一种单晶金刚石衬底光学常数测量方法技术

本发明专利技术公开了一种单晶金刚石衬底光学常数测量方法，包括：采用透射式椭偏测量方式和反射式椭偏测量方式分别测量单晶金刚石衬底；通过上述测量分别获得透射光谱(ψ

【技术实现步骤摘要】
一种单晶金刚石衬底光学常数测量方法
本专利技术涉及光学常数测量
，尤其涉及一种单晶金刚石衬底光学常数测量方法。
技术介绍
现有的种光学薄膜超宽带光学常数测试方法，如CN106706521A，包括：S1，首先将预设厚度的光学薄膜沉积在硅基底上；S2，测量所沉积光学薄膜紫外到近红外波段椭圆偏振光谱、红外波段的透射光谱；S3，根据光学薄膜的光谱数据，选择一段薄膜的透明区，采用Cauchy模型计算得到该波段范围的薄膜折射率n和厚度d1；S4，建立光学常数从紫外到红外宽光谱范围的光学常数模型，在吸收光谱区添加介电常数振子模型，振子的中心频率为吸收的位置，振子的幅度和宽度根据光谱数据进行调整；S5，将紫外到近红外波段椭圆偏振光谱和红外波段的透射光谱作为复合目标，对薄膜光学常数从紫外到红外全光谱范围内进行反演运算，其中厚度的初始值设定为d1，预设评价函数MSE，MSE是测量值与理论模型计算值的均方差，对MSE进行拟合，使MSE越小越好；S6，根据MSE拟合结果，得到介电常数模型的各个参数，进而得到紫外到红外超宽带光谱范围内薄膜的光学常数，包括折射率n、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种单晶金刚石衬底光学常数测量方法，其特征在于：包括：/nS1，采用透射式椭偏测量方式和反射式椭偏测量方式分别测量单晶金刚石衬底；/nS2，通过上述测量分别获得透射光谱(ψ

【技术特征摘要】
1.一种单晶金刚石衬底光学常数测量方法，其特征在于：包括：
S1，采用透射式椭偏测量方式和反射式椭偏测量方式分别测量单晶金刚石衬底；
S2，通过上述测量分别获得透射光谱(ψt、Δt)和反射光谱(ψr、Δr)，ψ表示出射光与入射光的振幅比，Δ表示出射光与入射光的相位差，下角标t表示透射式椭偏测量，下角标r表示反射式椭偏测量；
S3，依据上述测量获得光谱数据，采用Cauchy模型分别计算以获衬底光学常数，该光学常数至少包括衬底折射率n和消光系数k；
S4，评估拟合误差σ，当拟合误差超过预定条件，则优化光学模型或介电函数；
S5，比对优化后模型的拟合误差，选择一模型及测量方式以确定金刚石衬底的光学常数。


2.根据权利要求1所述的一种单晶金刚石衬底光学常数测量方法，其特征在于：该步骤S2中，透射光谱(ψt、Δt)定义为：



反射光谱(ψr，Δr)定义为：



t表示偏振振幅透射系数，r表示偏振振幅反射系数，下角标p和s分别表示由一束自然光分解出的p偏振光和s偏振光。


3.根据权利要求1所述的一种单晶金刚石衬底光学常数测量方法，其特征在于：该步骤S3中，Cauchy模型计算公式为：



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【专利技术属性】
技术研发人员：崔长彩，李子清，陆静，胡中伟，徐西鹏，黄辉，黄国钦，
申请(专利权)人：华侨大学，
类型：发明
国别省市：福建;35