微波暗室多静区构建方法及微波暗室多静区系统技术方案

微波暗室多静区构建方法及微波暗室多静区系统，包括：位于焦点处的馈源，发射出的球面波经反射面反射后变为平面波，形成主静区；偏离焦点处的馈源，发射出的球面波经反射面反射后电磁波束发生偏转，形成副静区。采用本申请中的方案，在紧缩场系统中，利用多个偏焦馈源，形成多个静区能够实现空间多目标电磁特征测量环境的构建，适用于较为复杂的多波束电磁实物仿真环境。物仿真环境。物仿真环境。

【技术实现步骤摘要】
微波暗室多静区构建方法及微波暗室多静区系统


[0001]本申请涉及空间信息对抗技术，具体地，涉及一种微波暗室多静区构建方法及微波暗室多静区系统。

技术介绍

[0002]紧缩场是通过精密反射器准直形成平面波静区和低背景电磁环境，自1969年佐治亚工学院Johnson教授专利技术以来，逐渐成为雷达目标特性精密测量的基础性主流装备。截至2015年，美国公布的RCS测试场认证状态，波音7个，洛克希德马丁5个，雷神4个，BAE2个，GE1 个，NASA1个，其它(含海空军)17个，高校2个(OSU，GTRI)，合计39个。
[0003]自上世纪80年代，我国开始研究紧缩场技术，已自主研制出不同尺寸，多种类型的紧缩场。1992年我国自行研制了国内第一台静区1.5m 双柱面紧缩场，2000年完成了静区5m的大型双柱面紧缩场建造，2002 年建造了静区尺寸为4.5m的单旋转抛物面紧缩场，2003年研制了静区为0.8m的前馈卡塞格伦紧缩场，2009年研制出静区6m的单反射面紧缩场，2012年研制出静区16m的单反射面紧缩场。
[0004]国内外紧缩场的主要技术功能是实现远场平面波条件，用于天线方向图和雷达目标RCS特性测量，紧缩场通常要求为单一平面波静区。传统抛物面有偏焦多波束的应用，但其工作在天线的远场辐射区。
[0005]现有技术中存在的问题：
[0006]目前尚未有微波暗室内的多波束应用实现方案。

