）上设空气进口（6）和热风出口（7），热风出...

【专利技术属性】
技术研发人员：周鹏，李春洋，蔡勇，陈绍林，
申请(专利权)人：四川永祥新能源有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51