一种浸液供给装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种浸液供给装置。本发明专利技术包括环绕末端物镜的环绕面；环绕面上具有主注液口，顺次经过主进液接口、主供液流路和主注液口向浸没流场提供浸液；主供液流路包括顺次连通的引流流路和出流流路，引流流路连通主进液接口连通，出流流路连通主注液口；引流流路位于出流流路的下方。本发明专利技术经主注液口向浸没流场提供浸液，经主供液流路向主注液口提供浸液，设置主供液流路包括引流流路和出流流路，使浸液在出流路的宽度方向上具有更均匀的流量分布；配合在主供液流路中设置孔板以增强流量的均匀效果；有利于浸没流场的稳定流动，避免浸没流场中形成紊流和漩涡，保证浸没流场的光学性质稳定，有利于保证曝光质量。

【技术实现步骤摘要】
一种浸液供给装置
本专利技术属于浸没式光刻机
，涉及一种浸液供给装置。
技术介绍
光刻机是制造超大规模集成电路的核心装备之一，它利用光学系统把掩膜版上的电路图案精确地投影在涂覆光刻胶的衬底上并使光刻胶曝光改性，从而在衬底上留下电路图案信息。它包括激光光源、投影物镜系统、包含电路图案的投影掩膜版和涂有光敏光刻胶的衬底。相对于中间介质为气体的干式光刻机，浸没式光刻(ImmersionLithography)设备通过在最后一片投影物镜与衬底之间填充某种高折射率的液体(称为浸没液体或浸液)，通过提高该缝隙液体介质的折射率(n)来提高投影物镜的数值孔径(NA)，从而提高光刻设备的分辨率和焦深。在现在的主流光刻技术中，由于浸没式光刻相对早期的干式光刻具有良好的继承性，所以受到广泛应用。而对于浸没液体的填充，目前广泛采用的方案是局部浸没法，也即使用浸液供给回收装置将液体限制在最后一片投影物镜的下表面和衬底上表面之间的局部区域内。保持浸没液体在曝光区域内的光学一致性和透明度，是保障浸没式光刻曝光质量的关键。为此，现有技术方案往往通过注液和回收实现本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种浸液供给装置，其特征在于：包括环绕末端物镜的环绕面；环绕面上具有主注液口，顺次经过主进液接口、主供液流路和主注液口向浸没流场提供浸液；主供液流路包括顺次连通的引流流路和出流流路，引流流路连通主进液接口连通，出流流路连通主注液口；引流流路位于出流流路的下方。/n

【技术特征摘要】
1.一种浸液供给装置，其特征在于：包括环绕末端物镜的环绕面；环绕面上具有主注液口，顺次经过主进液接口、主供液流路和主注液口向浸没流场提供浸液；主供液流路包括顺次连通的引流流路和出流流路，引流流路连通主进液接口连通，出流流路连通主注液口；引流流路位于出流流路的下方。


2.如权利要求1所述的一种浸液供给装置，其特征在于：所述主注液口的宽度至少是所述环绕面底部通孔的直径的60％。


3.如权利要求1所述的一种浸液供给装置，其特征在于：所述引流流路的底面的位置低于出流流路底面。


4.如权利要求1所述的一种浸液供给装置，其特征在于：所述引流流路的顶面的位置低于出流流路底面。


5.如权利要求1所述的一种浸液供给装置，其特征在于：所述引流流路的延伸方向与出流流路的延伸方向垂直。


6.如权利要求1所述的一种浸液供给...

【专利技术属性】
技术研发人员：李元，吴敏，池优阳，陈文昱，付婧媛，
申请(专利权)人：浙江启尔机电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33