平板显示器用防护膜框架及其制造方法技术

本发明专利技术提供一种通过控制外观颜色而使曝光光线的散射防止和使用前的异物无附着检査等能够容易地进行的FPD用防护膜框架及其有效的制造方法。本发明专利技术的FPD用防护膜框架由具有透明氧化覆膜的不锈钢材料构成，透明氧化覆膜的膜厚为420nm～700nm。利用透明氧化覆膜的表面和不锈钢材料的表面所产生的反射光的干涉色，优选明度指数L

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】平板显示器用防护膜框架及其制造方法
本专利技术涉及在平板显示器(FPD)面板的制造中防止异物附着于光刻工序中所使用的光掩模和光罩的防护膜组件(pellicle)的框架及其制造方法，特别是涉及大型的FPD用防护膜框架及其制造方法。
技术介绍
LSI和超LSI等半导体装置和FPD面板通过向半导体晶片或FPD用原版照射光而形成图案(利用光刻形成图案)。其中，在使用附着有灰尘的曝光原版时，该灰尘会吸收和/或反转光，因此无法良好地转印图案(例如，会发生图案的变形和边缘的不清晰)。其结果，有半导体装置或FPD面板的品质和外观等受损，发生性能或制造成品率下降这样的问题。因此，涉及光刻的工序通常在无尘室内进行，但即使是在该环境下，也无法完全防止灰尘向曝光原版的附着，因此通常会在曝光原版的表面设置有用于遮挡灰尘的防护膜组件。防护膜组件由防护膜框架和张紧设置于该防护膜框架的防护膜构成，设置为包围形成于曝光原版表面的图案区域。只要在光刻时对焦在曝光原版的图案上，即使是在灰尘附着于防护膜的情况下，该灰尘也无法对转印产生影响。因此，即使现有的一般的半导体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种平板显示器FPD用防护膜框架，其特征在于：/n由具有透明氧化覆膜的不锈钢材料构成，/n所述透明氧化覆膜的膜厚为420nm～700nm。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180828 JP 2018-1590051.一种平板显示器FPD用防护膜框架，其特征在于：
由具有透明氧化覆膜的不锈钢材料构成，
所述透明氧化覆膜的膜厚为420nm～700nm。


2.如权利要求1所述的FPD用防护膜框架，其特征在于：
利用所述透明氧化覆膜的表面和所述不锈钢材料的表面所产生的反射光的干涉色，明度指数L*值为33以下。


3.如权利要求1或2所述的FPD用防护膜框架，其特征在于：
所述干涉色为黑色、灰色或品红色。


4.如权利要求1～3中任一项所述的FPD用防护膜框架，其特征在于：
所述不锈钢材料为奥氏体系不锈钢材料。


5.如权利要求1～3中任一项所述的FPD用防护膜框架，其特征在于：
所述不锈钢材料为马氏体系不锈钢材料。


6.如权利要求1～5中任一项所述的FPD用防护膜框架，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：古村直人，中野耕一，饭塚章，
申请(专利权)人：日本轻金属株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP