下载一种用于多晶硅还原炉的清洗系统的技术资料

文档序号:28262440

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本实用新型公开了一种用于多晶硅还原炉的清洗系统,包括两种清洗流程,一种包括连接有脱盐水单元、高纯水单元和热风单元的清洗底座,取消了碱液喷射清洗,避免了碱液循环使用过程中带来的杂质污染问题;另一种包括连接有脱盐水单元、碱液单元、高纯水单元和热...
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