析晶清理方法技术

技术编号:27618686 阅读:16 留言:0更新日期:2021-03-10 10:55
本发明专利技术公开了一种玻璃液搅拌装置的析晶清理方法,涉及物料均化技术领域,玻璃液搅拌装置包括搅拌棒和设有顶壁搅拌开口的搅拌腔,搅拌棒的上部从顶壁搅拌开口伸出搅拌腔,搅拌棒的下部位于搅拌腔中,析晶清理方法包括:清理搅拌棒的上部周壁与顶壁搅拌开口的开口周壁之间的析晶;沿竖向升高搅拌棒;封盖顶壁搅拌开口;清理搅拌棒的下部周壁的析晶。搅拌棒的下部设有沿径向伸出的搅拌轴,搅拌轴的顶面顶点与搅拌腔的搅拌腔顶壁的底面之间的间距为h1,搅拌腔顶壁的厚度为h2,h1≥h2,搅拌棒的升高高度大于等于h2且小于h1。本发明专利技术的玻璃液搅拌装置的析晶清理方法能有效清除玻璃液搅拌装置中产生的析晶,以减少产品的缺陷率和提高生产效率。高生产效率。高生产效率。

【技术实现步骤摘要】
析晶清理方法


[0001]本专利技术涉及物料均化
,具体地,涉及一种析晶清理方法。

技术介绍

[0002]OLED/LTPS显示用基板玻璃生产中熔解不良的一大问题在于:搅拌棒在搅拌玻璃液时,搅拌桶内挥发气体遇冷凝结,搅拌棒上会逐渐生长氧化锡、铂金颗粒等析晶,附着在搅拌棒及其周围,当积累到一定量时,会掉落至玻璃液搅拌桶内造成缺陷集发和增多。在铂金通道中,搅拌轴相对于搅拌容器是旋转的,由于机械传动和运动的原因,搅拌轴会发生震动现象,这种震动现象更加剧了凝结在搅拌轴上的凝结物跌落玻璃液,更加恶化了玻璃品质。为此,如何有效清除搅拌装置中的析晶已成为玻璃生产环节中的一个至关重要的课题。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是提供一种新的玻璃液搅拌装置的析晶清理方法,该析晶清理方法能有效清除玻璃液搅拌装置中产生的析晶,以减少产品的缺陷率和提高生产效率。
[0004]为了实现上述目的,本专利技术提供了一种玻璃液搅拌装置的析晶清理方法,所述玻璃液搅拌装置包括搅拌棒和设有顶壁搅拌开口的搅拌腔,所述搅拌棒的上部从所述顶壁搅拌开口伸出所述搅拌腔,所述搅拌棒的下部位于所述搅拌腔中,所述析晶清理方法包括:
[0005]清理所述搅拌棒的上部周壁与所述顶壁搅拌开口的开口周壁之间的析晶;
[0006]沿竖向升高所述搅拌棒;
[0007]清理所述搅拌棒的下部周壁的析晶。
[0008]可选地,所述析晶清理方法还可包括:在沿竖向升高所述搅拌棒的步骤之后且在清理所述搅拌棒的下部周壁的析晶的步骤之前,封盖所述顶壁搅拌开口。
[0009]可选地,所述析晶清理方法还可包括:
[0010]在清理所述搅拌棒的下部周壁的析晶的步骤之后,清理所述顶壁搅拌开口的封盖位置上的析晶。
[0011]可选地,所述析晶清理方法中用于封盖所述顶壁搅拌开口的封盖装置可为设有搅拌棒穿出口的挡板。
[0012]可选地,所述挡板可包括两块叠置的子挡板,所述子挡板均设有从中部延伸至一边部的开口槽,两块所述子挡板分别朝向所述搅拌棒对插接,所述搅拌棒穿设在由两个所述开口槽拼接而成的所述搅拌棒穿出口中。
[0013]可选地,所述顶壁搅拌开口可位于所述挡板的垂直投影内。
[0014]可选地,所述搅拌棒的下部设有沿径向伸出的搅拌轴,所述搅拌轴的顶面顶点与所述搅拌腔的搅拌腔顶壁的底面之间的间距为h1,所述搅拌腔顶壁的厚度为h2,h1≥h2,所述搅拌棒的升高高度大于等于h2且小于h1。
[0015]可选地,所述搅拌棒的上部周壁与所述顶壁搅拌开口的开口周壁之间形成有环状夹腔,清理所述搅拌棒的上部周壁与所述顶壁搅拌开口的开口周壁之间的析晶的步骤还可
包括子步骤:
[0016]将所述环状夹腔按高度划分成多个不同高度范围的子高度区域夹腔;
[0017]自上而下逐一清理所述子高度区域夹腔中的析晶。
[0018]可选地,所述子高度区域夹腔包括从外至内依次布置的外环开口周壁区域夹腔、中部区域夹腔和内环搅拌棒周壁夹腔,所述清理所述子高度区域夹腔中的析晶可包括:
[0019]清理所述中部区域夹腔中的析晶;
[0020]清理所述外环开口周壁区域夹层腔中的析晶;
[0021]清理所述内环搅拌棒周壁夹腔中的析晶。
[0022]可选地,所述搅拌腔顶壁可包括铂金盖板砖层和位于所述铂金盖板砖层上方的保温砖层,所述顶壁搅拌开口的开口周壁包括所述铂金盖板砖层的铂金盖板砖层开口周壁和所述保温砖层的保温砖层开口周壁,所述铂金盖板砖层开口周壁与所述搅拌棒之间的间距为x1,所述保温砖层开口周壁与所述搅拌棒之间的间距为x2,x2≥x1,清理所述外环开口周壁区域夹层腔中的析晶的步骤还可包括:
[0023]清理所述铂金盖板砖层开口周壁与所述保温砖层开口周壁之间的连接处位置上的析晶。
[0024]可选地,所述析晶清理方法还可包括:
[0025]在所述顶壁搅拌开口的不同周向位置自上而下清理所述子高度区域夹腔中的析晶直至该子高度区域夹腔中的析晶被清理干净。
[0026]可选地,所述析晶清理方法的清理工具为抽吸装置,所述抽吸装置的吸管直径为φ,清理所述内环搅拌棒周壁夹腔中的析晶的步骤可包括:
[0027]将所述抽吸装置的抽吸口与所述搅拌棒的周壁的距离保持在0.5φ且清理时长大于等于60s。
[0028]可选地,所述玻璃液搅拌装置可设于铂金通道中。
[0029]通过上述方案,玻璃液搅拌装置包括搅拌棒和设有顶壁搅拌开口的搅拌腔,搅拌棒的上部从顶壁搅拌开口伸出搅拌腔,下部位于搅拌腔中对玻璃液进行搅拌,本专利技术的析晶清理方法首先对搅拌棒的上部周壁和顶壁搅拌开口的开口周壁之间的析晶进行清理,然后再通过升高搅拌棒,对搅拌棒的下部周壁的析晶进行清理,如此,可解除清理工具的操作空间的限制,彻底将搅拌棒的外周壁上的各个位置的析晶清理干净,避免析晶大量掉落造成缺陷,对解决大规模缺陷集发问题的效果明显,大大减少了产品的缺陷率和提高了生产效率。
[0030]本专利技术的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
[0031]附图是用来提供对本专利技术的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本专利技术,但并不构成对本专利技术的限制。在附图中:
[0032]图1展示了根据本专利技术的一种实施例的玻璃搅拌装置的结构示意图;
[0033]图2为图1中的玻璃搅拌装置,其中,搅拌棒位于升高位置;
[0034]图3为图1中的玻璃搅拌装置的俯视图,其中,顶壁搅拌开口封盖有挡板;
[0035]图4为图3中的挡板的结构示意图;
[0036]图5为图4中的挡板的爆炸图。
[0037]附图标记说明
[0038]1ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
搅拌棒
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11
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搅拌轴
[0039]2ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
搅拌腔
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21
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顶壁搅拌开口
[0040]22
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搅拌腔顶壁
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221
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铂金盖板砖层
[0041]222
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保温砖层
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抽吸装置
[0042]4ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
挡板
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41
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搅拌棒穿出口
具体实施方式
[0043]以下结合附图对本专利技术的具体实施例进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施例仅用于说明和解释本专利技术,并不用于限制本专利技术。
[0044]下面参考附图描述根据本专利技术的玻璃液搅拌装置的析晶清理方法,该析晶清理方法能有效清除玻璃液搅拌装置中产生的析晶,以减少产本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种玻璃液搅拌装置的析晶清理方法,其特征在于,所述玻璃液搅拌装置包括搅拌棒(1)和设有顶壁搅拌开口(21)的搅拌腔(2),所述搅拌棒(1)的上部从所述顶壁搅拌开口(21)伸出所述搅拌腔(2),所述搅拌棒(1)的下部位于所述搅拌腔(21)中,所述析晶清理方法包括:清理所述搅拌棒(1)的上部周壁与所述顶壁搅拌开口(21)的开口周壁之间的析晶;沿竖向升高所述搅拌棒(1);清理所述搅拌棒(1)的下部周壁的析晶。2.根据权利要求1所述的析晶清理方法,其特征在于,所述析晶清理方法还包括:在沿竖向升高所述搅拌棒(1)的步骤之后且在清理所述搅拌棒(1)的下部周壁的析晶的步骤之前,封盖所述顶壁搅拌开口(21)。3.根据权利要求2所述的析晶清理方法,其特征在于,所述析晶清理方法还包括:在清理所述搅拌棒(1)的下部周壁的析晶的步骤之后,清理所述顶壁搅拌开口(21)的封盖位置上的析晶。4.根据权利要求2所述的析晶清理方法,其特征在于,所述析晶清理方法中用于封盖所述顶壁搅拌开口(21)的封盖装置为设有搅拌棒穿出口(41)的挡板(4)。5.根据权利要求4所述的析晶清理方法,其特征在于,所述挡板(4)包括两块叠置的子挡板,所述子挡板均设有从中部延伸至一边部的开口槽,两块所述子挡板分别朝向所述搅拌棒(1)对插接,所述搅拌棒(1)穿设在由两个所述开口槽拼接而成的所述搅拌棒穿出口(41)中。6.根据权利要求4所述的析晶清理方法,其特征在于,所述顶壁搅拌开口(21)位于所述挡板(4)的垂直投影内。7.根据权利要求1所述的析晶清理方法,其特征在于,所述搅拌棒(1)的下部设有沿径向伸出的搅拌轴(11),所述搅拌轴(11)的顶面顶点与所述搅拌腔(2)的搅拌腔顶壁(22)的底面之间的间距为h1,所述搅拌腔顶壁(22)的厚度为h2,h1≥h2,所述搅拌棒(1)的升高高度大于等于h2且小于h1。8.根据权利要求1~7中任意一项所述的析晶清理方法,其特征在于,所述搅拌棒(1)的上部周...

【专利技术属性】
技术研发人员:李青李赫然张广际杨世民杨道辉孙涛何怀胜李震
申请(专利权)人:东旭光电科技股份有限公司东旭科技集团有限公司
类型:发明
国别省市:

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