支撑单元、包括其的衬底处理装置以及衬底处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种用于支撑衬底的支撑单元。支撑单元可包括：具有内部空间的支撑板；加热构件，其布置在内部空间中并发射用于加热由支撑单元支撑的衬底的光；以及反射构件，其设置在支撑板的边缘区域处并且将光所具有的热能反射到由支撑单元支撑的衬底的边缘区域。

【技术实现步骤摘要】
支撑单元、包括其的衬底处理装置以及衬底处理方法
本专利技术涉及一种衬底处理装置，尤其涉及在衬底处理工艺中加热衬底的同时执行工艺的衬底处理装置。
技术介绍
通常，在平板显示器件制造或半导体制造工艺中处理玻璃衬底或晶圆的工艺中，执行光致抗蚀剂涂覆工艺(photoresistcoatingprocess)、显影工艺(developingprocess)、蚀刻工艺(etchingprocess)、灰化工艺(ashingprocess)等多种工艺。在每个工艺中，执行使用药液(chemical)或纯水(deionizedwater)的清洗工艺(wetcleaningprocess)以及用于干燥残留在衬底表面上的药液或纯水的干燥工艺(dryingprocess)，以去除附着在衬底上的各种污染物。其中，关于蚀刻工艺，近来，使用高温下使用的化学品(例如硫酸或磷酸)来选择性地去除氮化硅膜和氧化硅膜。另外，已使用在供应化学品时加热衬底以提高蚀刻效率的衬底处理装置。图1是示出在常规的衬底处理装置中加热衬底的状态的图。常规的衬底处理装置5000包括支撑板本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种衬底处理装置，其用于处理衬底，所述衬底处理装置包括：/n支撑单元，其用于支撑衬底；以及/n液体供应单元，其用于将处理液供应到由所述支撑单元支撑的衬底，/n其中所述支撑单元包括：/n支撑板，其具有内部空间；/n加热构件，其布置在所述内部空间中，并且发射用于加热由所述支撑单元支撑的衬底的光；以及/n反射构件，其设置在所述支撑板的边缘区域处，并且将所述光所具有的热能反射以传递到由所述支撑单元支撑的衬底的边缘区域。/n

【技术特征摘要】
20191002 KR 10-2019-01219401.一种衬底处理装置，其用于处理衬底，所述衬底处理装置包括：
支撑单元，其用于支撑衬底；以及
液体供应单元，其用于将处理液供应到由所述支撑单元支撑的衬底，
其中所述支撑单元包括：
支撑板，其具有内部空间；
加热构件，其布置在所述内部空间中，并且发射用于加热由所述支撑单元支撑的衬底的光；以及
反射构件，其设置在所述支撑板的边缘区域处，并且将所述光所具有的热能反射以传递到由所述支撑单元支撑的衬底的边缘区域。


2.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中所述反射构件包括：
倾斜部，其中当从正截面观看时，所述倾斜部以沿着所述支撑板的径向远离所述支撑板的中心的方向向上倾斜。


3.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中所述支撑单元包括用于夹持衬底的侧面的多个夹持销，并且
所述反射构件设置成多个，其中当从上方观看时，所述反射构件分别布置在相邻的所述夹持销之间。


4.根据权利要求3所述的衬底处理装置，其中所述反射构件布置成彼此组合以形成一部分被切除的环。


5.根据权利要求3所述的衬底处理装置，其中所述夹持销包括使所述光所具有的热能透射的材料。


6.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中所述加热构件设置成多个，并且设置成具有彼此不同的半径的同心环形状，并且所述反射构件设置在多个所述加热构件当中布置在最外侧的加热构件的更外侧。


7.根据权利要求6所述的衬底处理装置，其中所述加热构件包括：
倾斜部，其中当从正截面观看时，所述倾斜部以沿着所述支撑板的径向远离中心的方向向上倾斜，并且
所述支撑单元包括：
反射环，其布置在多个所述加热构件当中布置在最外侧的加热构件和与其相邻的加热构件之间，其中当从正截面观看时，所述反射环具有以与所述倾斜部相反的方向向上倾斜的形状。


8.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中所述支撑板包括：
上支撑板；和
下支撑板，所述下支撑板布置在所述上...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔叡珍，金大勋，尹嫝燮，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR