【技术实现步骤摘要】
一种等离子体刻蚀机及其刻蚀方法
本专利技术涉及等离子体刻蚀机
,具体为一种等离子体刻蚀机及其刻蚀方法。
技术介绍
在半导体集成电路制造工艺中,刻蚀是其中最为重要的一道工序,其中等离子体刻蚀是常用的刻蚀方式之一。通常刻蚀发生在真空反应腔室内,晶圆放置在真空反应腔室内的基座上,在基座顶部的电极中施加射频,并引入的反应气体,在真空反应腔室内形成等离子体对晶圆进行加工处理。现有技术中公开的一种等离子体刻蚀机及其刻蚀方法专利技术案件中,专利技术专利申请号为201910800375.9的中国专利,所述等离子体处理系统包括反应腔室、位于反应腔室上的法拉第屏蔽装置和进气喷嘴;所述进气喷嘴穿过法拉第屏蔽装置向反应腔室通入工艺气体;所述进气喷嘴是导电材质,且进气喷嘴与法拉第屏蔽装置导电连接。现有技术中在对晶圆进行刻蚀时,只能进行单面的刻蚀,当需要对晶圆进行双面的刻蚀时,需要人工将一面刻蚀好的晶圆取出,翻转到另一面后再放入刻蚀设备中,该过程操作复杂且容易出现破坏已经刻蚀好的晶圆面同时打开装置取出晶圆时,外部的细小杂物进入到设备内部对内部的真空环境产生影响。基于此,本专利技术设计了一种等离子体刻蚀机及其刻蚀方法,以解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种等离子体刻蚀机及其刻蚀方法,以解决上述
技术介绍
中提出的现有技术中在对晶圆进行刻蚀时,只能进行单面的刻蚀,当需要对晶圆进行双面的刻蚀时,需要人工将一面刻蚀好的晶圆取出,翻转到另一面后再放入刻蚀设备中,该过程操作复杂且容易出现破 ...
【技术保护点】
1.一种等离子体刻蚀机,包括机壳(1),其特征在于:所述机壳(1)顶部固定连接有电离箱(2),所述电离箱(2)侧面固定连通有第一进气管(3),所述机壳(1)顶部位于电离箱(2)内部固定连通有第二进气管(4),所述机壳(1)侧面铰接有进料门(5),所述机壳(1)内壁固定连接有固定台(6),所述固定台(6)顶部设置有晶圆架(7),所述晶圆架(7)内壁固定连接有晶圆,所述机壳(1)两侧内壁均连接有带动所述晶圆架(7)翻转的翻转机构,所述固定台(6)两侧均连接有对所述晶圆架(7)限位的限位机构。/n
【技术特征摘要】
1.一种等离子体刻蚀机,包括机壳(1),其特征在于:所述机壳(1)顶部固定连接有电离箱(2),所述电离箱(2)侧面固定连通有第一进气管(3),所述机壳(1)顶部位于电离箱(2)内部固定连通有第二进气管(4),所述机壳(1)侧面铰接有进料门(5),所述机壳(1)内壁固定连接有固定台(6),所述固定台(6)顶部设置有晶圆架(7),所述晶圆架(7)内壁固定连接有晶圆,所述机壳(1)两侧内壁均连接有带动所述晶圆架(7)翻转的翻转机构,所述固定台(6)两侧均连接有对所述晶圆架(7)限位的限位机构。
2.根据权利要求1所述的一种等离子体刻蚀机,其特征在于:所述翻转机构包括两个电动推杆(8),所述电动推杆(8)固定连接在机壳(1)的内壁上,所述机壳(1)两侧内壁均贯穿且滑动连接有拉动板(9),所述拉动板(9)端部连接有复位机构,所述拉动板(9)另一端开设有圆形槽,所述圆形槽内壁滑动连接有圆盘(10),所述圆盘(10)侧面固定连接有翻转轴(11),所述翻转轴(11)表面固定连接有间断齿轮(12),所述间断齿轮(12)侧面固定连接有第一板(13),所述翻转轴(11)表面转动连接有第一支撑板(14),所述第一支撑板(14)侧面固定连接有第二板(15),所述第一支撑板(14)两侧分别固定连接有第一L型板(16)和第三板(17),所述翻转轴(11)表面分别固定连接有偏转板(18)和两个第一支板(19),所述第一L型板(16)顶部和偏转板(18)底部相接触,所述第三板(17)端部固定连接有圆形套(20),所述圆形套(20)表面固定连接有L型杆(21),所述机壳(1)两侧内壁均开设有第一槽口,所述L型杆(21)端部滑动连接在第一槽口的内壁上,所述圆形套(20)内壁和电动推杆(8)伸缩端相配合,所述晶圆架(7)两侧均开设有加持槽(22),所述翻转轴(11)端部插接在加持槽(22)的内壁上,所述机壳(1)内壁两侧均固定连接有两个L型支撑板(23),相对两个L型支撑板(23)顶部共同固定连接有支撑架(24),所述支撑架(24)侧面开设有贯通的长槽,所述翻转轴(11)滑动连接在长槽的内壁上,所述支撑架(24)侧面开设有两侧T型槽,所述T型槽内壁滑动连接有矩形壳(25),所述矩形壳(25)内壁滑动连接有L型压板(26),所述L型压板(26)和矩形壳(25)内壁共同固定连接有第一弹簧(27),所述L型压板(26)底部和第一支板(19)的顶部相接触,所述L型压板(26)侧面固定连接有L型顶板(28),所述L型顶板(28)端部呈斜面,所述L型支撑板(23)侧面固定连接有T型齿板(29),所述T型齿板(29)和间断齿轮(12)相配合。
3.根据权利要求2所述的一种等离子体刻蚀机,其特征在于:所述限位机构包括横向压板(30),所述横向压板(30)固定连接在电动推杆(8)伸缩端的侧面,所述固定台(6)两侧均固定连接有L型延伸板(31),所述L型延伸板(31)顶部开设有两个第一滑槽,所述第一滑槽内壁滑动连接有挤压块(32),所述挤压块(32)侧面和L型延伸板(31)共同固定连接有第二弹簧(33),所述挤压块(32)侧面固定连接有异型杆(34),所述异型杆(34)端部固定连接有限位板(35),所述晶圆架(7)两侧均开设有限位槽,所述限位板(35)滑动连接在限位槽的内壁上,所述L型延伸板(31)顶部转动连接有两个滚轮(36)...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵智星,
申请(专利权)人:北京瓢虫星球信息技术有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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