一种基于气相沉淀技术的涂层涂覆装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及金属涂层涂覆技术领域，尤其为一种基于气相沉淀技术的涂层涂覆装置，包括底座，所述底座的顶部焊接有反应箱，所述反应箱内腔背面的两侧均固定安装有加热器，所述底座的内壁焊接有隔板，所述隔板顶部的中心处轴承支撑有转管；本实用新型专利技术通过反应箱、隔板、转管、连接盒、第一真空泵、电机、主动齿、从动齿、喷气管、滑轨、托板、等离子体发生器和输送管的设置，使涂层涂覆装置具备气体分布均匀的优点，同时解决了现有的化学气相沉积成膜过程中，是将工件放置在反应舱内，然后向舱内充入化学气体，整个反应过程为被动式进行，无法保证舱内气体的均匀度，从而导致成膜质量产生偏差的问题。差的问题。差的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种基于气相沉淀技术的涂层涂覆装置


[0001]本技术涉及金属涂层涂覆
，具体为一种基于气相沉淀技术的涂层涂覆装置。

技术介绍

[0002]气相沉积技术是利用气相中发生的物理、化学过程，在工件表面形成功能性或装饰性的金属、非金属或化合物涂层，气相沉积技术按照成膜机理，可分为化学气相沉积、物理气相沉积和等离子体气相沉积。
[0003]化学气相沉积技术中，气体在工件表面的均匀度则决定了成膜的质量，现有的化学气相沉积成膜过程中，是将工件放置在反应舱内，然后向舱内充入化学气体，整个反应过程为被动式进行，无法保证舱内气体的均匀度，从而导致成膜质量产生偏差，为此我们提出一种基于气相沉淀技术的涂层涂覆装置。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种基于气相沉淀技术的涂层涂覆装置，具备气体分布均匀的优点，解决了现有的化学气相沉积成膜过程中，是将工件放置在反应舱内，然后向舱内充入化学气体，整个反应过程为被动式进行，无法保证舱内气体的均匀度，从而导致成膜质量产生偏差的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于气相沉淀技术的涂层涂覆装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的顶部焊接有反应箱(2)，所述反应箱(2)内腔背面的两侧均固定安装有加热器(24)，所述底座(1)的内壁焊接有隔板(3)，所述隔板(3)顶部的中心处轴承支撑有转管(4)，所述转管(4)的表面套设有连接盒(5)，所述隔板(3)顶部的右侧固定安装有第一真空泵(6)，所述第一真空泵(6)的进气端贯穿底座(1)并延伸至外部，所述第一真空泵(6)的出气端与连接盒(5)的右侧连通，所述隔板(3)顶部的左侧固定安装有电机(7)，所述电机(7)的输出轴焊接有主动齿(8)，所述主动齿(8)的右侧啮合有从动齿(9)，所述从动齿(9)的内壁与转管(4)的表面焊接，所述转管(4)的顶端依次贯穿底座(1)和反应箱(2)并延伸至反应箱(2)的内腔，所述转管(4)的四周均连通有喷气管(10)，所述反应箱(2)底部的两侧均固定安装有滑轨(11)，所述滑轨(11)的顶部滑动连接有托板(12)，所述反应箱(2)的顶部固定安装有等离子体发生器(13)，所述等离子体发生器(13)的底部连通有输送管(14)，所述输送管(14)延伸到反应箱(2)的内腔。2.根据权利要求1所述的一种基于气相沉淀技术的涂层涂覆装置，其特征在于：所述底座(1)内腔的底部固定安装有第二真空泵(15)，所述第二真空泵(15)的...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕琛，
申请(专利权)人：山东合创涂层技术有限公司，
类型：新型
国别省市：