技术实现思路

[0007]本申请实施例中提供了一种微波暗室多静区构建方法及微波暗室多静区系统，以解决上述技术问题。
[0008]根据本申请实施例的第一个方面，提供了一种微波暗室多静区构建方法，包括如下步骤：
[0009]将至少一个馈源置于焦点处，位于焦点处的馈源发射出的球面波经反射面反射后变为平面波，形成主静区；
[0010]将至少一个馈源置于偏离焦点处，通过控制偏离焦点的馈源的位置与焦点的距离，使电磁波束发生偏转，形成副静区。
[0011]根据本申请实施例的第二个方面，提供了一种微波暗室多静区系统，包括：用于多个馈源、以及反射面的控制模块；
[0012]位于焦点处的馈源，发射出的球面波经反射面反射后变为平面波，形成主静区；
[0013]偏离焦点处的馈源，发射出的球面波经反射面反射后电磁波束发生偏转，形成副静区。
[0014]采用本申请实施例中提供的微波暗室多静区构建方法及微波暗室多静区系统，在紧缩场系统中，利用多个偏焦馈源，形成多个静区能够实现空间多目标电磁特征测量环境
的构建，适用于较为复杂的多波束电磁实物仿真环境。
附图说明
[0015]此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：
[0016]图1示出了本申请实施例一中微波暗室多静区构建方法实施的流程示意图；
[0017]图2示出了本申请实施例二中微波暗室多静区系统的结构示意图；
[0018]图3示出了本申请实施例三中多静区紧缩场的工作原理示意图；
[0019]图4示出了本申请实施例三中多静区馈源排列示意图；
[0020]图5示出了本申请实施例三中多静区空间分布示意图；
[0021]图6示出了本申请实施例三中紧缩场反射面的示意图；
[0022]图7示出了本申请实施例三中紧缩场口面的投影示意图；
[0023]图8示出了本申请实施例三中紧缩场在微波暗室内的布局示意图；
[0024]图9示出了本申请实施例三中多静区前视图示意图；
[0025]图10示出了本申请实施例三中馈源偏差的波程示意图(仅侧向偏差)；
[0026]图11示出了本申请实施例三中馈源偏差的波程示意图(含轴向补偿)。
具体实施方式
[0027]在实现本申请的过程中，专利技术人发现：
[0028]偏焦形成多静区紧缩场为构建较为复杂的多波束电磁实物仿真环境提供了一条可行的途径。
[0029]在紧缩场系统中，利用多个偏焦馈源，形成多个静区能够实现空间多目标电磁特征测量环境的构建。目前，针对微波暗室内多静区构建方法尚未出现。
[0030]针对上述问题，本申请实施例中提供了一种微波暗室多静区构建方法及微波暗室多静区系统。
[0031]本申请实施例中的方案可以采用各种计算机语言实现，例如，面向对象的程序设计语言Java和直译式脚本语言JavaScript等。
[0032]为了使本申请实施例中的技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图对本申请的示例性实施例进行进一步详细的说明，显然，所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例，而不是所有实施例的穷举。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0033]实施例一
[0034]图1示出了本申请实施例一中微波暗室多静区构建方法实施的流程示意图。
[0035]如图所示，所述微波暗室多静区构建方法包括：
[0036]步骤101、将至少一个馈源置于焦点处，位于焦点处的馈源发射出的球面波经反射面反射后变为平面波，形成主静区；
[0037]步骤102、将至少一个馈源置于偏离焦点处，通过控制偏离焦点的馈源的位置与焦点的距离，使电磁波束发生偏转，形成副静区。
[0038]采用本申请实施例中提供的微波暗室多静区构建方法，在紧缩场系统中，利用多
个偏焦馈源，形成多个静区能够实现空间多目标电磁特征测量环境的构建，适用于较为复杂的多波束电磁实物仿真环境。
[0039]在一种实施方式中，偏离焦点的馈源包括多个；位于焦点处的馈源发射出的球面波经反射面反射后变为平面波，形成一个主静区；偏离焦点处的多个馈源在不同的位置发射出的球面波经反射面反射后电磁波束发生偏转，形成多个副静区。
[0040]本申请实施例可以将一个馈源位于焦点处，其他多个馈源位于偏离焦点处，从而形成一个主静区和若干个副静区。
[0041]在一种实施方式中，所述多个偏离焦点的馈源围绕位于焦点处的馈源，所述位于焦点处的馈源位于所述多个偏离焦点的馈源形成的结构的中心。
[0042]在一种实施方式中，微波暗室内紧缩场的反射面为：
[0043]反射面的焦距长度为F＝21000.000mm；
[0044]反射面投影宽度为W＝20000.000mm；
[0045]反射面投影高度为H＝16000.000mm；
[0046]反射面倾角为af＝77.255度；
[0047]馈源对于反射面的张角为bt＝41.149度；
[0048]馈源偏馈角为gam＝25.491度；
[0049]反射面上边缘伸出距离：A1＝3695.238mm；
[0050]反射面下边缘到馈源的垂直距离为A2＝1500.000mm；
[0051]反射面下边缘到馈源的水平距离为A4＝2本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微波暗室多静区构建方法，其特征在于，包括：将至少一个馈源置于焦点处，位于焦点处的馈源发射出的球面波经反射面反射后变为平面波，形成主静区；将至少一个馈源置于偏离焦点处，通过控制偏离焦点的馈源的位置与焦点的距离，使电磁波束发生偏转，形成副静区。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，偏离焦点的馈源包括多个；位于焦点处的馈源发射出的球面波经反射面反射后变为平面波，形成一个主静区；偏离焦点处的多个馈源在不同的位置发射出的球面波经反射面反射后电磁波束发生偏转，形成多个副静区。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述多个偏离焦点的馈源围绕位于焦点处的馈源，所述位于焦点处的馈源位于所述多个偏离焦点的馈源形成的结构的中心。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，微波暗室内紧缩场的反射面为：反射面的焦距长度为F＝21000.000mm；反射面投影宽度为W＝20000.000mm；反射面投影高度为H＝16000.000mm；反射面倾角为af＝77.255度；馈源对于反射面的张角为bt＝41.149度；馈源偏馈角为gam＝25.491度；反射面上边缘伸出距离：A1＝3695.238mm；反射面下边缘到馈源的垂直距离为A2＝1500.000mm；反射面下边缘到馈源的水平距离为A4＝20973.214mm。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述反射面为长方形结构，且在所述长方形结构中分为若干个块。6.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘佳琪，艾夏，李志平，刘鑫，高路，刘向荣，陈姝媛，孟刚，水涌涛，周岩，龚晓刚，
申请(专利权)人：中国运载火箭技术研究院，
类型：发明
国别省市：