OLED器件的制备方法及OLED器件技术

一种OLED器件的制备方法，所述方法包括：在一衬底基板上制备阳极金属层；在所述阳极金属层上制备空穴注入层，若检测出所述空穴注入层的表面发生成膜不均匀现象，则对所述空穴注入层进行第一返工清洗流程后重新制备所述空穴注入层；在所述空穴注入层上制备空穴传输层，若检测出所述空穴传输层的表面发生成膜不均匀现象，则对所述空穴传输层进行第二返工清洗流程后重新制备所述空穴传输层；在所述空穴传输层上制备有机发光层，若检测出所述有机发光层的表面发生成膜不均匀现象，则对所述有机发光层进行所述第二返工清洗流程后重新制备所述有机发光层；依次在所述有机发光层上沉积电子传输层、电子注入层以及阴极金属层，最后得到所述OLED器件。

【技术实现步骤摘要】
OLED器件的制备方法及OLED器件
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种OLED器件的制备方法及OLED器件。
技术介绍
OLED器件(OrganicLightEmittingDiode，有机发光二极体)以其低功耗、响应速度快、对比度高，色域广、较LCD(LiquidCrystalDisplay，液晶显示器)轻薄、可实现柔性显示等特殊品质，正在逐渐扩大其市场影响力。目前主流量产OLED器件的工艺为FMM(FineMetalMask，精细金属掩膜版)蒸镀工艺，可实现小尺寸高PPI(PixelsPerInch，像素密度)的OLED屏幕的量产。在大尺寸OLED显示领域，韩国LG公司采用蒸镀工艺实现量产，但大尺寸蒸镀工艺以及膜层结构复杂，良率低，物料成本高，暂时难以实现低成本制备OLED器件。利用喷墨打印(InkjetPrint，IJP)技术，可以通过打印机的喷头，精确将发光材料喷印在像素界定层限定的范围内，并通过调整溶质的浓度，控制成膜的厚度。这一方案相比目前的蒸镀有机物的方案，存在几个显著优点：1、节省材料，可以仅在发光需要的区域打印功能材料，而不需要通过掩膜版整面蒸镀；2、QD材料难以通过蒸镀方式制备成膜。喷墨打印OLED不需在真空中进行，只需要控制喷头精度即可实现高精度打印。但是目前IJP打印设备打印头稳定性不佳，会在打印过程中产生桥接(bridge，相邻的像素的墨水从像素定义层的凹槽中溢出而搭接在一起)的现象或者不同的子像素之间墨水体积不一致(体积差异≥1％)的状况，导致打印OLED器件的发光功能层后出现成膜不均匀(Mura)，造成显示不良现象发生，进而影响了OLED器件的生产良率。综上所述，有必要提供一种OLED器件的制备方法及OLED器件，以解决现有技术所存在的问题。
技术实现思路
本专利技术提供一种OLED器件的制备方法及OLED器件，以解决现有的OLED器件的制备方法及OLED器件，由于喷墨打印设备打印头稳定性不佳，会在打印过程中产生桥接现象或者不同的子像素之间墨水体积不一致的状况，导致打印OLED器件的发光功能层后出现成膜不均匀，造成显示不良现象发生，进而影响了OLED器件的生产良率的技术问题。为达到上述目的，本专利技术实施例采用如下技术方案：本专利技术提供一种OLED器件的制备方法，所述方法包括：S10，在一衬底基板上制备阳极金属层；S20，在所述阳极金属层上采用喷墨打印工艺制备空穴注入层，若检测出所述空穴注入层的表面发生成膜不均匀现象，则对所述空穴注入层进行第一返工清洗流程后重新制备所述空穴注入层，直至所述空穴注入层的表面没有不均匀现象；S30，在所述空穴注入层上采用喷墨打印工艺制备空穴传输层，若检测出所述空穴传输层的表面发生成膜不均匀现象，则对所述空穴传输层进行第二返工清洗流程后重新制备所述空穴传输层，直至所述空穴传输层的表面没有不均匀现象；S40，在所述空穴传输层上采用喷墨打印工艺制备有机发光层，若检测出所述有机发光层的表面发生成膜不均匀现象，则对所述有机发光层进行所述第二返工清洗流程后重新制备所述有机发光层，直至所述有机发光层的表面没有不均匀现象；S50，依次在所述有机发光层上沉积电子传输层、电子注入层以及阴极金属层，最后得到所述OLED器件。在一些实施例中，所述第一返工清洗流程处于密封的清洁干燥空气氛围，所述第二返工清洗流程处于密封的氮气氛围。在一些实施例中，所述第一返工清洗流程包括溶剂喷淋制程、剥离液喷淋制程、水喷淋制程、清洁干燥空气热风风刀制程以及第一复烘烤制程。在一些实施例中，所述剥离液喷淋制程中采用的剥离液为单乙醇胺、二甲亚砜以及四甲基氢氧化胺中的至少一种。在一些实施例中，所述第一复烘烤制程的烘烤温度为200～250℃，所述第一复烘烤制程的烘烤时间为5min～25min。在一些实施例中，所述第二返工清洗流程包括第一段所述溶剂喷淋制程、第二段所述溶剂喷淋制程、第三段所述溶剂喷淋制程、氮气热风风刀制程以及第二复烘烤制程。在一些实施例中，所述溶剂喷淋制程中采用的有机溶剂为2,3-丁二醇、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、一缩二丙二醇一甲醚、苯、丙酮、四氯化碳、己烷以及二甲苯中的至少一种。在一些实施例中，所述第二复烘烤制程的烘烤温度为160～230℃，所述第二复烘烤制程的烘烤时间为5min～25min。在一些实施例中，所述喷墨打印工艺包括滴入有机墨水阶段、冷真空干燥阶段以及烘烤阶段。本专利技术实施例又提供一种OLED器件，包括采用如上所述的喷墨打印制备OLED器件的方法制成的OLED器件。本专利技术实施例所提供的OLED器件的制备方法及OLED器件，在喷墨打印工艺制备OLED器件中的发光功能层出现成膜不均匀时，对问题膜层进行返工清洗流程后重新制备发光功能层，直至成膜不均匀现象消失，挽救了OLED器件的产品良率，进一步改善了OLED器件的发光效率，更进一步增强了OLED器件的寿命。附图说明下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式进行详细描述。图1为本专利技术实施例提供的OLED器件的制备方法的步骤流程图。图2为本专利技术实施例提供的OLED器件的制备方法的返工流程图。图3为本专利技术实施例提供的OLED器件的结构示意图。具体实施方式本申请提供一种OLED背板及其制备方法，为使本申请的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本申请进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。本申请实施例针对现有的OLED背板及其制备方法，通过增加透明导电膜膜厚对OLED器件的腔长进行弥补时，造成透明导电膜在反射金属层上蚀刻困难的技术问题，本实施例能够解决该缺陷。如图1所示，为本专利技术实施例提供的OLED器件的制备方法的步骤流程图。图2为本专利技术实施例提供的OLED器件的制备方法的返工流程图。其中，所述方法包括：S10，在一衬底基板上制备阳极金属层。具体地，所述S10还包括：首先，提供一衬底基板，所述衬底基板上设置有薄膜晶体管层和像素定义层，所述像素定义层包括像素区域。之后，在所述像素定义层的像素区域内沉积阳极金属层。优选地，所述衬底基板的主体材包括玻璃、塑料等透明材料，本专利技术对此不作任何限定。所述阳极金属层的主体材料包括但不限于氧化铟锡等。S20，在所述阳极金属层上采用喷墨打印工艺制备空穴注入层，若检测出所述空穴注入层的表面发生成膜不均匀现象，则对所述空穴注入层进行第一返工清洗流程后重新制备所述空穴注入层，直至所述空穴注入层的表面不发生成膜不均匀现象。具体地，所述S20还包括：首先，在所述阳极金属层远离所述衬底基板的表面滴入混有空穴注入层(HoleInjectLayer，HIL)材料的有机墨水，经过冷空气干燥阶段(VaccumColdDry，VCD)以及烘烤阶段(Bake)后形成空穴注入层(HoleInjectLayer本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种OLED器件的制备方法，其特征在于，所述方法包括：/nS10，在一衬底基板上制备阳极金属层；/nS20，在所述阳极金属层上采用喷墨打印工艺制备空穴注入层，若检测出所述空穴注入层的表面发生成膜不均匀现象，则对所述空穴注入层进行第一返工清洗流程后重新制备所述空穴注入层，直至所述空穴注入层的表面不发生成膜不均匀现象；/nS30，在所述空穴注入层上采用喷墨打印工艺制备空穴传输层，若检测出所述空穴传输层的表面发生成膜不均匀现象，则对所述空穴传输层进行第二返工清洗流程后重新制备所述空穴传输层，直至所述空穴传输层的表面不发生成膜不均匀现象；/nS40，在所述空穴传输层上采用喷墨打印工艺制备有机发光层，若检测出所述有机发光层的表面发生成膜不均匀现象，则对所述有机发光层进行所述第二返工清洗流程后重新制备所述有机发光层，直至所述有机发光层的表面不发生成膜不均匀现象；/nS50，依次在所述有机发光层上沉积电子传输层、电子注入层以及阴极金属层，最后得到所述OLED器件。/n

