双踪光点校表仪制造技术

一种以光点位移方式校表的仪器，具有时基和表摆信号２个电路通道以及配有与之适应的比对和显示部件，其特征在于：　　ａ、应用权码锁存／译码驱动器（４）和（５）构成２个比对部件。　　ｂ、各比对部件的２个方面入端，分别接表摆信号电路通道和时基信号电路通道的终端。　　ｃ、各比对部件的出端，分别接ＬＥＤ灯列（６）和（７）。（*该技术在1995年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：邱传训，
申请(专利权)人：邱传训，
类型：实用新型
国别省市：