一种新型的用于光刻涂胶的胶杯制造技术

本实用新型专利技术公开了一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，涉及半导体技术领域，包括外罩、内罩、以及用于固定外罩、内罩的底座；外罩、内罩和底座中部共同形成一涂胶空间；外罩的外罩壁与内罩的内罩壁之间形成一隔层空间，底座内部开设有一液流通道，涂胶空间产生的胶液可通过隔层空间进入液流通道；液流通道为倾斜设置，液流通道的最低点A处开设有一用于胶液汇聚并排出的出液孔；本实用新型专利技术能够使胶杯内部的胶液通过位于最低点A处的出液孔排出，通过不同的倾斜角度、倾斜方式的设置，对胶液在液流通道内的流动起到进一步汇聚的作用，不会出现堆积的现象，使得胶杯无需清洗或极大减少清洗次数，从而提高整体的工作效率；解决胶杯不易清洗的问题。洗的问题。洗的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种新型的用于光刻涂胶的胶杯


[0001]本技术涉及半导体
，尤其是一种新型的用于光刻涂胶的胶杯。

技术介绍

[0002]现有半导体加工
中，光刻技术是指在光照作用下，借助光刻胶将掩膜版上的图形转移到基片上的技术；其中，涂胶是光刻工艺过程的关键步骤，因光刻胶有一定的粘度，涂胶腔体工作一段时间之后就会在胶杯上残留一些光刻胶，随着残留胶液的增多，将会引起胶液反溅、排风变化等，进而影响涂胶工艺；所以涂胶腔体工作一段时间之后就需要对胶杯进行清洗，目前一般采用的方法有将胶杯从设备上拆下进行清洗，或者直接在胶杯内喷洒清洗液的方式进行清洗；
[0003]如中国专利技术专利CN104607430A所公开的一种胶杯自动清洗的方法。所述方法是在涂胶平台上设有胶杯和胶臂，所述胶臂上设有多个涂胶胶嘴，各涂胶胶嘴分别与一路胶管连接，所述胶臂上还设有清洗喷嘴，所述清洗喷嘴通过清洗管路与清洗液罐连接，所述清洗喷嘴通过胶臂移动到胶杯内晶元的上方、并喷洒清洗液，所述晶元旋转将清洗液甩到胶杯内壁上对残留胶液进行清洗；该专利技术专利的胶杯自动清洗的方法较为复杂，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述用于光刻涂胶的胶杯包括外罩(1)、内罩(2)、以及用于固定外罩(1)、内罩(2)的底座(4)；所述外罩(1)、内罩(2)和底座(4)中部共同形成一涂胶空间(12)；所述外罩(1)的外罩壁(6)与内罩(2)的内罩壁(8)之间形成一隔层空间(13)，所述底座(4)内部开设有一液流通道(11)，所述涂胶空间(12)产生的胶液可通过所述隔层空间(13)进入所述液流通道(11)；所述液流通道(11)为倾斜设置，所述液流通道(11)的最低点A处开设有一用于胶液汇聚并排出的出液孔(14)；所述底座(4)包括底座内壁(9)、底座外壁(10)和底座底板(17)，三者共同形成液流通道(11)；所述内罩(2)内还设有一分流罩(3)，所述内罩(2)内壁与分流罩内环(18)抵接并固定，所述内罩(2)与分流罩(3)之间形成一抽风空间(23)，所述底座内壁(9)顶部与所述分流罩(3)抵接并固定，所述底座外壁(10)与所述外罩壁(6)抵接并固定。2.如权利要求1所述的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述外罩(1)的外罩环口(5)处设有外罩挡圈(15)。3.如权利要求2所述的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述外罩挡圈(15)为三角形或方形或多边形，所述外罩挡圈(15)用于防止胶液沿着外罩(1)内壁流动；所述外罩挡圈(15)设有至少一层。4.如权利要求1所述的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述内罩(2)的内罩环口(7)处设有内罩挡圈(16)。5.如权利要求4所述的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述内罩挡圈(16)为三角形或方形或多边形，所述内罩挡圈(16)用于防止胶液沿着内罩(2)内壁流动；所述内罩挡圈(16)设有至少一层。6.如权利要求1所述的一种新型的用于光刻涂胶的胶杯，其特征在于，所述底座底...

【专利技术属性】
技术研发人员：王冲，傅立超，
申请(专利权)人：宁波润华全芯微电子设备有限公司，
类型：新型
国别省市：