一种真空蒸镀用基片辅助降温装置制造方法及图纸

技术编号:27940811 阅读:29 留言:0更新日期:2021-04-02 14:22
本发明专利技术公开了一种真空蒸镀用基片辅助降温装置,包括设置在水冷基板和电池基片之间的降温系统,所述降温系统包括密闭设置的气囊和填充在气囊内部的可流动散热介质,所述降温系统与水冷基板的底面和电池基片贴合,在水冷降温的基础上,于降温组件和电池基片之间添加辅助降温的气囊,气囊同时与降温组件和电池基片形成紧密面接触,增加热传导效率,改善降温效果,避免电池膜层过热受损。

【技术实现步骤摘要】
一种真空蒸镀用基片辅助降温装置
本专利技术属于真空蒸镀领域,具体涉及一种真空蒸镀用基片辅助降温装置。
技术介绍
近年来发现的钙钛矿型太阳能电池由于高转换效率、低成本、环境友善、产品可挠化等优点正在受到越来越广泛的关注。其中,新型钙钛矿性太阳能电池的光电转换效率在短短几年内提升了数倍,表现出非常优异的光电性能,而钙钛矿太阳能电池的制备过程中经常用到PVD(物理气相沉积)技术,其中尤其以真空蒸镀最为常用,蒸镀过程中往往伴随着长时间的高温,钙钛矿电池基板在蒸镀时会由于温度过高而损坏电池功能层,因此,基板的温度控制问题亟待解决。而传统的基片降温技术通常采用刚性的水冷降温方法,由于大组件基片置于蒸镀位置时会发生一定程度的弯曲,而刚性的降温装置不能保证水冷基板和电池基片的紧密接触,而且最重要的是,高真空环境缺乏传热介质,在无法形成紧密接触的情况下,基片降温效果差。
技术实现思路
为了解决现有技术中存在的问题,本专利技术的目的是提供一种真空蒸镀用基片辅助降温装置,在水冷降温的基础上,于降温组件和电池基片之间添加辅助降温的气囊,气囊同时与降本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空蒸镀用基片辅助降温装置,其特征在于,包括设置在水冷基板(11)和电池基片(14)之间的降温系统,所述降温系统包括密闭设置的气囊(15)和填充在气囊(15)内部的可流动散热介质,所述降温系统与水冷基板(11)的底面和电池基片(14)贴合。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空蒸镀用基片辅助降温装置,其特征在于,包括设置在水冷基板(11)和电池基片(14)之间的降温系统,所述降温系统包括密闭设置的气囊(15)和填充在气囊(15)内部的可流动散热介质,所述降温系统与水冷基板(11)的底面和电池基片(14)贴合。


2.根据权利要求1所述的真空蒸镀用基片辅助降温装置,其特征在于,所述气囊(15)的上表面能够完全贴合水冷基板(11)的底面。


3.根据权利要求1所述的真空蒸镀用基片辅助降温装置,其特征在于,所述气囊(15)内设置有支撑装置(153),所述支撑装置竖向设置在气囊(15)中,在使用过程中,所述支撑装置(153)的顶部支撑在水冷板的下表面,所述支撑装置(153)的底部支撑在电池基片(14)的上表面。


4.根据权利要求3所述的真空蒸镀用基片辅助降温装置,其特征在于,所述支撑装置(153)为可伸缩立柱。


5.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:熊继光赵志国秦校军肖平赵东明邬俊波董超刘家梁王百月冯笑丹梁思超王森张杰
申请(专利权)人:华能新能源股份有限公司中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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