一种用于质谱成像的低温解吸电喷雾电离装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于质谱成像的低温解吸电喷雾电离装置及方法，装置包括载液毛细管、金属两通接头、电喷雾喷针、电喷雾喷针外围的雾化气套管、冷却装置、载气主管以及为金属两通接头提供直流高压的高压源；电喷雾喷针的头部伸出雾化气套管外，利用冷却装置对载气主管内的雾化气进行冷却降温，冷却后的雾化气从雾化气套管喷出形成电喷雾，溶剂经过金属两通接头后在被雾化气冷却，并从电喷雾喷针的头部形成泰勒锥喷出。本发明专利技术首次将低温条件应用到用于成像的解吸电喷雾电离技术中，减缓了解吸电喷雾的溶剂蒸发和库伦爆炸速率，使喷雾羽束更加汇聚，增加了其对样本表面的轰击动量，提高了质谱成像的检测灵敏度，从而提高了质谱成像的空间分辨率。

【技术实现步骤摘要】
一种用于质谱成像的低温解吸电喷雾电离装置及方法
本专利技术涉及质谱成像
，尤其涉及一种用于质谱成像的低温解吸电喷雾电离装置及方法。
技术介绍
质谱成像技术是一种免标记、高灵敏的成像分析方法。分析过程中，样品平台按照一定的规律移动，解吸电离得到的离子或碎片离子进入质谱仪，按质荷比(m/z)的不同进行测定，再由成像软件将测得的质谱数据转化成相应像素点并重构出目标化合物在样品表面的空间分布图像。解吸电离是质谱成像的关键步骤，其根据解吸电离方式的不同，已发展出基质辅助激光解吸电离(matrixassistedlaserdesorptionandionization，MALDI)、解吸电喷雾电离(desorptionelectrosprayionization，DESI)和二次离子质谱(secondaryionmassspectrometry，SIMS)等主流质谱成像技术。DESI是2004年由普渡大学Cooks教授课题组首次提出的一种常压敞开式电离技术，具有里程碑意义。DESI的解吸电离过程分为以下三步：1)在雾化气和直流高压作用下产生电本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于质谱成像的低温解吸电喷雾电离装置，其特征在于，包括依次连接的载液毛细管(20)、金属两通接头(30)和电喷雾喷针(40)、套设于所述电喷雾喷针(40)外围的雾化气套管(50)、冷却装置(60)、连通所述雾化气套管(50)以提供雾化气的载气主管(70)以及为所述金属两通接头(30)提供直流高压的高压源(80)；所述电喷雾喷针(40)的头部至少部分伸出所述雾化气套管(50)外，所述冷却装置(60)用于对所述载气主管(70)内的雾化气进行冷却降温，冷却后的雾化气从所述雾化气套管(50)喷出形成电喷雾，溶剂经过所述金属两通接头(30)后在所述雾化气套管(50)内被雾化气冷却，并从所述电喷雾...

【技术特征摘要】
1.一种用于质谱成像的低温解吸电喷雾电离装置，其特征在于，包括依次连接的载液毛细管(20)、金属两通接头(30)和电喷雾喷针(40)、套设于所述电喷雾喷针(40)外围的雾化气套管(50)、冷却装置(60)、连通所述雾化气套管(50)以提供雾化气的载气主管(70)以及为所述金属两通接头(30)提供直流高压的高压源(80)；所述电喷雾喷针(40)的头部至少部分伸出所述雾化气套管(50)外，所述冷却装置(60)用于对所述载气主管(70)内的雾化气进行冷却降温，冷却后的雾化气从所述雾化气套管(50)喷出形成电喷雾，溶剂经过所述金属两通接头(30)后在所述雾化气套管(50)内被雾化气冷却，并从所述电喷雾喷针(40)的头部形成泰勒锥喷出。


2.根据权利要求1所述的用于质谱成像的低温解吸电喷雾电离装置，其特征在于，所述冷却装置(60)还用于在溶剂进入金属两通接头(30)前，对所述载液毛细管(20)内的溶剂进行预冷降温。


3.根据权利要求2所述的用于质谱成像的低温解吸电喷雾电离装置，其特征在于，所述载气主管(70)的一部分设于所述冷却装置(60)内。


4.根据权利要求3所述的用于质谱成像的低温解吸电喷雾电离装置，其特征在于，还包括支管(80)，所述支管(80)连接所述载气主管(70)的中部，所述载液毛细管(20)部分穿设于所述支管(80)内。


5.根据权利要求3所述的用于质谱成像的低温解吸电喷雾电离装置，其特征在于，所述冷却装置(60)为液氮储藏罐，所述载气主管(70)的一部分浸没于所述液氮内。


6.根据权利要求4所述的用于质谱成像的低温解吸电喷雾电离装置，其特征在于，还包括第一气压调节...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗茜，吕悦广，邓卡，李芳，陈志宇，
申请(专利权)人：中国科学院深圳先进技术研究院，
类型：发明
国别省市：广东;44