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本发明公开并提供了一种表面平整光滑的平滑釉面砖及其生产工艺。本发明中的平滑釉面砖，包括砖体，所述砖体外依次施喷有高温底釉以及面釉，所述高温底釉按百分比算，包含以下组分：钾长石37%‑50%，硅酸锆1%‑8%，高岭土10%‑15%，石英13%...
该专利属于湖南旭日陶瓷有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖南旭日陶瓷有限公司授权不得商用。

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