一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统技术方案

本实用新型专利技术提供了一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统，包括工业相机、第一光学成像装置、第二光学成像装置、第一光源、第二光源、多维调节台和工控电脑，光芯片放置于多维调节台的上端，工业相机与工控电脑连接，工业相机、第一光学成像装置、第一光源、第二光学成像装置自上而下依次连接，第二光源与第二光学成像装置的侧面连接，第一光源为环形光源，第二光源为平行同轴光源；本实用新型专利技术与现有技术相比，结构简单，不用调节检测系统与线路板的距离，使用时只要调节调节台的高低即可成像，方便可靠，能清晰观察到光芯片微小缺陷的情况，扩展物距，使得镜头与检测物的工作距离很长，方便使用者对检测物操作，提高产品质量检测水平。

【技术实现步骤摘要】
一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统
本技术涉及光学仪器领域，尤其涉及一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统。
技术介绍
目前，现有的常规高倍率显微镜镜头工作距离和景深都有限，并且对于光芯片波导的观察水平有限，尤其是对于波导中微小缺陷的识别，不能很好的检测，对于光芯片波导检测来讲，波导的质量在外观上主要取决于波导表面是否有缺陷，而常规显微镜对于这种缺陷的识别基本比较困难，且物距太短，不方便使用者操作，鉴于上述情况，亟待设计一种针对于光芯片波导微小缺陷检测的光学仪器。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统。为了实现上述目的，本技术的技术方案是：一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统，其特征在于，包括工业相机、第一光学成像装置、第二光学成像装置、第一光源、第二光源、多维调节台和工控电脑，所述光芯片放置于多维调节台的上端，所述工业相机与工控电脑连接，所述工业相机、第一光学成像装置、第一光源、第二光学成像装置自上而下依次连接，所述第二光源与第二光学成像装置的侧面连接，所述第一光源为环形光源，所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统，其特征在于，包括工业相机、第一光学成像装置、第二光学成像装置、第一光源、第二光源、多维调节台和工控电脑，所述光芯片放置于多维调节台的上端，所述工业相机与工控电脑连接，所述工业相机、第一光学成像装置、第一光源、第二光学成像装置自上而下依次连接，所述第二光源与第二光学成像装置的侧面连接，所述第一光源为环形光源，所述第二光源为平行同轴光源，/n所述第一光学成像装置包括第一镜筒，所述第一镜筒内由下至上依次设有第一透镜、第二透镜和第三透镜，所述第一透镜为双凸透镜，所述第二透镜为中央向上弯折的凹透镜，所述第三透镜为双凹透镜，/n所述第二光学成像装置包括第二镜筒，所...

【技术特征摘要】
1.一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统，其特征在于，包括工业相机、第一光学成像装置、第二光学成像装置、第一光源、第二光源、多维调节台和工控电脑，所述光芯片放置于多维调节台的上端，所述工业相机与工控电脑连接，所述工业相机、第一光学成像装置、第一光源、第二光学成像装置自上而下依次连接，所述第二光源与第二光学成像装置的侧面连接，所述第一光源为环形光源，所述第二光源为平行同轴光源，
所述第一光学成像装置包括第一镜筒，所述第一镜筒内由下至上依次设有第一透镜、第二透镜和第三透镜，所述第一透镜为双凸透镜，所述第二透镜为中央向上弯折的凹透镜，所述第三透镜为双凹透镜，
所述第二光学成像装置包括第二镜筒，所述第二镜筒内由下至上依次设有第四透镜、第五透镜、第六透镜、第七透镜、第八透镜、第九透镜和第十透镜，所述第四透镜为平凸透镜，所述第五透镜和第六透镜为上下对称设置的凸透镜，所述第七透镜为双凸透镜，所述第八透镜为双凹透镜，所述第九透镜为凸透镜，所述第十透镜为平凸透镜，所述第二镜筒的上部设有分光棱镜。


2.根据权利要求1所述的一种用于光芯片波导微小缺陷的检测系统，其特征在于，所述第一透镜和第二透镜靠近设置，所述第二透镜和第三透镜存在间距，所述第二透镜下端的弧度与第一透镜上端的弧度配合。


3.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋全梅，
申请(专利权)人：上海申赋实业有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31