一种微阵列底板及其制备方法技术

本申请提供了一种微阵列底板及其制备方法，该方法包括：通过光刻法在器皿上制备微阵列区域，所述微阵列区域中包括多个微坑；对所述微阵列区域进行固化，形成模具，所述模具为带有凸起的微阵列；通过所述模具制作亲疏水相间的第一微阵列底板，所述第一微阵列底板中包括亲水区和疏水区，所述亲水区中包括羟基。上述技术方案可以减小亲水点阵的直径，提高合成密度，支撑较大数量寡核苷酸的合成。支撑较大数量寡核苷酸的合成。支撑较大数量寡核苷酸的合成。

【技术实现步骤摘要】
一种微阵列底板及其制备方法


[0001]本申请涉及化学领域，并且更具体地，涉及一种微阵列底板及其制备方法。

技术介绍

[0002]寡核苷酸是近年来研究和了解新基因功能的重要载体物质，实现高通量的寡核苷酸合成具有重要意义及良好的市场前景。制作亲疏水相间的微阵列底板，可以将每条寡核苷酸的合成固定到亲水点上，高效避免各个不同合成点的交叉污染，并且可根据亲水合成点的大小来控制反应的体系，可以很大程度上降低合成的成本，提高寡核苷酸的合成通量。
[0003]现有技术中采用丝网印刷技术制备亲疏水微阵列底板，由于丝网印刷技术制备的亲水点阵直径较大，造成寡核苷酸合成密度较低，无法支撑较大数量寡核苷酸的合成。
[0004]因此，如何降低亲疏水微阵列底板中亲水点阵的直径大小，提高寡核苷酸合成密度称为当前亟需要解决的问题。

