一种金属件表面处理用的喷涂工艺制造技术

技术编号:28141195 阅读:17 留言:0更新日期:2021-04-21 19:18
本发明专利技术公开了一种金属件表面处理用的喷涂工艺,包括以下步骤:步骤一,表面激发处理:将金属件先置于电晕场内处理10

【技术实现步骤摘要】
一种金属件表面处理用的喷涂工艺


[0001]本专利技术涉及金属件喷涂
,具体涉及一种金属件表面处理用的喷涂工艺。

技术介绍

[0002]金属在加工、处理及使用过程中经常会发生不同程度的氧化、腐蚀等,降低金属材料或金属设备的使用寿命,因此,需要对金属表面进行处理,增加其抗氧化、韧性、耐腐等能力,延长使用寿命。金属材料是现在人们生活中常见又必不可少的一种材料,包括铁、钢、铝及其合金等。而通常金属材料表面性质较活泼,在自然条件下容易发生腐蚀等不良现象,进而影响了其使用品质和寿命,因此需要对其表面进行改性处理。喷涂处理方法是常见的一种金属表面处理工艺,其可在金属表面上形成一喷涂涂层,用以增强对金属材质的保护,从而提升了其使用品质和寿命。
[0003]中国专利文献CN107231767A中公开了一种耐腐蚀耐磨汽车座椅模块控制盒,该文献中给出了金属件采用耐腐耐磨层来提高产品的性能,而涂层与金属件表面粘接强度差,长期使用会产生界面开裂甚至脱落等问题,即使耐腐耐磨层本身性能好,但表面粘接强度差,反而影响耐腐性能效果。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种金属件表面处理用的喷涂工艺,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:
[0006]本专利技术提供了一种金属件表面处理用的喷涂工艺,包括以下步骤:
[0007]步骤一,表面激发处理:将金属件先置于电晕场内处理10

15min,电晕场场强为220<br/>‑
250KV/m,然后采用等离子体处理,处理结束,即可;
[0008]步骤二,活性点位布置:将金属件先喷涂一层活性介质点,然后采用脉冲离子束进行激发辐照,辐照的离子能量为80

120keV、束流密度为70

90A/cm2、脉冲宽度为25

35ns,辐照结束,采用去离子水清洗1

3次,即可;
[0009]步骤三,活性点位的加强:将步骤二的金属件采用热压缩的方式进行处理,处理结束,即可;
[0010]步骤四,喷涂剂的制备:将20

30份叶腊石、5

10份氧化铝、1

5份钛粉、1

2份NbFe粉依次送入到混合机内进行高速混合,混合转速为1200

1500r/min,混合时间为20

30min,得到喷涂剂;
[0011]步骤五,喷涂处理:采用喷涂剂喷涂步骤三的金属件,喷涂温度为1310

1360℃,喷涂厚度为1

3mm,喷涂结束,得到喷涂层;
[0012]步骤六,润透一体改性;将步骤五的金属件送入到十二烷基硫酸钠进行润透10

20min,润透温度为60

80℃,润透结束,采用水洗、干燥,然后再热压处理,即可。
[0013]优选地,所述步骤一等离子体处理采用用氮气作等离子处理,氮气流量为0.40

0.50L/min,功率为45

55W,处理时间为1

5min。
[0014]优选地,所述氮气流量为0.45L/min,功率为50W,处理时间为3min。
[0015]优选地,所述表面激发处理中的活性介质点制备方法为:将纳米二氧化硅先采用质子辐照,辐照功率为500W,辐照时间为1

5min,然后加入到乙醇溶剂中,随后加入纳米二氧化硅总量10

20%的稀土氧化镧,先以210

250r/min的转速搅拌20

30min,最后加入纳米二氧化硅总量2

5%焦磷酸钠,继续搅拌25

35min,得到活性介质点。
[0016]优选地,所述喷涂一层活性介质点的具体操作方法为:将活性介质点送入到喷涂器内,喷涂距离为120

140mm,喷涂厚度为0.1

0.5mm。
[0017]优选地,所述喷涂距离为130mm,喷涂厚度为0.3mm。
[0018]优选地,所述热压缩的方式具体操作方法为:将金属件先于120

150℃下静置10

20min,静置压力为10

20MPa,然后以1

5℃/min的速率将温度升至300℃,然后保温15

25min,静置压力降至2

5MPa,最后将温度在自然条件下恢复至室温,即可。
[0019]优选地,所述润透一体改性中热压处理的温度为200

250℃,热压压力为1

7MPa,热压时间为1

5min。
[0020]优选地,所述热压温度为225℃,热压压力为4MPa,热压时间为3min。
[0021]与现有技术相比,本专利技术具有如下的有益效果:
[0022]本专利技术金属件先置于电晕场内处理,然后再采用氮气等离子体处理,金属件表面结构稀疏,从而便于活性介质点的吸附,活性介质点以纳米二氧化硅为主料,稀土氧化镧为激发介质,焦磷酸钠为分散介质,通过喷涂将纳米二氧化硅均散在金属件表面,焦磷酸钠的加入避免纳米二氧化硅聚沉,提高了纳米二氧化硅的分散效果,活性介质点分布在金属件表面采用脉冲离子束进行辐照,激发稀土氧化镧的活性,促进纳米二氧化硅在金属件表面原位生长,从而形成大量均匀的微小凹坑,这样更有利于后续喷涂层的吸附粘接,提高了喷涂层的吸附强度;采用热压缩的方式进行活性点位的加强,从而提高活性点位的分布粘接强度,更有利于喷涂层的布置,提高了喷涂层与基体的粘接强度,喷涂剂选择钛粉、NbFe粉等原料起到钝化的效果,进而可提高产品的耐腐性能,最后采用十二烷基硫酸钠进行润透,从而将喷涂层与活性点位更能一体的润湿粘接,在热压中进一步增强二者的连接紧密度,提高了产品的耐腐性。
具体实施方式
[0023]下面结合具体实施例,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。
[0024]实施例1:
[0025]本实施例的一种金属件表面处理用的喷涂工艺,包括以下步骤:
[0026]步骤一,表面激发处理:将金属件先置于电晕场内处理10min,电晕场场强为220KV/m,然后采用等离子体处理,处理结束,即可;
[0027]步骤二,活性点位布置:将金属件先喷涂一层活性介质点,然后采用脉冲离子束进行激发辐照,辐照的离子能量为80keV、束流密度为70A/cm2、脉冲宽度为25ns,辐照结本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种金属件表面处理用的喷涂工艺,其特征在于,包括以下步骤:步骤一,表面激发处理:将金属件先置于电晕场内处理10

15min,电晕场场强为220

250KV/m,然后采用等离子体处理,处理结束,即可;步骤二,活性点位布置:将金属件先喷涂一层活性介质点,然后采用脉冲离子束进行激发辐照,辐照的离子能量为80

120keV、束流密度为70

90A/cm2、脉冲宽度为25

35ns,辐照结束,采用去离子水清洗1

3次,即可;步骤三,活性点位的加强:将步骤二的金属件采用热压缩的方式进行处理,处理结束,即可;步骤四,喷涂剂的制备:将20

30份叶腊石、5

10份氧化铝、1

5份钛粉、1

2份NbFe粉依次送入到混合机内进行高速混合,混合转速为1200

1500r/min,混合时间为20

30min,得到喷涂剂;步骤五,喷涂处理:采用喷涂剂喷涂步骤三的金属件,喷涂温度为1310

1360℃,喷涂厚度为1

3mm,喷涂结束,得到喷涂层;步骤六,润透一体改性;将步骤五的金属件送入到十二烷基硫酸钠进行润透10

20min,润透温度为60

80℃,润透结束,采用水洗、干燥,然后再热压处理,即可。2.根据权利要求1所述的一种金属件表面处理用的喷涂工艺,其特征在于,所述步骤一等离子体处理采用用氮气作等离子处理,氮气流量为0.40

0.50L/min,功率为45

55W,处理时间为1

5min。3.根据权利要求2所述的一种金属件表面处理用的喷涂工艺,其特征在于,所述氮气流量为0.45L/min,功率为50W,...

【专利技术属性】
技术研发人员:柯雪丽
申请(专利权)人:衢州创普机械设备有限公司
类型:发明
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