一种氮空位与羟基协同修饰石墨相氮化碳光催化剂及其制备和在光催化产氢中的应用制造技术

本发明专利技术公开了一种氮空位与羟基协同修饰石墨相氮化碳光催化剂及其制备和在光催化产氢中的应用。将三聚氰胺与草酰二肼混合后，进行煅烧，得到氮空位修饰g‑C

【技术实现步骤摘要】
一种氮空位与羟基协同修饰石墨相氮化碳光催化剂及其制备和在光催化产氢中的应用
本专利技术涉及一种光催化剂，具体涉及一种氮空位与羟基协同修饰g-C3N4光催化剂及其制备方法，以及氮空位与羟基协同修饰g-C3N4光催化剂在光催化水分解生产氢气中的应用，属于光催化产氢

技术介绍
随着人类社会工业化的发展，传统能源过度消耗，能源危机逐渐成为21世纪人类面临的最大难题。化石能源在地壳中的储量有限且不可再生，在使用过程中会产生CO2、CH4等对大气层造成危害的温室气体。因此人们试图寻找绿色能源来代替化石燃料，风能、水能、太阳能等可再生能源因此受到高度重视。除此之外，氢能被视为最具有发展前景的清洁能源，具有能耗低、操作简单且清洁无污染等优点，而且氢的热值远远超过化石燃料。氢能主要应用于氢燃料电池、固体氧化物电池、氢能发电、氢气燃烧等方面。在目前已知的光催化材料中，g-C3N4光催化剂具有价格低廉、光学性能良好、化学稳定性好等优势，成为光催化剂中被广泛研究的一种材料。但虽然经过了多年研究，仍难以满足商业应用的需求，因为g-C3N4的亲水本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氮空位与羟基协同修饰g-C

【技术特征摘要】
1.一种氮空位与羟基协同修饰g-C3N4光催化剂的制备方法，其特征在于：将三聚氰胺与草酰二肼混合后，进行煅烧，得到氮空位修饰g-C3N4；将氮空位修饰g-C3N4与氨水超声混合后，进行水热反应，即得。


2.根据权利要求1所述的一种氮空位与羟基协同修饰g-C3N4光催化剂的制备方法，其特征在于：所述草酰二肼的质量为三聚氰胺质量的1～10％。


3.根据权利要求1所述的一种氮空位与羟基协同修饰g-C3N4光催化剂的制备方法，其特征在于：所述煅烧的条件为：以2～5℃/min的升温速率升温至450～600℃煅烧2～5h。


4.根据权利要求1所述的一种氮空位与羟基协同修饰g-C3N4光催化剂的制备方法，其特征在于：氮空位修饰g-C3N4与氨水的质...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘军，翟欢欢，谭鹏飞，鲁利利，刘洪沁，刘勇，
申请(专利权)人：中南大学，
类型：发明
国别省市：湖南;43