用于气体放电台的本体的量测制造技术

一种光源装置包括气体放电台，其包括：三维本体，该三维本体限定空腔，该空腔被配置为与能量源交互，该本体包括至少两个端口，该至少两个端口可以透射波长在紫外线范围内的光束；传感器系统，其包括多个传感器，每个传感器被配置为测量气体放电台的本体的相应不同区域相对于该传感器的物理方面；以及控制装置，其与传感器系统通信。控制装置被配置为分析从传感器测量的物理方面，从而确定气体放电台的本体在X轴所限定的XYZ坐标系中的位置，其中X轴由气体放电台的几何形状限定。轴由气体放电台的几何形状限定。轴由气体放电台的几何形状限定。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于气体放电台的本体的量测
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2018年9月12日提交的题为“用于气体放电台的本体的量测”的美国申请号62/730,428的优先权，其全部内容通过引用并入本文。


[0003]所公开的主题涉及控制气体放电台的本体的位置或对准以改善气体放电台的性能。

技术介绍

[0004]在半导体光刻(或光学光刻)中，制造集成电路(IC)需要在半导体(例如，硅)衬底(其还被称为晶片)上执行的各种物理过程和化学过程。光刻曝光装置(其还被称为扫描器)是将期望图案施加到衬底的目标区域上的机器。衬底固定到台上，以使衬底通常沿着扫描器的正交的X
L
方向和Y
L
方向所限定的图像平面延伸。通过光束辐射衬底，该光束的波长在紫外范围内，在可见光与x射线之间的某个位置处，并且因此波长在约10纳米(nm)与约400nm之间。因此，光束的波长可能例如在深紫外线(DUV)范围内，其中波长可能从约100nm下降到约400nm或波长可能在极紫外线(EUV)范围内，其中波长介于约10nm与约本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光源装置，包括：气体放电台，包括三维本体，所述三维本体限定了空腔，所述空腔被配置为与能量源交互，所述本体包括至少两个端口，所述至少两个端口能够透射波长在紫外线范围内的光束；传感器系统，包括多个传感器，每个传感器被配置为测量所述气体放电台的所述本体的相应不同区域相对于所述传感器的物理方面；以及控制装置，与所述传感器系统通信并且被配置为分析从所述传感器测量的所述物理方面，从而确定所述气体放电台的所述本体在X轴所限定的XYZ坐标系中的位置，其中所述X轴由所述气体放电台的几何形状限定。2.根据权利要求1所述的光源装置，还包括测量系统，所述测量系统被配置为测量从所述气体放电台生成的光束的一个或多个性能参数；其中所述控制装置与所述测量系统通信并且还被配置为：分析所述气体放电台的所述本体在所述XYZ坐标系中的所述位置以及所述光束的所测量的所述一个或多个性能参数；以及确定对所述气体放电台的所述本体的所述位置的修改是否将改善所述所测量的性能参数中的一个或多个性能参数。3.根据权利要求2所述的光源装置，还包括致动系统，所述致动系统物理耦合到所述气体放电台的所述本体，并且被配置为调整所述气体放电台的所述本体的位置；其中所述控制装置与所述致动系统通信并且被配置为基于关于所述气体放电台的所述本体的位置是否应当被修改的确定来向所述致动系统提供信号。4.根据权利要求3所述的光源装置，其中所述致动系统包括多个致动器，每个致动器被配置为与所述气体放电台的所述本体的区域物理通信。5.根据权利要求1所述的光源装置，其中所述控制装置被配置为通过确定以下各项中的一项或多项来确定所述气体放电台的所述本体在所述XYZ坐标系中的所述位置：所述气体放电台的所述本体从所述X轴的平移和/或所述气体放电台的所述本体从所述X轴的旋转。6.根据权利要求5所述的光源装置，其中：所述气体放电台的所述本体从所述X轴的所述平移包括以下各项中的一项或多项：所述气体放电台的所述本体沿着所述X轴的平移、所述气体放电台的所述本体沿着与所述X轴垂直的Y轴的平移、和/或所述气体放电台的所述本体沿着于所述X轴和所述Y轴垂直的Z轴的平移；以及所述气体放电台的所述本体从所述X轴的所述旋转包括以下各项中的一项或多项：所述气体放电台的所述本体围绕所述X轴的旋转、所述气体放电台的所述本体围绕与所述X轴垂直的Y轴的旋转、和/或所述气体放电台的所述本体沿着与所述X轴和所述Y轴垂直的Z轴的旋转。7.根据权利要求1所述的光源装置，其中每个传感器被配置为测量从所述传感器到所述气体放电台的所述本体的距离作为所述气体放电台的所述本体相对于所述传感器的所述物理方面。8.根据权利要求1所述的光源装置，其中：所述气体放电台包括位于所述本体的第一端的束转向设备以及位于所述本体的第二
端的束耦合器，所述束转向设备和所述束耦合器与所述X轴相交，使得所述气体放电台中产生的光束与所述束耦合器和所述束转向设备交互；以及当所述气体放电台的所述本体在可接受位置范围内时，所述能量源向所述本体的所述空腔供应能量，并且所述束转向设备和所述束耦合器对准，生成所述光束。9.根据权利要求8所述的光源装置，其中所述光束是波长在所述紫外线范围内的经放大光束。10.根据权利要求8所述的光源装置，其中：所述束转向设备是光学模块，所述光学模块包括用于选择并调整所述光束的波长的多个光学器件，并且所述束耦合器包括部分反射镜；和/或所述束转向设备包括光学器件布置，所述光学器件布置被配置为接收通过第一端口离开所述气体放电台的所述本体的所述光束并且改变所述光束的方向，以使所述光束通过所述第一端口重新进入所述气体放电台的所述本体。11.根据权利要求1所述的光源装置，其中每个传感器被配置为相对于所述气体放电台的所述本体固定安装；并且当每个传感器相对于所述气体放电台的所述本体固定安装时，所述传感器被配置为与另一传感器相距一距离固定。12.根据权利要求1所述的光源装置，还包括：第二气体放电台，与所述气体放电台光学串联；所述第二气体放电台具有第二三维本体，所述第二三维本体限定第二空腔，所述第二空腔被配置为与能量源交互，所述第二本体包括至少两个端口，所述至少两个端口能够透射波长在所述紫外范围内的光束；以及第二多个传感器，所述第二多个传感器中的每个传感器被配置为测量所述第二本体的相应不同区域相对于所述传感器的物理方面；其中所述控制装置与所述第二多个传感器通信，并且被配置为分析从所述第二多个传感器测量的所述物理方面，从而确定所述第二本体相对于第二X轴所限定的第二XYZ坐标系的位置，所述第二X轴穿过所述第二本体的所述至少两个端口。13.根据权利要求1所述的光源装置，其中每个传感器包括接触式传感器非接触式传感器。14.根据权利要求1所述的光源装置，其中所述X轴由束转向设备和束耦合器限定，所述束转向设备位于所述本体的第一端处...

【专利技术属性】
技术研发人员：A，
申请(专利权)人：西默有限公司，
类型：发明
国别省市：