表壳制造技术

本发明专利技术涉及包括有表壳体１与后盖４的表壳Ｍ，后盖４利用给予它一种旋转运动，绕锁合轴线Ｏ－Ｏ′转过一预定角度Ω，可以与表壳体结合并卡紧。后盖４与表壳体１分别有互补沉割形状的侧墙１６与２４，它们的周边轮廓分别有四个圆弧段３８，４８，各自有偏离锁合轴线Ｏ－Ｏ′的圆心Ｃ↓［ｃ］，Ｃ↓［ｆｏ］圆弧段３８，４８各自之间以凹入段４０，５２相联。在一个位置上，每段４８相对段３８偏心，在另一位置，每段４８和对应段３８同心，其侧墙１６和对应的段３８的侧墙２４紧密接触。（*该技术在2014年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术一般涉及表壳，特别是一种密封表壳，特别地包括有表壳体和后盖，只要使后盖绕一几何轴线转动一预定的角度，两者能互相结合并卡紧。此轴线在后面的叙述中将被称作锁合轴线。一种符合这定义的表壳在专利文件CH-338405中已有描述。其中表壳包括表壳体，后盖和介于后盖与表壳体之间的密封垫圈。后盖有具有椭圆形或多边形的倾斜外墙的周边凸缘，而表壳体则有具有形状和后盖上凸缘墙的形状相应的斜墙的环形槽。这样，在表壳体上转动后盖就能把后盖凸缘结合并卡紧在表壳体的槽中。但是这种表壳呈现出受到快速磨损的缺点。周边凸缘的椭圆形或多边形和表壳体的槽的互配形状只能沿着接触线有效地使后盖在表壳体上卡紧，其中接触线沿着平行于凸缘或槽的斜墙的方向伸展。这带来的后果是表壳的密封不再能有效地保证，实际上在一定的开闭操作次数之后根本不再保证。对此还要加上这样的事实，即垫圈的压缩特性等同于表壳里密封的特性。这种表壳的后盖是用螺钉拧到表壳体上的，其密封圈在螺钉附近区域内受到强有力的压缩而在这种区域与区域之间受到的压缩极为轻微，于是导致密封问题。当后盖在表壳体上拧紧时，只有后盖与表壳体接触的部分能深入到表壳体内，由于后盖固有的柔性，只在这种区域内局部地压缩密封。因而本专利技术的主要目的在于克服上述先有技术中的缺点，提供一种具有能把后盖满意地而且长期有效地卡紧到表壳体上的系统的密封表壳。结构简单而且容易制造。为了达到上述目的，本专利技术的密封表壳，包括有分别形成表壳体与后盖的两个元件，放置在这两元件之间的垫圈，第一元件包括有轴向受限制并沉割的周边侧墙部分，第二元件同样有受到轴向限制并沉割的周边侧墙部分，形状和所述第一元件的侧墙部分互补，所述第一及第二元件的侧墙部分的形状互补，当它们处在相对于被称为锁合轴线的回转轴线的第一角位时，第一元件可以与第二元件分开，而当第一元件绕所述锁合轴线从第一角位起转过一预定角度而处于第二角位时，第一元件被卡紧在第二元件里，同时压紧垫圈。遵照本专利技术，表壳的特征在于第一元件侧墙部分的周边轮廓含有至少两段圆弧，每段的圆心都在偏离锁合轴线的点上，这样两段圆弧用凹入段彼此相联，因而形成突起，第二元件侧墙部分的周边轮廓含有至少两段圆弧，每段的圆心都在偏离锁合轴线的点上，这样两段以弯曲轮廓部分彼此相连，界定着一个开口，其深度在第一角位上可以允许第一元件的突起进入第二元件的开口，因为第一元件的每个圆弧段都是和第二元件的一个圆弧段关联着的，相关弧段有着基本上相同的半径，因为在第一角位上，第一元件的每个圆弧段相对于与之关联的第二元件上的圆弧段是偏心的，并且因为在第二角位上，第一元件的每个圆弧段和与之关联的第二元件上圆弧段是同心的，结果第二元件的每个圆弧段的侧墙在全范围内和与之关联的第一元件的圆弧段的侧墙紧密相接触。