【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】防护膜组件用支撑框、防护膜组件及防护膜组件用支撑框的制造方法、以及使用防护膜组件的曝光原版和曝光装置
本专利技术涉及通过光刻技术制造半导体器件等时使用的光掩模或分划板(以下，将它们统称为“光掩模”)及作为防止尘埃附着的光掩模用防尘罩的防护膜组件等。特别是，本专利技术涉及极紫外光(ExtremeUltraviolet：EUV)光刻用的防护膜组件用支撑框、防护膜组件及防护膜组件用支撑框的制造方法、以及使用防护膜组件的曝光原版和曝光装置。
技术介绍
半导体元件是经过被称为光刻的工序而制造的。在光刻中，使用被称为扫描器或步进器的曝光装置对描绘有电路图案的掩模照射曝光光，将电路图案转印到涂敷有光致抗蚀剂的半导体晶片上。迄今为止，光刻的波长正在短波化，作为下一代的光刻技术，正在进行EUV光刻的开发。EUV光是指软X射线区域或真空紫外线区域的波长的光，是指13.5nm±0.3nm左右的光线。EUV光容易被所有物质吸收，因此在EUV光刻中需要在曝光装置中进行真空曝光。EUV光容易被所有物质吸收，因此配置在防护膜组件上的防护膜也需要是...
【技术保护点】
1.一种防护膜组件用支撑框，具有第一支撑框部、第二支撑框部和过滤器，其特征在于，/n所述过滤器具有平板状的框形状，被所述第一支撑框部和所述第二支撑框部夹持，/n所述第一支撑框部具有：第一主体部，具有平板状的框形状；以及第一卡合部，从所述第一主体部向所述防护膜组件用支撑框的厚度方向突出，/n所述第二支撑框部具有：第二主体部，具有平板状的框形状；以及第二卡合部，配置在所述第二主体部的沿所述防护膜组件用支撑框的厚度方向设置的凹部，并与所述第一卡合部卡合。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180612 JP 2018-1116481.一种防护膜组件用支撑框，具有第一支撑框部、第二支撑框部和过滤器，其特征在于，
所述过滤器具有平板状的框形状，被所述第一支撑框部和所述第二支撑框部夹持，
所述第一支撑框部具有：第一主体部，具有平板状的框形状；以及第一卡合部，从所述第一主体部向所述防护膜组件用支撑框的厚度方向突出，
所述第二支撑框部具有：第二主体部，具有平板状的框形状；以及第二卡合部，配置在所述第二主体部的沿所述防护膜组件用支撑框的厚度方向设置的凹部，并与所述第一卡合部卡合。
2.根据权利要求1所述的防护膜组件用支撑框，其特征在于，
所述第一卡合部具有：第一延伸部，从所述第一主体部沿所述防护膜组件用支撑框的厚度方向延伸；以及第二延伸部，从所述第一延伸部的与所述第一主体部相反侧的端部沿与所述防护膜组件用支撑框的厚度方向交叉的方向延伸，
所述第二卡合部具有：第一槽部，从位于所述第一支撑框部侧的所述第二支撑框部的第一面沿所述防护膜组件用支撑框的厚度方向延伸；以及第二槽部，从所述第一槽部的底部沿与所述防护膜组件用支撑框的厚度方向交叉的方向延伸，
所述第二延伸部的至少一部分被收容在所述第二槽部。
3.根据权利要求1所述的防护膜组件用支撑框，其特征在于，
所述过滤器在与所述第一卡合部及所述第二卡合部对应的位置具有开口，
所述第一卡合部贯通所述开口，并与所述第二卡合部卡合。
4.根据权利要求2所述的防护膜组件用支撑框，其特征在于，
所述第二卡合部具有从所述第二槽部的底部向所述第一面的方向离开配置的固定件，
所述第二槽部由所述第一槽部的底部和所述固定件构成。
5.根据权利要求4所述的防护膜组件用支撑框，其特征在于，
所述固定件具有与夹具能够卡合的第三卡合部。
6.根据权利要求1所述的防护膜组件用支撑框，其特征在于，
还具有通气孔，该通气孔将所述防护膜组件用支撑框的内缘部和外缘部连接，并配置有所述过滤器。
7.根据权利要求6所述的防护膜组件用支撑框，其特征在于，
所述通气孔具有：
第一孔，配置有所述过滤器，并沿与所述防护膜组件用支撑框的厚度方向大致平行的第一方向延伸；以及
第二孔，与所述第一孔的第一端部连接，沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸，并在所述内缘部或所述外缘部具有开口。
8.根据权利要求7所述的防护膜组件...
【专利技术属性】
技术研发人员：石川彰，大久保敦，小野阳介，高村一夫，
申请(专利权)人：三井化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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