【技术特征摘要】
1.一种OLED器件的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
S10，在一衬底基板上制备阳极金属层；
S20，在所述阳极金属层上采用喷墨打印工艺制备空穴注入层，若检测出所述空穴注入层的表面发生成膜不均匀现象，则对所述空穴注入层进行第一返工清洗流程后重新制备所述空穴注入层，直至所述空穴注入层的表面不发生成膜不均匀现象；
S30，在所述空穴注入层上采用喷墨打印工艺制备空穴传输层，若检测出所述空穴传输层的表面发生成膜不均匀现象，则对所述空穴传输层进行第二返工清洗流程后重新制备所述空穴传输层，直至所述空穴传输层的表面不发生成膜不均匀现象；
S40，在所述空穴传输层上采用喷墨打印工艺制备有机发光层，若检测出所述有机发光层的表面发生成膜不均匀现象，则对所述有机发光层进行所述第二返工清洗流程后重新制备所述有机发光层，直至所述有机发光层的表面不发生成膜不均匀现象；
S50，依次在所述有机发光层上沉积电子传输层、电子注入层以及阴极金属层，最后得到所述OLED器件。


2.根据权利要求1所述的OLED器件的制备方法，其特征在于，所述第一返工清洗流程处于密封的清洁干燥空气氛围，所述第二返工清洗流程处于密封的氮气氛围。


3.根据权利要求2所述的OLED器件的制备方法，其特征在于，所述第一返工清洗流程包括溶剂喷淋制程、剥离液喷淋制程、水喷淋制程、清洁干燥空气热风风刀制程以及第一复烘烤制程。
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【专利技术属性】
技术研发人员：彭灿，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44