由于这些特征，后盖凸缘的外墙的接触是在相当大的表面上实现的，这样两元件间的摩擦就分布在这表面上，从而减少了系统的磨损，提供了它的可靠性。遵照本专利技术的表壳结构还能得到第一元件在第二元件上逐渐的紧固，同时以均匀的逐步的方式压紧垫圈。遵照本专利技术的一种优先实施例，第一及第二元件的侧墙部分的周边轮廓，各自都有四个圆弧段规则地绕着第一和第二元件分布。这样，后盖在表壳体上的位置是在卡紧之前先自动对中。遵照本专利技术的优选特征，第一元件是表壳体而第二元件是后盖。遵照本专利技术的另一优选特征，后盖上的侧墙部分是外墙而表壳体上的侧墙部分是内墙。本专利技术的其他优点与特征将在阅读以下一种实施例的特定例的描述中更加明白，所述描述纯粹为了示范而并不限于与所附的图一致。附图说明图1是从表壳下方看到的平面图，后盖与表壳体相结合，但并不卡紧在上面，后盖以点划外廓线表示;图2是从表壳下方看的平面图，后盖结合并卡紧在表壳体上，后盖以点划的外廓线表示;图3与4分别为单独从表壳体下方和单独从后盖上方看的平面图，有些尺寸已经放大;图5是指图1中V-V线所取局部截面图;图6是指图2中Ⅵ-Ⅵ线所取局部截面图。参考附图，一般以普通标记M表示的密封表壳，特别地，具有两个元件，分别形成表壳体1和后盖4，表壳体1一般是有两对悬臂2的圆形件，后盖4也是圆形。表壳体1有底面6，上面有接纳垫圈10的环形槽8。垫圈10被压在后盖4的前肩14的表面12与底面6上形成的槽底8之间。肩14向内受到环状轴向凸缘18的侧墙部分16的限制。侧墙部分16在轴向被约束在两平面P1与P2之间，并且沉割成侧面内凹的形状。平面P1与P2分别由凸缘18的上表面20与前肩14的表面12所形成。在所示例中，墙16的沉割部分相对于锁合轴线OO′略有倾斜，倾斜角最好是10°左右。锁合轴线OO′在所示例中是表壳的几何轴线，亦即该轴线平行于表针转动轴线。表壳体1的内表面或凸缘22包括有在它的邻近底面6的部位的侧墙24，形成内表面22上向外开放的槽。侧墙24也有沉割且轴向约束在两平面P3与P4之间。这两平面P3与P4分别由环形肩26与底面6形成。侧墙24的斜度大体上等于后盖的侧墙16部分的斜度而表壳体1的墙24部分的周边轮廓和后盖4的墙部分16的周边轮廓互补。如在本例中所描述分别为后盖4与表壳体1的沉割墙16与24斜指向后盖4。特别是，后盖4的侧墙部分16和表壳体1的侧墙部分24是一致的，即在相对于轴线O-O′的第一角位中(图1)，后盖4可以与表壳体1分开，而在第二角位中(图2)，这时后盖4绕轴线O-O′转过一预定的从第一角位开始的释放角W，后盖4就卡紧在表壳体1上并压住垫圈10。为此目的，凸缘18在它的上部有边缘28，在它的下部有边缘30，两者界定此凸缘的高度Hf。同样，内表面22形成的槽在上部有边缘32而在下部有边缘34，两者界定此槽的高度Hc。因为面16与24的倾斜，凸缘18的边缘28的尺寸选得大体上大于表壳体1的槽的边缘34的尺寸，而后盖的边缘30的尺寸则大体上和表壳体的边缘34的尺寸相同。至于其它的尺寸，对应于分开平面P1与P2间距离的高度Hf小于对应于分开平面P3与P4间距离的高度Hc，因而像在前面定义过的后盖的第二角位时，凸缘18的上表面不会接触表壳体1上槽的环形肩26。更具体地参照图1至4，可以看出侧墙24的周边轮廓包括有四段圆弧38，顺序的两段圆弧38用凹入段40彼此相联，凹入段40基本上径向定向，形成突起44。每一段38占表壳体1的开口缘一段弧长Ac，大体上等于90°，并且以相对锁合轴线O-O′偏移的中心点Cc为圆心。在这具体的例中，锁合轴线O-O′与表壳体1的几何轴线重合。在描述且图示的例中，诸圆弧段38有同一半径Rc，因此每个弧段38的圆心Cc位置在圆46上(以点划线表示)，其圆心在轴线O-O′上。这样，弧段38就相对锁合轴线O-O′有偏心，当弧段38在它们的全长上移动时，弧段上的点相对轴线O-O′的距离就逐渐变化。在所描述的例中，从下面看，当弧段38以逆时针方向移动时，这距离增大。后盖侧墙16的周边轮廓同样也有四段圆弧段48，各以中心点Cf为圆心，Cf中心点则对与表壳几何轴线重合的后盖的几何轴线有偏移。每一段48各占表壳体1的开口缘上小于90°的一段弧长Af，譬如约占80°，都是相同的半径Rf，因而诸弧段48的圆心Cf都在圆50上(以点划线画的圆)，其圆心在轴线O-O′上。每一弧段48与表壳体的一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种密封表壳（Ｍ），包括分别构成表壳体（１）与后盖（４）的两个元件，放在这两元件（１，４）之间的垫圈（１０），两元件中第一元件（１）有轴向受限制并沉割的周边侧墙（２４），第二元件（４）同样有轴向受限制并沉割的周边侧墙部分（１６），其形状与所述第一元件（１）的侧墙部分（２４）互补，所述第一及第二元件（１，４）的侧墙部分（１６，２４）形状相互适应，在相对于称作锁合轴线的旋转轴线（Ｏ－Ｏ′）的第一角位上，第一元件（１）可以与第二元件（４）分离开，而在第二角位中第一元件这时绕所述锁合轴线（Ｏ－Ｏ′）从第一角位开始转过一预定角度（Ω），第一元件（１）卡紧在第二元件（４）中同时压紧垫圈（１０），其特征在于：第一元件（１）的侧墙部分（２４）的周边轮廓含有至少两段圆弧段（３８），各以相对锁合轴线（Ｏ－Ｏ′）偏移的点（Ｃ↓［ｃ］）为中心，这样两段（３８）彼此由凹入段（４０）相联接，并形成突起（４４），第二元件（４）的侧墙部分（１６）的周边轮廓含有至少两段圆弧段（４８），各以相对锁合轴线（Ｏ－Ｏ′）偏移的点（Ｃ↓［ｆ］）为中心，这样两段（４８）彼此由弯曲轮廓部分（５２）所联接，界定着一个开口，其深度可以在第一角位时允许第一元件的突起（４４）进入第二元件（４）的开口内，第一元件（１）的圆弧段（３８）是和第二元件（４）的圆弧段（４８）关联的，彼此关联着的圆弧段（３８，４８）有基本上相同的半径（Ｒ↓［ｃ］，Ｒ↓［ｆ］），在第一角位时，第一元件（１）的圆弧段（３８）相对相关联的第二元件（４）的圆弧段（４８）偏移，在第二角位时，第一元件（１）的每个圆弧段（３８）和相关联的第二元件（４）的圆弧段（４８）同心，因而使第二元件（４）的每个圆弧段（４８）的侧墙（１６）在全部长度上与相关联的第一元件（１）的圆弧段（３８）的侧墙（２４）紧密接触。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：JC朱勒拉特，
申请(专利权)人：SMH管理服务有限公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]