一种手机盖板表面清洗设备制造技术

本发明专利技术涉及一种手机盖板表面清洗设备，包括框架、清洗机构，与清洗机构连接的滑台，滑台的前端设置上料机构，滑台上滑动设置承载机构，上料机构包括支架、传输组件、转移组件及提升组件；承载机构包括底座及限位承载台，限位承载台上设置吸附组件，吸附组件移动路径上设导向条；转移组件包括定位架及挡板，挡板与提升组件连接，提升组件在承载机构移动至定位架下方时带动吸附组件上移吸附盖板并同步带动挡板上移，滑台带动承载机构连同吸附的盖板朝清洗机构方向平移。本发明专利技术解决了需要人工或者机械手将盖板上装到承载机构上，人工上装耗费人力，机械手上装则需单独配置一台机械手臂成本较高，并且上装盖板效率低，准确性不高的问题。题。题。

【技术实现步骤摘要】
一种手机盖板表面清洗设备


[0001]本专利技术属于等离子清洗
，更具体的说是涉及一种手机盖板表面清洗设备。

技术介绍

[0002]手机盖板需要经过清洗处理，等离子清洗机是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果，可用于手机盖板表面的清洗处理。
[0003]公开号为CN209303367U的一篇中国技术专利公开了一种等离子清洗机片料自动预校准上料调整机构，包括底座，底座的顶部固定安装等离子清洗机本体，等离子清洗机本体的正面与背面均固定安装固定块，固定块相离的一侧均开设有滑槽，滑槽的内部均活动连接滑块，滑块相离的一侧均固定连接活动杆，活动杆的右端均固定连接连接杆，连接杆的右端均通过支撑板固定连接，活动杆的右侧且位于连接杆的顶部固定连接有支撑杆，支撑杆的右端均通过传送带固定连接；该机构全自动校准调整上料，省时省力，提高工作效率。
[0004]但是其存在上料的连续性差，运行过程以及清洗过程中料片的稳定性差，效率低的问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的是针对现有技术的不足之处本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种手机盖板表面清洗设备，包括框架（10）、设置在框架（10）内的清洗机构（1），其特征在于：还包括与所述清洗机构（1）连接设置的滑台（2），所述滑台（2）的前端设置有上料机构（3），所述滑台（2）上滑动设置有承载机构（4），所述上料机构（3）包括固定在框架（10）上的支架（31）、设置在支架（31）上的传输组件（32）、设置在传输组件（32）尾端的转移组件（33）以及设置在转移组件（33）上方的提升组件（34）；所述承载机构（4）包括底座（41）以及设置在底座（41）上的限位承载台（42），所述限位承载台（42）上设置有上下滑动的吸附组件（43），所述吸附组件（43）随承载机构（4）的移动路径上设置有导向条（44）；所述转移组件（33）包括定位架（331）以及设置在定位架（331）尾端用于对盖板（100）进行阻挡限位的挡板（332），所述定位架（331）的两侧下方设置有对盖板（100）进行支撑的支撑部（333），所述挡板（332）与提升组件（34）固定连接，所述提升组件（34）用于在承载机构（4）移动至定位架（331）下方时带动吸附组件（43）上移吸附定位架（331）内的盖板（100）下表面并同步带动挡板（332）上移让位，所述滑台（2）用于带动承载机构（4）连同吸附的盖板（100）朝清洗机构（1）的方向平移，在平移的过程中所述吸附组件（43）在导向条（44）的作用下逐步下移使盖板（100）进入限位承载台（42）内。2.如权利要求1所述的一种手机盖板表面清洗设备，其特征在于：所述传输组件（32）包括传输带（321）以及设置在传输带（321）两侧的限位条（322），所述定位架（331）的支撑部（333）表面与传输带（321）表面持平设置，所述定位架（331）固定在框架（10）上。3.如权利要求1所述的一种手机盖板表面清洗设备，其特征在于：所述提升组件（34）包括固定在框架（10）上的升级气缸（341）以及在升级气缸（341）带动下做升级运动的提升架（342），所述提升架（342）的端部设置有承托件（343），所述承托件（34...

【专利技术属性】
技术研发人员：粗鲁，
申请(专利权)人：苏州盟萤电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：