一种平滑釉面砖及其生产工艺制造技术

本发明专利技术公开并提供了一种表面平整光滑的平滑釉面砖及其生产工艺。本发明专利技术中的平滑釉面砖，包括砖体，所述砖体外依次施喷有高温底釉以及面釉，所述高温底釉按百分比算，包含以下组分：钾长石37%‑50%，硅酸锆1%‑8%，高岭土10%‑15%，石英13%‑18%，烧滑石1%‑5%，黑泥粉10%‑13%，氧化铝3%‑8%；所述面釉按百分比算，包含以下组分：钾长石40%‑55%，方解石18%‑25%，烧滑石7%‑13%，硅酸锆5%‑17%，石英1%‑10%，黑泥粉8%‑10%，氧化铝1%‑5%。本发明专利技术适用于平滑釉面砖的生产加工领域。

【技术实现步骤摘要】
一种平滑釉面砖及其生产工艺
本专利技术涉及一种平滑釉面砖及其生产工艺。
技术介绍
中国近年来房地产业的空前发展，紧紧围绕着房产伴生的建筑墙、地瓷砖市场需求巨大。随着中国陶瓷生产工艺和技术的迅猛发展，瓷砖市场个性化产品突出，产品发展开始趋向高端。现在中国瓷砖企业在瞄准高端市场，强调调整产品结构和提高产品附加值的同时，还兼顾行业的整体利益，通过努力提高产品技术含量、加大自主创新、培育自主品牌等措施，实现可持续发展，随着个人收入和欣赏品位的提高，中高端瓷砖产品需求不断扩大。另外随着基础设施改造、居民住房建设的投资日益增加、伴随GDP的稳步增长，普通民众的收入也不断增加，且开始讲究装饰住房，瓷砖等建材商品需求日益上升，未来瓷砖市场前景广阔。镜面亮光釉面砖因表面反光效果好、营造干净明亮效果佳，加上色彩图案丰富、清洁方便等优点，在装饰市场越来越受消费者追捧。目前市面上的镜面亮光釉面砖因是采用低吸水率生料釉一次烧成的生产工艺，所以亮光釉釉面始终会有细毛孔及个别大针孔或坯泡，而且目前窑炉烧成时间较短，坯体原料成分改变余地不大的前提下都不利于釉面本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种平滑釉面砖，包括砖体，其特征在于，所述砖体外依次施喷有高温底釉以及面釉，所述高温底釉按百分比算，包含以下组分：钾长石37%-50%，硅酸锆1%-8%，高岭土10%-15%，石英13%-18%，烧滑石1%-5%，黑泥粉10%-13%，氧化铝3%-8%；所述面釉按百分比算，包含以下组分：钾长石40%-55%，方解石18%-25%，烧滑石7%-13%，硅酸锆5%-17%，石英1%-10%，，黑泥粉8%-10%，氧化铝1%-5%。/n

【技术特征摘要】
1.一种平滑釉面砖，包括砖体，其特征在于，所述砖体外依次施喷有高温底釉以及面釉，所述高温底釉按百分比算，包含以下组分：钾长石37%-50%，硅酸锆1%-8%，高岭土10%-15%，石英13%-18%，烧滑石1%-5%，黑泥粉10%-13%，氧化铝3%-8%；所述面釉按百分比算，包含以下组分：钾长石40%-55%，方解石18%-25%，烧滑石7%-13%，硅酸锆5%-17%，石英1%-10%，，黑泥粉8%-10%，氧化铝1%-5%。


2.根据权利要求1所述的一种平滑釉面砖，其特征在于，所述高温底釉按百分比算，包含以下组分：钾长石45%，硅酸锆5%，高岭土13%，石英15%，烧滑石3%，黑泥...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁洪武，
申请(专利权)人：湖南旭日陶瓷有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南;43