一种基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器及制备方法技术

技术编号:27957067 阅读:18 留言:0更新日期:2021-04-06 13:47
本发明专利技术公开了一种基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器及制备方法,该压电式柔性超声换能器包含柔性基底,柔性基底上设置一层底电极,底电极上设置一层压电层,压电层上设置多个表电极,所述多个表电极被划分为两组,每组中的各表电极之间通过导电引线电性连接,且各组的表电极上分别电性连接一根信号输出线,每组的其中一个表电极上分别设置有声阻抗匹配层。本发明专利技术中超声换能器具有柔性基底,柔韧性好,应用范围广,采用溅射技术直接生成金属掺杂的ZnO压电薄膜作为压电层,工艺简单,各表电极制作在同一压电层上,制作工艺简单,并可大规模列阵集成化,提高压电换能器的应用能力。

【技术实现步骤摘要】
一种基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器及制备方法
本专利技术涉及超声换能器领域,更具体地说,涉及一种基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器及制备方法。
技术介绍
基于微机电系统(MEMS)技术的超声换能器相比于传统宏观的超声换能器具有体积小、易阵列、集成化,易于IC工艺兼容等特点。近年来,在超声成像,指纹识别,传感,无损探测等领域MEMS超声换能器的应用日益广泛。目前,基于MEMS技术的超声换能器(MUT)可分为电容式(CMUT)和压电式(PMUT)。CMUT电阻一般较大,不利于与前端电路匹配,且工作电压较高(约200V),不利于器件稳定。由于空腔的存在,薄膜悬于空腔上方,制作工艺较复杂。相对于CMUT,PMUT具有电阻小、驱动电压低,易与前端电路匹配,且制造工艺相对简单,可靠性高等特点,所以应用潜力更大。当前PMUT大多基于硅基底,虽刚性基底能很好的保护器件不受环境损坏,但是不易弯曲,限制了在可穿戴、可植入等领域的应用。
技术实现思路
针对上述当前PMUT大多基于硅基底,虽刚性基底能很好的保护器件不受环境损坏,但是不易弯曲,限制了在可穿戴、可植入等领域的应用的技术缺陷,本专利技术提供了一种基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器及制备方法。根据本专利技术的其中一方面,本专利技术为解决其技术问题,提供了一种基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器,包含柔性基底,柔性基底上设置一层底电极,底电极上设置一层压电层,压电层上设置多个表电极,所述多个表电极被划分为两组,每组中的各表电极之间通过导电引线电性连接,且各组的表电极上分别电性连接一根信号输出线,每组的其中一个表电极上分别设置有声阻抗匹配层。进一步地,在本专利技术的基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器中,所述柔性基底的制成材料包括聚醚砜、聚酰亚胺、聚乙烯醇、聚二甲基硅氧烷以及涤纶树脂。进一步地,在本专利技术的基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器中,其特征在于,所述压电层3为金属掺杂的ZnO压电薄膜。进一步地,在本专利技术的基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器中,所述ZnO压电薄膜掺杂的金属元素包括Al、Fe、Cu以及Ga,掺杂质量占比为1%~3%。进一步地,在本专利技术的基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器中,所述底电极上的ZnO压电薄膜采用溅射技术制作得到。进一步地,在本专利技术的基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器中,所述底电极和所述表电极的材料包括:铝、银、金以及多晶硅。根据本专利技术的另一方面,本专利技术为解决其技术问题,还提供了一种基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器的制作方法,包含如下步骤:a、在柔性基底上沉积一层金属膜作为底电极;b、在底电极上利用溅射技术制作一层金属掺杂的ZnO压电薄膜作为压电层;c、在压电层上旋涂上光刻胶;d、然后通过曝光将掩模版上的图案转移到压电层上的光刻胶上,通过显影技术溶解曝光区域的光刻胶,形成裸露区域;e、在压电层上裸漏区域沉积上表电极;f、在表电极上再次旋涂一层光刻胶;g、然后再次通过曝光将掩模版上的图案转移到表电极上的光刻胶上,通过显影技术溶解曝光区域的光刻胶,形成裸露区域;h、在表电极层上裸漏区域沉积一层或者多层声阻抗匹配层,i、最后去除光刻胶,得到基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器。进一步地,在本专利技术的基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器的制作方法中,所述柔性基底的制成材料包括聚醚砜、聚酰亚胺、聚乙烯醇、聚二甲基硅氧烷以及涤纶树脂。进一步地,在本专利技术的基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器的制作方法中,所述ZnO压电薄膜掺杂的金属元素包括Al、Fe、Cu以及Ga,掺杂质量占比为1%~3%。进一步地,在本专利技术的基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器的制作方法中,所述底电极和所述表电极的材料包括铝、银、金以及多晶硅。实施本专利技术的基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器及其制作方法,具有以下有益效果:本专利技术中超声换能器具有柔性基底,柔韧性好,应用范围广,采用溅射技术直接生成金属掺杂的ZnO压电薄膜作为压电层,工艺简单,各表电极制作在同一压电层上,制作工艺简单,并可大规模列阵集成化,提高压电换能器的应用能力。附图说明下面将结合附图及实施例对本专利技术作进一步说明,附图中:图1是基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器一实施例的结构示意图;图2是图1中A-A剖面示意图;图3是压电超声换能器制作过程一实施例的示意图。具体实施方式为了对本专利技术的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解,现对照附图详细说明本专利技术的具体实施方式。参考图1以及图2,图1是基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器一实施例的结构示意图,本实施例的压电式柔性超声换能器包含柔性基底1,柔性基底1上设置一层底电极2,柔性基地1和底电极2均为方形,二者形状大小相同,底电极2上设置一层压电层3,压电层3也为方形,压电层3的四边与底电极2的四边分别存在一定距离,因此底电极2略小于压电层3,但在本专利技术的其他实施例中,底电极2也可以恰好完全覆盖压电层3。压电层3上设置多个表电极4,所述多个表电极4被划分为两组,在本实施例中,表电极4的数量为8个,每4个为一组,大致按照压电层3的斜对角线进行划分。每组中的各表电极4之间通过导电引线电性连接,且各组的表电极4上分别电性连接一根信号输出线,每组的其中一个表电极4上分别设置有声阻抗匹配层5,在本实施例中如图1所示,在左下角和右上角的表电极4上分别设置有声阻抗匹配层5,声阻抗匹配层5为单层或者多层结构,用于提高换能器的带宽和声波透射效率。声阻抗匹配层5为现有技术,包括基体和填料,基体一般是环氧树脂等溶剂,填料有氧化铝粉、二氧化硅、钨粉、钛酸锶粉末等,采用沉积方式形成,沉积方式一般是浇铸法、刮刀法、旋涂法等方法,形成多层结构时,一层沉积完成后,就可以沉积第二层了,一次类推。在具体应用实例中,根据实际需求,柔性基底1的制成材料包括聚醚砜、聚酰亚胺、聚乙烯醇、聚二甲基硅氧烷以及涤纶树脂等。压电层3为金属掺杂的ZnO压电薄膜,ZnO压电薄膜掺杂的金属元素包括Al、Fe、Cu以及Ga,掺杂质量占比为1%~3%,压电层3使用溅射技术进行沉积,如直流溅射、磁控溅射、射频溅射等技术,沉积厚度可以几微米到几十微米,例如3微米到90微米,具体根据实际需求而定。底电极2和表电极4的材料可以金属材料,如铝、银、金等,也可以是多晶硅等导电材料,厚度般在200nm到10μm之间,底电极2和表电极4都是通过真空溅射镀上的,掺杂其他金属元素,是为了改变电极的一些特性,如抗氧化性、抗腐蚀性、导电性等,掺杂的方式是使用的靶材含有掺杂的金属元素,或者2个靶同时溅射,掺杂质量占比在1%~3%左右。参考图3,图3是压电超声换能器制作过程一实施例的示意图,用于制作上述的基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器。本实施例的基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器的制作方法包含如本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器,其特征在于,包含柔性基底,柔性基底上设置一层底电极,底电极上设置一层压电层,压电层上设置多个表电极,所述多个表电极被划分为两组,每组中的各表电极之间通过导电引线电性连接,且各组的表电极上分别电性连接一根信号输出线,每组的其中一个表电极上分别设置有声阻抗匹配层。/n

