像素结构及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种像素结构及其制备方法、显示装置，所述像素结构包括基层、第一金属层、绝缘层和第二金属层；所述第一金属层具有若干相互间隔的第一功能走线；所述第二金属层具有若干相互间隔的第二功能走线，其中至少一第二功能走线横跨至少两根第一功能走线，在这至少两根第一功能走线的至少一个边缘设置空间缺口。本发明专利技术的技术效果在于，空间缺口为所述第二功能走线的修补提供空间，防止出现短路或断路，保证像素结构电路畅通。保证像素结构电路畅通。保证像素结构电路畅通。

【技术实现步骤摘要】
像素结构及其制备方法、显示装置


[0001]本专利技术涉及显示领域，特别涉及一种像素结构及其制备方法、显示装置。

技术介绍

[0002]AM
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LCD制备过程中颗粒物仍无法完全消除，由于所述颗粒物的存在，导致不同信号线路间电路连接不良的比例较高，所述不良均需要进行镭射修补，但由于机台精度和像素结构的设计导致修补过程中存在失败风险，并导致线不良的副作用，通常该类不良在使用初期并不会表现出来，在使用一段时间后所述电路不良会导致客端发生线不良，导致客诉风险高，影响产品品质及客户满意度。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于，解决现有的像素结构中第二功能走线的修补导致线路断线或短路问题严重的技术问题。
[0004]为实现上述目的，本专利技术提供一种像素结构，包括：基层；第一金属层，具有若干相互间隔的第一功能走线，设于所述基层一侧的表面；第二金属层，具有若干相互间隔的第二功能走线，绝缘地设于所述第一金属层的上方，其中至少一第二功能走线横跨至少两根第一功能走线，在这些第一功能走线的至少一个边缘设置有用以修本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种像素结构，其特征在于，包括：基层；第一金属层，具有若干相互间隔的第一功能走线，设于所述基层一侧的表面；第二金属层，具有若干相互间隔的第二功能走线，绝缘地设于所述第一金属层的上方，其中至少一第二功能走线横跨至少两根第一功能走线，在这些第一功能走线的至少一个边缘设置有用以修补这一第二功能走线的空间缺口，且这一第二功能走线在所述第一金属层上的正向投影覆盖其所对应的所述空间缺口；绝缘层，包覆每一第一功能走线且填充所述空间缺口。2.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，其中一第二功能走线横跨两根相邻的第一功能走线，所述空间缺口设置在这两根第一功能走线的边缘，且相对设置。3.如权利要求2所述的像素结构，其特征在于，所述第二功能走线为分压电极走线，所述第一功能走线为公共电极走线。4.如权利要求1所述的像素结构，其特征在于，其中一第二功能走线横跨两根相邻的第一功能走线，所述空间缺口设置在这两根第一功能走线之一的边缘。5.如权利要求4所述的像素结构，其特征在于，所述第二功能走线为源极走线和漏极走线，所述第一功能走线为栅极走线。6.如权利要求5所述的像素结构，其特征在于，还包括：有源层，设于所述绝缘层远离所述第一金属层一侧的表面；钝化层，设于所述第二金属层远离所述绝缘层一侧的表面；以及像素定义层，设于所述钝化层远离所述第二金属层一侧的表面。7.一种像素结构的制备方法，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋利旺，高冬子，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：