【技术实现步骤摘要】
半导体材料的制备方法、钙钛矿半导体器件及其制备方法
本专利技术涉及半导体光电
,尤其是涉及半导体材料的制备方法、钙钛矿半导体器件及其制备方法。
技术介绍
半导体材料的制备方法经常决定了其使用范围及应用领域。目前制备钙钛矿薄膜的溶液法都要求衬底是极性溶剂不敏感的,并且使用强极性的DMF,DMSO等有毒溶剂,在将来的工业生产中会对环境造成不利影响。如目前制备高质量钙钛矿用到的反溶剂法,其溶解钙钛矿前驱盐的溶剂多为DMF,DMSO,属于强极性溶剂,不适合在极性溶剂敏感的衬底上生长。另外现有技术中的钙钛矿前驱体盐还使用碘化铅,碘化铅只有在DMF,DMSO等强极性溶剂中才具有良好的溶解度,限制了衬底的使用范围,并且对环境不友好,不适用于工业生产。为了进一步的拓宽钙钛矿这类半导体材料的使用范围,以及促进相关半导体器件性能的进一步提升,需要开发新型的半导体制备方法。利用半导体的光电性质开发能进行光电转换,光电探测,电光转换的半导体器件为社会生活带来了翻天覆地的变化。含卤钙钛矿半导体因为具有优异的载流子迁移率、高的吸收 ...
【技术保护点】
1.半导体材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:/n(1)沉积羧酸盐溶液;或者先沉积有机胺盐或脒盐溶液,再沉积羧酸盐溶液;所述羧酸盐溶液选自羧酸铅溶液、羧酸锡溶液中的至少一种;/n(2)沉积有机胺盐或脒盐溶液;/n(3)在50℃~160℃进行退火。/n
【技术特征摘要】
1.半导体材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)沉积羧酸盐溶液;或者先沉积有机胺盐或脒盐溶液,再沉积羧酸盐溶液;所述羧酸盐溶液选自羧酸铅溶液、羧酸锡溶液中的至少一种;
(2)沉积有机胺盐或脒盐溶液;
(3)在50℃~160℃进行退火。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述有机胺盐或脒盐溶液中的有机胺盐或脒盐的分子式为AX,A为甲胺、乙胺、丙胺、丁胺、苯乙胺、乙二胺、丙二胺、丁二胺、戊二胺、甲脒、乙脒、氯乙脒、三氟乙脒中一种或任意两种的组合或三种的组合;B为铅、锡;X可为碘、溴、氯中一种或任意两种的组合或三种的组合。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述羧酸盐溶液中的溶剂选自乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、异丙醇、丙醇、叔丁醇、正丁醇、戊醇、叔戊醇、乙酸乙酯、甲酸乙酯、乙酸甲酯、丙酸丙酯中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述有机胺盐或脒盐溶液中的溶剂选自甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、叔丁醇、环丙烷、乙酸乙酯中的至少一种。
5.根据权利要求1至4任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)和(2)中所述沉积的方式为旋涂法、刮涂法、狭缝涂布法、印刷、滴涂、喷涂、卷对卷涂覆法中的至少一种。<...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨世和,刘通发,
申请(专利权)人:北京大学深圳研究生院,
类型:发明
国别省市:广东;44
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