【技术特征摘要】
1.一种基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器,其特征在于,包含柔性基底,柔性基底上设置一层底电极,底电极上设置一层压电层,压电层上设置多个表电极,所述多个表电极被划分为两组,每组中的各表电极之间通过导电引线电性连接,且各组的表电极上分别电性连接一根信号输出线,每组的其中一个表电极上分别设置有声阻抗匹配层。


2.根据权利要求1所述的基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器,其特征在于,所述柔性基底的制成材料包括聚醚砜、聚酰亚胺、聚乙烯醇、聚二甲基硅氧烷以及涤纶树脂。


3.根据权利要求1所述的基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器,其特征在于,所述压电层为金属掺杂的ZnO压电薄膜。


4.根据权力要求3所述的基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器,其特征在于,所述ZnO压电薄膜掺杂的金属元素包括Al、Fe、Cu以及Ga,掺杂质量占比为1%~3%。


5.根据权力要求1所述的基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器,其特征在于,所述底电极上的ZnO压电薄膜采用溅射技术制作得到。


6.根据权力要求1所述的基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器,其特征在于,所述底电极和所述表电极的材料包括:铝、银、金以及多晶硅。


7.一种基于MEMS技术的压电式柔性超声换能器的制作方...

【专利技术属性】
技术研发人员:王文王威祝志刚
申请(专利权)人:光奥科技武汉有限公司
类型:发明
国别省市:湖北;42

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