本申请公开了阵列基板及制备方法、显示面板及制备方法、显示装置,用以避免引线电极大面积损伤、翘起断裂。本申请实施例提供的一种阵列基板,所述阵列基板包括:衬底基板;所述衬底基板包括:显示区以及所述显示区之外的周边区;所述周边区包括:去除区,以及位于所述去除区靠近所述显示区一侧的第一保留区;所述阵列基板还包括:位于所述衬底基板之上的多个从所述显示区延伸到所述去除区的引线电极;在所述第一保留区以及与所述第一保留区相邻的至少部分所述去除区,每一所述引线电极包括:交替阵列排布的多个第一电极部和多个第二电极部;所述第一电极部和所述第二电极部电连接;所述第一电极部和所述第二电极部的表面剥离力不同。
【技术实现步骤摘要】
阵列基板及制备方法、显示面板及制备方法、显示装置
本申请涉及显示
,尤其涉及阵列基板及制备方法、显示面板及制备方法、显示装置。
技术介绍
无边框大尺寸拼接产品为实现超窄边框技术,需要通过研磨、银胶转印和侧向焊接等工艺减少周边尺寸。侧向焊接工艺中,银胶和信号走线截面接触。但是将银胶与信号走线截面绑定之前,需要进行侧面研磨工艺,而在侧面研磨工艺中,容易出现信号走线局部破损、翘起断裂等问题,信号走线破损,会导致信号路径阻抗变大或开路,信号无法正常传输,出现严重线不良和信赖性问题,影响产品良率。
技术实现思路
本申请实施例提供了阵列基板及制备方法、显示面板及制备方法、显示装置,用以避免引线电极大面积损伤、翘起断裂。本申请实施例提供的一种阵列基板,所述阵列基板包括:衬底基板;所述衬底基板包括:显示区以及所述显示区之外的周边区;所述周边区包括:去除区,以及位于所述去除区靠近所述显示区一侧的第一保留区;所述阵列基板还包括:位于所述衬底基板之上的多个从所述显示区延伸到所述去除区的引线电极;在所述第一保留区以及与所述第一保留区相邻的至少部分所述去除区,每一所述引线电极包括:交替阵列排布的多个第一电极部和多个第二电极部;所述第一电极部和所述第二电极部电连接;所述第一电极部和所述第二电极部的表面剥离力不同。在一些实施例中,多个所述第一电极部在所述衬底基板上的正投影的图案与多个所述第二电极部在所述衬底基板上的正投影的图案互补。在一些实施例中,在所述衬底基板上,所述第一电极部的正投影的形状和所述第二电极部的正投影的形状均为矩形。在一些实施例中,各所述矩形的长度相等,各所述矩形的宽度相等。在一些实施例中,在所述引线电极的排列方向上,每一所述引线电极的宽度为70微米~100微米,每一所述第一电极部以及每一所述第二电极部的宽度均为5微米~10微米。在一些实施例中,所述周边区还包括:位于所述第一保留区和所述显示区之间的第二保留区;在所述第二保留区,所述引线电极包括与所述第一电极部和所述第二电极部接触的第三电极部。在一些实施例中,所述第一电极部的材料包括的导电材料与所述第二电极部包括的导电材料不相同;所述第三电极部包括的导电材料与所述第一电极部包括的导电材料相同。本申请实施例提供的一种阵列基板的制备方法,所述方法包括:提供衬底基板,所述衬底基板包括:显示区以及所述显示区之外的周边区;所述周边区包括:去除区,以及位于所述去除区靠近所述显示区一侧的第一保留区;在所述衬底基板之上形成从所述显示区延伸到所述去除区的引线电极;其中,在所述第一保留区以及与所述第一保留区相邻的至少部分所述去除区,每一所述引线电极包括:交替排列的多个第一电极部和多个第二电极部;所述第一电极部和所述第二电极部电连接;所述第一电极部和所述第二电极部的表面剥离力不同。在一些实施例中,在所述衬底基板之上形成从所述显示区延伸到所述去除区的引线电极,具体包括:在所述衬底基板之上沉积第一导电材料,形成第一导电层;对所述第一导电层进行图形化工艺,在所述第一保留区以及与所述第一保留区相邻的至少部分所述去除区形成多个所述第一电极部的图案;其中,相邻所述第一电极部之间具有第一开口;沉积第二导电材料,并在所述第一开口形成所述第二电极部的图案。本申请实施例提供的一种液晶显示面板的制备方法,所述方法包括:提供对向基板以及本申请实施例提供的阵列基板;采用对盒工艺将所述对向基板和所述阵列基板对盒,并在所述阵列基板和所述对向基板之间填充液晶;采用切割工艺和研磨工艺去除所述去除区的阵列基板和所述对向基板。本申请实施例提供的一种液晶显示面板,所述液晶显示面板包括:相对设置的阵列基板和对向基板,以及位于所述阵列基板和所述对向基板之间的液晶层;所述阵列基板包括:衬底基板;所述衬底基板包括:显示区以及所述显示区之外的周边区;所述阵列基板还包括多个从所述显示区延伸至所述周边区边缘的引线电极;在所述阵列基板的边缘,所述引线电极包括交替阵列排布的多个第一电极部和多个第二电极部;所述第一电极部和所述第二电极部电连接;所述第一电极部和所述第二电极部的表面剥离力不同。本申请实施例提供的一种显示装置,包括本申请实施例提供的液晶显示面板,导电部,以及驱动芯片;所述导电部在所述液晶显示面板的边缘与所述阵列基板的引线电极接触;所述驱动芯片与所述引线电极通过所述导电部电连接。综上所述,本申请实施例提供的阵列基板及其制备方法、显示面板及其制备方法、显示装置,在第一保留区以及与第一保留区相邻的部分去除区设置交替阵列排布的第一电极部和第二电极部,第一电极部和第二电极部电连接,从而可以保证引线电极在该区域有效导通。