聚酰亚胺基膜和包括其的柔性显示面板制造技术

技术编号:27866811 阅读:36 留言:0更新日期:2021-03-30 23:59
本发明专利技术提供了一种聚酰亚胺基膜、包括该聚酰亚胺基膜的窗覆盖膜和显示装置。具体而言,提供了一种在乙基溶纤剂中的溶解度满足以下式1的聚酰亚胺基膜:[式1]

【技术实现步骤摘要】
聚酰亚胺基膜和包括其的柔性显示面板相关申请的交叉引用本申请要求于2019年9月30日向韩国知识产权局提交的第10-2019-0120536号韩国专利申请的优先权,其全部内容通过引用整体并入本文。
本专利技术涉及一种聚酰亚胺基膜、包括该聚酰亚胺基膜的窗覆盖膜和显示面板。
技术介绍
显示装置包括设置在显示面板上的窗覆盖物,以保护显示面板免受刮擦或外部冲击,并且该窗覆盖物被构造为透明的,以便用户可以观看显示面板前方的显示单元。显示设备正逐渐变得更轻、更薄和更柔韧。因此,已经积极地研究了由具有高的硬度、高的刚度和柔韧性的聚合物膜制成的窗覆盖物来代替钢化玻璃。由于这种窗覆盖物形成在显示装置的最外侧,因此重要的是要具有高的显示质量并且防止发生由于光而引起的失真(distortion)的产生,该失真例如云纹(mura)现象、屏幕在特定角度看起来是黑色的黑屏(blackout)现象、或具有彩虹云纹(rainbowmura)的彩虹现象。特别是,由于涂层被层叠在基底层上以赋予窗覆盖物各种物理性能,因此引起光的漫反射,产生了光学云纹,当应用到显示器上时会使可视性劣化并引起眼睛疲劳。也就是说,已经开发了各种聚合物窗覆盖物材料来代替昂贵的钢化玻璃,但是需要开发一种能够解决由于窗覆盖物上的光引起的失真问题的窗覆盖膜。[相关技术文献][专利文献](专利文献1)韩国专利特开公开第10-2015-0104282号
技术实现思路
本专利技术的实施方案旨在提供一种窗覆盖膜,其能够防止出现光学云纹并使由于光引起的失真最小化。本专利技术的目的是解决在聚酰亚胺基膜上形成涂层的后置工序中,在施加了涂覆组合物之后,膜的雾度增加并产生光学云纹的问题,以制备窗覆盖膜。本专利技术的另一个实施方案旨在提供一种透明的聚酰亚胺基膜,该膜能够通过在涂覆工艺中调节涂覆组合物在溶剂中的溶解度,从而使诸如彩虹云纹或云纹的光学云纹的出现减到最少,来防止表面性质的改变或使表面性质的改变最小化。本专利技术的另一实施方案旨在提供一种具有优异可视性的显示面板。在一个总体方面,提供了一种聚酰亚胺基膜,其在乙基溶纤剂中的溶解度满足以下式1:[式1]其中,FW1是在浸入溶剂之前的初始膜的重量;FW2是在将膜浸入乙基溶纤剂中,在60℃放置2小时并冷却至室温,除去溶剂,并将膜在80℃下干燥4小时之后测得的膜的重量。溶解度可以为20%至50%。聚酰亚胺基膜可具有根据ASTMD882的4GPa以上的模量和8%以上的断裂伸长率,根据ASTMD1746在388nm下测得的5%以上的透光率和在400nm至700nm下测得的87%以上的总透光率,根据ASTMD1003的2.0%以下的雾度,和根据ASTME313的5.0以下的黄度和2.0以下的b*值。聚酰亚胺基膜可以具有聚酰胺-酰亚胺结构。聚酰亚胺基膜可包括衍生自氟基芳族二胺的单元、衍生自芳族二酐的单元、衍生自脂环族二酐的单元和衍生自芳族二酰氯的单元。脂环族二酐可以包括环丁烷四羧酸二酐(CBDA)。聚酰亚胺基膜的厚度可以为10μm至500μm。在另一方面,提供了一种窗覆盖膜,其包括:如上所述的聚酰亚胺基膜;和在聚酰亚胺基膜的一个或两个表面上形成的涂层。涂层可以是选自硬涂层、防静电层、抗指纹层、防污层、抗刮擦层、低折射层、抗反射层和冲击吸收层中的任何一种或多种。根据以下式2,窗覆盖膜的雾度ΔH的变化率可以为1.5%以下:[式2]ΔH=│H2-H1│其中,H1是在形成涂层之前的聚酰亚胺基膜的雾度,H2是在其上形成有涂层的窗覆盖膜的雾度。窗覆盖膜的雾度可以为1.5%以下。在另一个总体方面,提供了一种柔性显示面板,其包括如上所述的聚酰亚胺基膜。具体实施方式在下文中,将更详细地描述本专利技术。以下具体示例仅是用于详细描述本专利技术的参考,并且本专利技术不限于此,而且可以以各种形式实现。另外,除非另外定义,否则所有技术术语和科学术语具有与本专利技术所属领域的技术人员通常理解的含义相同的含义。本文所使用的术语仅用于有效地描述某些实施方案,而无意于限制本专利技术。在整个描述本专利技术的说明书中,除非有相反的明确描述,否则“包括”任何要素将被理解为暗示进一步包括其他要素而不是排除其他要素。另外,除非在上下文中另外指出,否则在详细说明和权利要求中使用的单数形式旨在包括复数形式。本文所用的“聚酰亚胺基树脂”包括聚酰亚胺或聚酰胺-酰亚胺。“聚酰亚胺基膜”也是如此。本文中使用的“聚酰亚胺基树脂溶液”与“用于形成聚酰亚胺基膜的组合物”和“聚酰胺-酰亚胺溶液”具有相同的含义。此外,也可以包含聚酰亚胺基树脂和溶剂以形成聚酰亚胺基膜。本文中使用的“膜”是通过将“聚酰亚胺基树脂溶液”施加到载体上并干燥,并从该载体上剥离而获得的,所述膜可以是拉伸的或未拉伸的。为了解决上述问题,本专利技术人进行了许多研究,结果通过以下的发现完成了本专利技术:在将聚酰亚胺基膜用作显示面板的窗覆盖膜的情况下,在以这样一种状态形成硬涂层时,可以提供雾度不增加并且由于透射率优异而具有优异的光学物理性能的膜,所述状态是指聚酰亚胺基膜在特定溶剂,特别是乙基溶纤剂中的溶解度在特定范围内,更具体地说,在50%以下的范围内,并且优选在20%至50%的范围内。<聚酰亚胺基膜>更具体地,本专利技术的聚酰亚胺基膜的特征在于,其在乙基溶纤剂中的溶解度满足以下式1:[式1]其中,FW1是在浸入溶剂之前的初始膜的重量;FW2是将膜浸入乙基溶纤剂中,在60℃放置2小时并冷却至在室温,除去溶剂,并将膜在80℃干燥4小时之后测得的膜的重量。溶解度可以更优选为20%至50%,因为当在溶解度处于该范围内的状态下在聚酰亚胺基膜上形成涂层时,可以具有优异的涂覆性能,并且在形成硬涂层的后置工序之后,可以提供雾度变化在1.5%以内并且光学性能优异的所需的窗覆盖膜。更具体地,可以提供满足上述溶解度的膜,因此雾度的变化率小,即,涂层形成后的雾度与未形成涂层时的雾度之间的差异小。因此,可以提供光学特性优异的聚酰亚胺基膜和使用该聚酰亚胺基膜的窗覆盖膜。在本专利技术的一方面,聚酰亚胺基膜的厚度可以为10μm至500μm、20μm至250μm或30μm至100μm。在本专利技术的一方面,聚酰亚胺基膜可以具有根据ASTMD882的3GPa以上、4GPa以上、或5GPa以上的模量和8%以上、12%以上或15%以上的断裂伸长率,根据ASTMD1746在388nm下测得的5%以上或5至80%的透光率,在400nm至700nm下测得的为87%以上、88%以上或89%以上的总透光率,根据ASTMD1003的2.0%以下、1.5%以下或1.0%以下的雾度,根据ASTME313的5.0以下、3.0以下或0.4至3.0的黄度,和2.0以下、1.3以下或0.4至本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种聚酰亚胺基膜,其在乙基溶纤剂中的溶解度满足以下式1:/n[式1]/n