技术实现思路

[0005]本申请提供一种微阵列底板及制备方法，能够减小亲水点阵的直径，提高合成密度，支撑较大数量寡核苷酸的合成。
[0006]第一方面，提供了一种微阵列底板的制备方法，包括：通过光刻法在器皿上制备微阵列区域，所述微阵列区域中包括多个微坑；对所述微阵列区域进行固化，形成模具，所述模具为带有凸起的微阵列；通过所述模具制作亲疏水相间的第一微阵列底板，所述第一微阵列底板中包括亲水区和疏水区，所述亲水区中包括羟基。
[0007]上述技术方案中，可以通过光刻法得到的模具来控制微阵列底板中亲水点阵的直径大小，可将亲水点阵的直径大小降低为微米级别，从而提高合成密度，支撑较大数量寡核苷酸的合成。
[0008]在一种可能的实现方式中，所述第一微阵列底板还包括疏水区，对所述底板表面进行疏水处理，使得所述底板表面具有疏水区；对所述疏水层表面进行亲水处理，使得所述疏水层的表面具有亲水区；将模具覆盖在所述底板的亲水区的表面，所述模具为带有凸起的微阵列，所述模具的凸起与所述亲水区的部分接触；将所述模具从所述亲水区剥离，使得所述模具的凸起接触的部分暴露出所述疏水区，形成所述第一微阵列底板。
[0009]在另一种可能的实现方式中，所述第一微阵列底板还包括疏水区，将模具与所述底板接触，所述模具为带有凸起的微阵列，所述模具的凸起为亲水区，所述模具的凸起与所述底板接触；对所述底板中未与所述模具的凸起接触的部分进行疏水处理；将所述模具从所述底板剥离，形成所述第一微阵列底板，其中，所述第一微阵列底板上与所述模具的凸起接触的部分为所述亲水区，所述第一微阵列底板上未与所述模具的凸起接触的部分为所述疏水区。
[0010]在另一种可能的实现方式中，所述模具为聚二甲基硅氧烷PDMS模具。
[0011]在另一种可能的实现方式中，所述方法还包括：通过光刻法在器皿上制备微阵列
区域；将聚二甲基硅氧烷PDMS倒在所述微阵列区域上进行固化；将固化的所述PDMS从所述器皿上剥离，得到所述PDMS模具。
[0012]上述技术方案中，PDMS是一种疏水类的有机硅聚合物，其分子量极高具有弹性，通过PDMS制作的PDMS模具可以与底板之间的粘粘性较好，较容易制作亲疏水相间的微阵列底板。
[0013]在另一种可能的实现方式中，对所述模具进行等离子处理，使得所述模具的凸起为亲水区。
[0014]上述技术方案中，等离子体处理技术是采用等离子表面处理机对模具凸起的表面进行一定的物理化学改性，提高表面附着力，使它能和普通纸张一样容易粘结。
[0015]在另一种可能的实现方式中，将所述底板和疏水剂接触，并进行蒸镀处理，使得所述底板表面具有疏水区。
[0016]上述技术方案中，蒸镀，是使用较早、用途较广泛的气相沉积技术，具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点。
[0017]在另一种可能的实现方式中，通过多巴胺溶液对所述疏水层表面进行处理，使得所述疏水层表面具有亲水区。
[0018]上述技术方案中，多巴胺溶液稳定性好，水分散性强，生物相容性优秀。常温下即可生成。多巴胺溶液含有大量的羟基基团，较容易形成包括羟基基团的亲水区。
[0019]第二方面，提供了一种亲疏水相间的微阵列底板，所述微阵列底板包括：亲水区和所述亲水区相间的疏水区，其中，所述亲水区中包括多个亲水点，所述亲水点为微米级别的亲水点。
附图说明
[0020]图1是本申请实施例提供的一种微阵列底板的制备方法的示意性流程图。
[0021]图2是本申请提供的一种制备模具的方法的示意性流程图。
[0022]图3是本申请提供的一种制备亲水点大小可控的亲疏水相间的微阵列底板的方法的示意性流程图。
[0023]图4是本申请提供的一种亲疏水相间的微阵列底板的示意性结构图。
[0024]图5是本申请提供的另一种制备亲水点大小可控的亲疏水相间的微阵列底板的方法的示意性流程图。
[0025]图6是本申请提供的另一种亲疏水相间的微阵列底板的示意性结构图。
具体实施方式
[0026]下面将结合附图，对本申请中的技术方案进行描述。
[0027]脱氧核糖核酸(deoxyribonucleic acid，DNA)是一种生物大分子，可组成遗传指令，引导生物发育与生命机能运作。寡核苷酸是一段较短的DNA链，寡核苷酸是近年来研究和了解新基因功能的重要载体物质，寡核苷酸的合成技术已成为分子生物学研究必不可少的手段。合成的产物可作为探针、引物、连接子和接头等用途，或用于制造基因芯片。基因芯片现已经成为一种有效的基础及临床医学研究办法，可以支持一次性检测几万种基因表达水平或者百万个DNA遗传标记，为科研和临床工作者提供了强大的技术平台。广泛用于药物
筛选，药物代谢与毒理，细菌基因组研究以及植物基因调控等各个方向。因此，实现高通量的寡核苷酸合成具有重要意义及良好的市场前景。
[0028]寡核苷酸可以在微阵列底板的亲水区合成。微阵列底板，也可以称为微阵列芯片，是一种采用光导原位合成或微量点样等方法，将大量生物大分子比如核酸片段、多肽分子甚至组织切片、细胞等生物样品有序地固化于支持物(如玻片、尼龙膜等载体)的表面，组成密集二维分子排列，然后与已标记的待测生物样品中靶分子反应，通过特定的仪器，比如激光共聚焦扫描仪或电荷偶联摄影像机对反应信号的强度进行快速、并行、高效地检测分析，从而判断样品中靶分子的数量。
[0029]本申请实施例提供的微阵列底板，可以通过光刻法得到的模具来控制微阵列底板中亲水点阵的直径大小，可将亲水点阵的直径大小降低为微米级别，从而提高合成密度，支撑较大数量寡核苷酸的合成。下面结合图1，对申请实施例中微阵列底板的制备方法进行详细描述。
[0030]图1是本申请实施例提供的一种微阵列底板的制备方法的示意性流程图。图1所示的方法可以包括步骤110-130，下面分别对步骤110-130进行详细描述。
[0031]步骤110：通过光刻法在器皿上制备微阵列区域，所述微阵列区域中包括多个微坑。
[0032]光刻技术本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微阵列底板的制备方法，其特征在于，包括：通过光刻法在器皿上制备微阵列区域，所述微阵列区域中包括多个微坑；对所述微阵列区域进行固化，形成模具，所述模具为带有凸起的微阵列；通过所述模具制作亲疏水相间的第一微阵列底板，所述第一微阵列底板中包括亲水区和疏水区，所述亲水区中包括羟基。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过所述模具制作亲疏水相间的第一微阵列底板，包括：将模具与所述底板接触，所述模具为带有凸起的微阵列，所述模具的凸起为亲水区，所述模具的凸起与所述底板接触；对所述底板中未与所述模具的凸起接触的部分进行疏水处理；将所述模具从所述底板剥离，形成所述第一微阵列底板，其中，所述第一微阵列底板上与所述模具的凸起接触的部分为所述亲水区，所述第一微阵列底板上未与所述模具的凸起接触的部分为所述疏水区。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过所述模具制作亲疏水相间的第一微阵列底板，包括：对所述底板表面进行疏水处理，使得所述底板表面具有所述疏水区；对所述疏水区的表面进行亲水处理，使得所述疏水区的表面具有所述亲水区；将所述模具覆盖在所述亲水区的表面，所述模具为带有凸起的微阵列，所述模...

【专利技术属性】
技术研发人员：商逸璇，万江雪，徐君，赵远锦，
申请(专利权)人：华为技术有限公司，
类型：发明
国别省市：