并且,在去除阵列基板去除区的过程中,由于第一电极部和第二电极部交替排列,并且第一电极部和第二电极部的表面剥离力不同,研磨侧向剪切力仅会导致研磨到的位置的小块的电极部剥离脱落,从而可以避免第一保留区的引线电极发生大面积剥离脱落,还可以避免引线电极翘起、断裂,从而避免引线电极路径阻抗变大或开路导致的信号无法传输,提高产品良率。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域的普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本申请实施例提供的一种阵列基板的结构示意图;图2为本申请实施例提供的沿图1中AA’的截面图;图3为本申请实施例提供的一种阵列基板的制备方法的示意图;图4为本申请实施例提供的另一种阵列基板的制备方法的示意图;图5为本申请实施例提供的一种显示面板的制备方法的示意图;图6为本申请实施例提供的另一种显示面板的制备方法的示意图;图7为本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图;图8为本申请实施例提供的一种显示装置的结构示意图。具体实施方式为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本申请实施例的附图,对本申请实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本申请的一部分实施例,而不是全部的实施例。并且在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。基于所描述的本申请的实施例,本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。除非另外定义,本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本申请所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本申请中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括:衬底基板;所述衬底基板包括:显示区以及所述显示区之外的周边区;所述周边区包括:去除区,以及位于所述去除区靠近所述显示区一侧的第一保留区;/n所述阵列基板还包括:位于所述衬底基板之上的多个从所述显示区延伸到所述去除区的引线电极;/n在所述第一保留区以及与所述第一保留区相邻的至少部分所述去除区,每一所述引线电极包括:交替阵列排布的多个第一电极部和多个第二电极部;所述第一电极部和所述第二电极部电连接;/n所述第一电极部和所述第二电极部的表面剥离力不同。/n
【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括:衬底基板;所述衬底基板包括:显示区以及所述显示区之外的周边区;所述周边区包括:去除区,以及位于所述去除区靠近所述显示区一侧的第一保留区;
所述阵列基板还包括:位于所述衬底基板之上的多个从所述显示区延伸到所述去除区的引线电极;
在所述第一保留区以及与所述第一保留区相邻的至少部分所述去除区,每一所述引线电极包括:交替阵列排布的多个第一电极部和多个第二电极部;所述第一电极部和所述第二电极部电连接;
所述第一电极部和所述第二电极部的表面剥离力不同。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,多个所述第一电极部在所述衬底基板上的正投影的图案与多个所述第二电极部在所述衬底基板上的正投影的图案互补。
3.根据权利要求1或2所述的阵列基板,其特征在于,在所述衬底基板上,所述第一电极部的正投影的形状和所述第二电极部的正投影的形状均为矩形。
4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,各所述矩形的长度相等,各所述矩形的宽度相等。
5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,在所述引线电极的排列方向上,每一所述引线电极的宽度为70微米~100微米,每一所述第一电极部以及每一所述第二电极部的宽度均为5微米~10微米。
6.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述周边区还包括:位于所述第一保留区和所述显示区之间的第二保留区;
在所述第二保留区,所述引线电极包括与所述第一电极部和所述第二电极部接触的第三电极部。
7.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,所述第一电极部的材料包括的导电材料与所述第二电极部包括的导电材料不相同;
所述第三电极部包括的导电材料与所述第一电极部包括的导电材料相同。
8.一种阵列基板的制备方法,其特征在于,所述方法包括:
提供衬底基板,所述衬底基板包括:显示区以及所述显示区之外的周边区;所述周边区包括:去除区,以及位于所述去除区靠近所述显示区一...
【专利技术属性】
技术研发人员:董殿正,崔晓鹏,陈维涛,张强,王光兴,林万,黄海琴,许文鹏,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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