【技术特征摘要】
20190930 KR 10-2019-01205361.一种聚酰亚胺基膜,其在乙基溶纤剂中的溶解度满足以下式1:
[式1]



其中FW1是在浸入溶剂之前的初始膜的重量,
FW2是将所述膜浸入乙基溶纤剂中,在60℃放置2小时,冷却至室温,除去溶剂,并将所述膜在80℃干燥4小时之后测得的膜的重量。


2.根据权利要求1所述的聚酰亚胺基膜,其中,所述溶解度为20-50%。


3.根据权利要求1所述的聚酰亚胺基膜,其中,所述聚酰亚胺基膜具有根据ASTMD882的4GPa以上的模量和8%以上的断裂伸长率,根据ASTMD1746在388nm下测得的5%以上的透光率和在400nm至700nm下测得的87%以上的总透光率,根据ASTMD1003的2.0%以下的雾度,和根据ASTME313的5.0以下的黄度和2.0以下的b*值。


4.根据权利要求1所述的聚酰亚胺基膜,其中所述聚酰亚胺基膜具有聚酰胺-酰亚胺结构。


5.根据权利要求4所述的聚酰亚胺基膜,其中所述聚酰亚胺基膜包括衍生自氟基芳族二胺的单元、衍生自芳族二酐...

【专利技术属性】
技术研发人员:安钟南
申请(专利权)人:SK新技术株式会社爱思开高新信息电子材料株式会社
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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