含有氟基团的离型膜制造技术

本发明专利技术涉及含有氟基团的离型膜。本发明专利技术可以提供这样的含有氟基团的离型膜，所述含有氟基团的离型膜由于改善的涂层特性而具有优异的可剥离性，其离型层的优异的外观特性，可以减少在涂覆期间发生的缺陷(例如针孔)的数量，并且可以提高产品的成本效益。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含有氟基团的离型膜
本专利技术涉及含有氟基团的离型膜，并且更特别地涉及其中包含含有氟基团的有机聚硅氧烷和不含氟基团的有机聚硅氧烷的离型涂覆溶液被施加在聚酯基础膜的至少一个表面上的含有氟基团的离型膜。
技术介绍
通常，基于有机硅的粘合剂具有诸如耐热性、耐摩擦性和柔性的优点，并因此广泛应用于柔性显示器等。此外，基于有机硅的粘合剂由于其优异的电绝缘性、低毒性和耐低温性而用于广泛的应用中。当使用这样的基于有机硅的粘合剂时，需要具有优异的可剥离性的离型膜。通常已知的基于有机硅的离型膜具有以下问题：当将离型涂层层合至有机硅粘合剂层时，离型涂层中的有机硅具有与有机硅粘合剂层的良好的相容性，并因此不发生剥离。为此，作为与基于有机硅的粘合剂一起使用的离型膜，通常使用涂覆有包含基于氟的树脂的脱模剂的膜。然而，由于用作脱模剂的包含基于氟的树脂的脱模剂具有低的表面能并且与一般的有机油不相容，因此可能引起涂层缺陷(例如针孔缺陷)，使得当对涂覆溶液进行稀释或涂覆时必须使用基于氟的溶剂。此外，由于基于氟的溶剂非常易挥发，因此当对膜进行涂覆时难以保持涂层厚度恒定，并因此可能发生由于涂覆期间的差的流平性导致的涂层的斑染(staining)以及由于涂层厚度变化导致的剥离强度变化。为了消除基于氟的聚合物不能用不含氟的有机溶剂溶解的问题，已经提出了含苯基的基于有机硅的粘合剂和加成反应有机硅脱模剂的组合以允许发生剥离(例如，日本专利特许公开第H10-147758号)，但存在诸如剥离强度随时间增加的缺点。此外，由于基于氟的溶剂和包含基于氟的树脂的脱模剂比一般有机溶剂和基于有机硅的脱模剂贵数十倍，因此它们在生产率方面存在若干缺点。因此，尽管基于有机硅的粘合剂的特性优异，但是这样的离型膜的使用由于这些缺点而并不按指数律地增长。[现有技术文献][专利文献](专利文献1)日本专利特许公开第H10-147758号
技术实现思路
技术问题设计了本专利技术以解决前述问题并满足常规需求，以及本专利技术的一个目的是这样的含氟基团的离型膜，所述含氟基团的离型膜由于改善的涂层特性而具有优异的可剥离性，其离型层的优异的外观特性，可以减少涂覆期间发生的缺陷(例如针孔)的数量，并且可以提高产品的成本效益。通过阅读举例说明了本专利技术的优选实施方案的以下描述，本专利技术的前述和其他目的和优点将对本领域技术人员而变得明显。技术方案以上目的通过这样的含氟基团的离型膜来实现，所述含氟基团的离型膜包括基础膜和定位在基础膜的至少一个表面上的离型层，其中离型层为包含含氟基团的有机聚硅氧烷(A)和不含氟基团的有机聚硅氧烷(B)的离型涂覆溶液的固化层，以及离型层具有从表面向其深部减小的氟原子与硅原子的含量比。在此，离型涂覆溶液还可以包含氢聚硅氧烷。优选地，含氟基团的有机聚硅氧烷(A)每分子可以包含来自具有2至10个碳原子的烯基、氟烷基、或氟醚基中的至少一者的至少一个含氟取代基。优选地，含氟基团的有机聚硅氧烷(A)可以具有下式1的结构：(式1)其中Ra为除具有1至10个碳原子的脂族不饱和基团之外的一价烃基或具有2至10个碳原子的烯基，Rb为除具有1至10个碳原子的脂族不饱和基团之外的一价烃基、具有2至10个碳原子的烯基、或氢基，Rc为以下中的至少一者：包含氟烷基或氟醚基中的至少一者的至少一个含氟取代基并且除具有1至10个碳原子的脂族不饱和基团之外的一价烃基、具有2至10个碳原子的烯基、和氢基，以及X、Y和Z各自为大于或等于1的整数。优选地，氟烷基可以具有下式2的结构：(式2)其中n为1至8的整数以及m为1至5的整数。优选地，氟醚基可以具有下式3的结构：(式3)其中p为1至5的整数，q为0或1的整数，r为0至2的整数，m为1至5的整数，以及X为氧原子或单键。优选地，不含氟基团的有机聚硅氧烷(B)每分子可以包含具有2至10个碳原子的烯基或烷基。优选地，不含氟基团的有机聚硅氧烷(B)可以具有下式4的结构：(式4)其中Ra为除具有1至10个碳原子的脂族不饱和基团之外的一价烃基、或具有2至10个碳原子的烯基，Rb为除具有1至10个碳原子的脂族不饱和基团之外的一价烃基、具有2至10个碳原子的烯基、或氢基，以及X和Y各自为大于或等于1的整数。优选地，基础膜可以为聚酯基础膜并且可以为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)或聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯(PEN)。优选地，基于100重量份的含氟基团的有机聚硅氧烷(A)，不含氟基团的有机聚硅氧烷(B)可以以10重量份至900重量份的量包含在内。优选地，对于全部有机聚硅氧烷(A)和有机聚硅氧烷(B)的一个烯基，氢聚硅氧烷的与硅原子键合的氢基可以包含1.0至3.0个氢基。优选地，有机聚硅氧烷(A)和有机聚硅氧烷(B)可以包括加成反应硅氧烷树脂、缩合反应硅氧烷树脂、和紫外固化的硅氧烷树脂中的一种或更多种类型。优选地，作为X-射线光电子能谱(XPS)分析的结果，基于100原子％的硅原子，离型层的表面可以包含80原子％或更多的氟原子。优选地，作为XPS分析的结果，基于100原子％的硅原子，离型层的深部可以包含少于80原子％的氟原子。优选地，离型层在干燥之后的厚度可以为0.03μm至2.0μm。优选地，离型层与基于有机硅的粘合剂之间的剥离强度在180度的剥离角度和0.3mpm的剥离速率下可以为0.5gf/25mm至20gf/25mm。优选地，离型膜的残留粘附率可以为85％或更大。优选地，离型层的每A4尺寸区域的针孔的数量可以为2个或更少。有益效果根据本专利技术，可以在离型涂覆溶液中不使用基于氟的溶剂的情况下对涂覆溶液进行稀释和涂覆，使得涂层特性增强，离型层的外观特性得到改善，并且在涂覆期间发生的缺陷(例如针孔)的数量减少。此外，可剥离性和剥离强度变化可以通过均匀的涂层而得到改善。此外，根据本专利技术，由于可以减少昂贵的含氟基团的有机聚硅氧烷的使用量并且不使用昂贵的基于氟的溶剂，因此可以提高产品的成本效益。然而，本专利技术的效果不限于前述效果，并且以上未提及的其他效果通过以下描述将对本领域技术人员是明显的。附图说明图1为根据本专利技术的一个实施方案的含氟基团的离型膜的示意性截面图。具体实施方式在下文中，将参照附图详细地描述本专利技术的实施方案以便由本领域普通技术人员容易地实践。应当理解，本专利技术不应被解释为限于本文所陈述的实施方案并且可以以多种不同的形式呈现。除非另外定义，否则本文中所使用的所有技术和科学术语都具有与本专利技术所属领域的普通技术人员通常理解的相同的含义。在冲突的情况下，以本说明书(包括定义)为准。此外，尽管与本文描述的方法和材料类似或等同的方法和材料可以用于本专利技术的实践或测试中，但是本文描述了合适的方法和材料。如本文中所使用的，术语“本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种含有氟基团的离型膜，包括：/n基础膜；和/n定位在所述基础膜的至少一个表面上的离型层，/n其中所述离型层为包含含有氟基团的有机聚硅氧烷(A)和不含氟基团的有机聚硅氧烷(B)的离型涂覆溶液的固化层，以及所述离型层具有从表面向其深部减小的氟原子与硅原子的含量比。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20190411 KR 10-2019-00425601.一种含有氟基团的离型膜，包括：
基础膜；和
定位在所述基础膜的至少一个表面上的离型层，
其中所述离型层为包含含有氟基团的有机聚硅氧烷(A)和不含氟基团的有机聚硅氧烷(B)的离型涂覆溶液的固化层，以及所述离型层具有从表面向其深部减小的氟原子与硅原子的含量比。


2.根据权利要求1所述的含有氟基团的离型膜，
其中所述离型涂覆溶液还包含氢聚硅氧烷。


3.根据权利要求1所述的含有氟基团的离型膜，
其中所述含有氟基团的有机聚硅氧烷(A)每分子包含来自具有2至10个碳原子的烯基、氟烷基、或氟醚基中的至少一者的至少一个含氟取代基。


4.根据权利要求1所述的含有氟基团的离型膜，
其中所述含有氟基团的有机聚硅氧烷(A)具有下式1的结构：
(式1)



其中Ra为除具有1至10个碳原子的脂族不饱和基团之外的一价烃基或具有2至10个碳原子的烯基，Rb为除具有1至10个碳原子的脂族不饱和基团之外的一价烃基、具有2至10个碳原子的烯基、或氢基，Rc为以下中的至少一者：包含氟烷基或氟醚基中的至少一者的至少一个含氟取代基并且除具有1至10个碳原子的脂族不饱和基团之外的一价烃基、具有2至10个碳原子的烯基、和氢基，以及X、Y和Z各自为大于或等于1的整数。


5.根据权利要求4所述的含有氟基团的离型膜，
其中所述氟烷基具有下式2的结构：
(式2)



其中n为1至8的整数以及m为1至5的整数。


6.根据权利要求4所述的含有氟基团的离型膜，
其中所述氟醚基具有下式3的结构：
(式3)



其中p为1至5的整数，q为0或1的整数，r为0至2的整数，m为1至5的整数，以及X为氧原子或单键。


7.根据权利要求1所述的含有氟基团的离型膜，
其中所述不含氟基团的有机聚硅氧烷(B)每分子包含具有2至10个碳原子的烯基或烷基。


8.根据权利要求1所述的含有氟基团的离型膜，
其中所述不含氟基团的有机聚硅氧烷(B)具有下式4的结构：
(式4...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹宗郁，禹惠美，
申请(专利权)人：东丽先端素材株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR