成膜装置及成膜方法、信息获取装置、对准方法和电子设备的制造装置及制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供用于在将基板和掩模对准之后使基板和掩模紧贴时应对基板保持机构与掩模保持机构的相对姿势变化的技术。使用成膜装置，该成膜装置具备：支承基板的基板保持机构；与基板大致平行地支承掩模的掩模保持机构；使基板保持机构和掩模保持机构中的至少一方移动而使平面内的基板与掩模的相对位置关系变化的面内移动机构；通过使基板保持机构和掩模保持机构中的至少一方相对于另一方移动而使基板与掩模的距离变化的距离变化机构；获取基板保持机构相对于掩模保持机构的姿势信息的姿势信息获取机构；以及基于姿势信息来控制基板保持机构与掩模保持机构的相对姿势的姿势控制机构。

【技术实现步骤摘要】
成膜装置及成膜方法、信息获取装置、对准方法和电子设备的制造装置及制造方法
本专利技术涉及成膜装置及成膜方法、信息获取装置、对准方法和电子设备的制造装置及制造方法。
技术介绍
近年来，自发光型且使用视场角、对比度、响应速度优异的有机EL元件的电子设备广泛应用于以壁挂电视、移动设备为代表的各种设备的显示部。有机EL元件通过在蒸镀装置等成膜装置内经由掩模在基板上形成有机膜等薄膜而制造。在该制造工序中，在向减压的腔室内运入基板后，使基板和掩模紧贴之前，基板与掩模进行对准(位置对准)。在对准时，例如，通过CCD相机等识别基板侧的对准标记和掩模侧的对准标记来检测相对距离(位置偏移量)，基于检测出的位置偏移量使基板在与掩模表面平行的平面内相对地移动，将基板侧和掩模侧的对准标记的位置对准。之后，使基板沿垂直方向移动，通过磁铁机构等隔着基板吸附掩模，从而使掩模紧贴在基板表面上。此时，在使基板和掩模紧贴时，有时基板与掩模发生稍微的位置偏移。因此，专利文献1记载了如下技术，在基板和掩模的紧贴前及紧贴后获取对准标记的位置偏移量，基于该差异，在使本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种成膜装置，所述成膜装置经由掩模在基板的表面进行成膜，其特征在于，所述成膜装置具备：/n基板保持机构，所述基板保持机构支承所述基板；/n掩模保持机构，所述掩模保持机构与所述基板大致平行地支承所述掩模；/n面内移动机构，所述面内移动机构通过使所述基板保持机构和所述掩模保持机构中的至少一方移动，使与所述基板及所述掩模大致平行的平面上的所述基板与所述掩模的相对位置关系变化；/n距离变化机构，所述距离变化机构通过使所述基板保持机构和所述掩模保持机构中的至少一方相对于另一方移动，使所述基板与所述掩模之间的距离变化；/n姿势信息获取机构，所述姿势信息获取机构获取表示所述基板保持机构相对于所述掩模保持...

【技术特征摘要】
20190924 JP 2019-1729441.一种成膜装置，所述成膜装置经由掩模在基板的表面进行成膜，其特征在于，所述成膜装置具备：
基板保持机构，所述基板保持机构支承所述基板；
掩模保持机构，所述掩模保持机构与所述基板大致平行地支承所述掩模；
面内移动机构，所述面内移动机构通过使所述基板保持机构和所述掩模保持机构中的至少一方移动，使与所述基板及所述掩模大致平行的平面上的所述基板与所述掩模的相对位置关系变化；
距离变化机构，所述距离变化机构通过使所述基板保持机构和所述掩模保持机构中的至少一方相对于另一方移动，使所述基板与所述掩模之间的距离变化；
姿势信息获取机构，所述姿势信息获取机构获取表示所述基板保持机构相对于所述掩模保持机构的姿势的姿势信息；以及
姿势控制机构，所述姿势控制机构基于所述姿势信息来控制所述基板保持机构与所述掩模保持机构的相对姿势。


