一种气体压力调节装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于半导体制造技术领域，尤其是一种气体压力调节装置，包括沉积炉，所述沉积炉的顶部固定安装有出气管，出气管的顶部固定安装有安装箱，所述出气管内活动安装有活动杆，活动杆的一端固定套接有位于出气管内的且与出气管相适配的活塞，活塞为锥形设置，活动杆的另一端延伸至安装箱内的被挤压板，所述安装箱的一侧开设有转孔，转孔内转动安装有圆杆，圆杆的两端均延伸至转孔外且一端延伸盒至安装箱内且固定套接有圆杆，圆杆位于被挤压板的上方。本实用新型专利技术结构简单、使用方便、便于调节沉积炉的出气孔的开口开度、便于调节沉积炉内部的气压。

【技术实现步骤摘要】
一种气体压力调节装置
本技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种气体压力调节装置。
技术介绍
在半导体制造工艺流程中，需要在晶圆上沉积各种薄膜以形成半导体结构。沉积薄膜的方法有多种，化学气相沉积是其中较为常见的一种方法。化学气相沉积是将反应气体输送到高温沉积炉管，使其与炉管内的晶圆在一定条件下发生化学反应，以此在晶圆表面沉积一层薄膜。申请号为CN201520248650.8的专利提供一种沉积炉管，至少包括：外管、设置于所述外管内的内管以及设置于所述内管内的晶舟，其中，所述外管上设置有送气口及排气口，所述内管的底部开口，所述内管的顶部设置有引导气流的孔筛。然而由于沉积炉都是在高温情况作业，因此需要气体压力调节阀调解前端炉腔压力的功能，上述专利中缺少此种装置，因此在现有技术的基础上，本专利进行了改进。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种气体压力调节装置。为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：一种气体压力调节装置，包括沉积炉，所述沉积炉的顶部固定安装有出气管本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气体压力调节装置，包括沉积炉（1），其特征在于，所述沉积炉（1）的顶部固定安装有出气管（4），出气管（4）的顶部固定安装有安装箱（10），所述出气管（4）内活动安装有活动杆（5），活动杆（5）的一端固定套接有位于出气管（4）内的且与出气管（4）相适配的活塞（2），活塞（2）为锥形设置，活动杆（5）的另一端延伸至安装箱（10）内的被挤压板（6），所述安装箱（10）的一侧开设有转孔，转孔内转动安装有圆杆（11），圆杆（11）的两端均延伸至转孔外且一端延伸盒至安装箱（10）内且固定套接有圆盘（9），圆盘（9）位于被挤压板（6）的上方。/n

【技术特征摘要】
1.一种气体压力调节装置，包括沉积炉（1），其特征在于，所述沉积炉（1）的顶部固定安装有出气管（4），出气管（4）的顶部固定安装有安装箱（10），所述出气管（4）内活动安装有活动杆（5），活动杆（5）的一端固定套接有位于出气管（4）内的且与出气管（4）相适配的活塞（2），活塞（2）为锥形设置，活动杆（5）的另一端延伸至安装箱（10）内的被挤压板（6），所述安装箱（10）的一侧开设有转孔，转孔内转动安装有圆杆（11），圆杆（11）的两端均延伸至转孔外且一端延伸盒至安装箱（10）内且固定套接有圆盘（9），圆盘（9）位于被挤压板（6）的上方。


2.根据权利要求1所述的一种气体压力调节装置，其特征在于，所述安装箱（10）的一侧沿水平方向上开设有通孔，通孔内活动安装有拉杆（13），拉杆（13）的两端均延伸至通孔外且一端延伸至安装箱（10）内且固定安装有齿条（7），所述圆杆（11）上固定套接有位于安装箱（10）内的齿轮（8），齿轮（8）与齿条（7）相啮合，拉杆（13）的另一端固定安装有把手（15）。


3.根据权利要求1所述的一种气体压力调节装置，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴桂星，
申请(专利权)人：湖州新奥利吸附材料有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33