2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，
所述姿势信息获取机构获取表示保持所述基板的所述基板保持机构相对于所述掩模保持机构的倾斜的信息来作为所述姿势信息。


3.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，
在所述距离变化机构为了使所述基板和所述掩模紧贴而使所述基板保持机构和所述掩模保持机构接近的期间，所述姿势控制机构调整所述基板保持机构的姿势，以使所述基板保持机构维持相对于所述掩模保持机构的所述倾斜。


4.根据权利要求2或3所述的成膜装置，其特征在于，
所述成膜装置具有进行所述成膜的腔室，
所述掩模保持机构配置在所述腔室的内部，
所述面内移动机构和所述距离变化机构与所述基板保持机构连接，通过使用所述面内移动机构和所述距离变化机构使所述基板保持机构移动，进行所述基板相对于所述掩模的位置对准，
所述距离变化机构通过线性导向件和滑架使所述基板保持机构相对于所述掩模保持机构移动，
所述姿势信息获取机构获取所述线性导向件与所述滑架的相对位置关系，
所述姿势控制机构控制所述基板保持机构的姿势，以维持所述相对位置关系。


5.根据权利要求4所述的成膜装置，其特征在于，
所述姿势信息获取机构是线性标尺，所述姿势控制机构是音圈电机。


6.一种成膜装置，所述成膜装置经由掩模在基板的表面进行成膜，其特征在于，所述成膜装置具备：
基板保持机构，所述基板保持机构支承所述基板；
掩模保持机构，所述掩模保持机构与所述基板大致平行地支承所述掩模；
面内移动机构，所述面内移动机构通过使所述基板保持机构和所述掩模保持机构中的至少一方移动，使与所述基板及所述掩模大致平行的平面上的所述基板与所述掩模的相对位置关系变化；
距离变化机构，所述距离变化机构通过使所述基板保持机构和所述掩模保持机构中的至少一方相对于另一方移动，使所述基板与所述掩模之间的距离变化；
姿势信息获取机构，所述姿势信息获取机构获取表示所述基板保持机构与所述掩模保持机构的相对姿势的姿势信息；以及
姿势控制机构，所述姿势控制机构在通过所述距离变化机构使所述基板保持机构和所述掩模保持机构在相对接近的方向上移动时，基于所述姿势信息来控制所述基板保持机构与所述掩模保持机构的相对姿势。


7.根据权利要求6所述的成膜装置，其特征在于，
所述姿势控制机构在通过所述距离变化机构使所述基板保持机构和所述掩模保持机构接近至规定距离时，控制所述基板保持机构与所述掩模保持机构的相对姿势，以将所述基板保持机构与所述掩模保持机构的相对姿势维持为一定。


8.根据权利要求7所述的成膜装置，其特征在于，
所述姿势控制机构在通过所述距离变化机构使所述基板保持机构与所述掩模保持机构之间的距离达到规定距离以内的范围内，将所述基板保持机构与所述掩模保持机构的相对姿势维持为一定。


9.根据权利要求8所述的成膜装置，其特征在于，
所述规定距离是所述基板与掩模即将接触前的距离。


10.根据权利要求6至9中任一项所述的成膜装置，其特征在于，
所述面内移动机构在所述基板与掩模即将接触前进行所述相对位置关系的变化，所述姿势控制机构维持所述相对位置关系的变化后的所述基板保持机构与所述掩模保持机构的相对姿势。


11.根据权利要求6至9中任一项所述的成膜装置，其特征在于，
所述姿势信息是所述基板保持机构相对于所述掩模保持机构的倾斜。


12.一种信息获取装置，所述信息获取装置安装于成膜装置，所述成膜装置经由掩模在基板的表面进行成膜，具有保持所述基板的基板保持机构、与所述基板大致平行地支承所述掩模的掩模保持机构、以及通过使所述基板保持机构和所述掩模保持机构中的至少一方移动而将所述基板和所述掩模进行位置对准的位置对准机构，其特征在于，
所...

【专利技术属性】
技术研发人员：高津和正，铃木健太郎，樽茶友昭，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP