静电复印光感受器制造技术

一种静电复印光感受器，其特征在于包括一个具有下述局部结构的可硬化硅氧烷树脂的树脂层：其中，Ｘ表示经碳原子键合到化学式中Ｙ的电荷可转移性提供基，碳原子构成所述提供基；Ｙ表示至少除去邻接的键合原子外的二价原子或基团。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种静电复印光感受器及其制造方法、以及装有该光感受器的处理盒和成像设备。近年来，含有机光导材料的静电复印光感受器已广泛使用。与其它光感受器相比，有机光感受器优点是其材料适用于可见光到红外光的各种曝光光源、并可选用不导致环境污染的材料，另外，有机光感受器的制造成本较低。它唯一的缺点是机械耐久性不高，大量的复印或打印时，光感受器表面会出现磨损和划伤。静电复印光感受器表面直接承受来自充电装置、显影装置、转印装置、清洁装置及类似装置的电和机械的外力。因此，静电复印光感受器要有抵抗这些外力的耐久性。具体地，应具有足够的耐久性以抵抗因光感受器表面上的滑动磨擦导致的磨损和划伤、以及因电晕放电时产生的臭氧和活性氧对光感受器表面的降解。为了满足光感受器表面所需的上述特性，对各种因素进行了研究。该研究表明，在光感受器表面涂覆BPZ聚碳酸酯作为粘接剂(粘接树脂)可提高表面耐磨性和调色剂成膜性。另外，日本专利公开6-118681公开了一种含硅胶石的可硬化硅氧烷树脂，该树脂被用作光感受器表面保护层。但是，应用BPZ聚碳酸酯粘接剂的光感受器的抗磨性和耐久性不高。另一方面，由包含硅胶的可硬化硅氧烷树脂构成的表面层显示出其抗磨性得到了改善，但在重复使用时，静电复印特性不充分、产生背景污染和图像模糊，并且耐久性不足。作为解决这个问题的方法，日本专利公开9-12494 3和9-190004提出一种光感受器，它的表面层是通过将有机硅氧烷改性空穴可迁移化合物结合到基于高聚物分子的可硬化有机硅氧烷上而制备的树脂层。然而，这种树脂层在高湿度下会产生背景污染和图像模糊，且该树脂层没有足够的耐久性。本专利技术的目的是提供一种静电复印光感受器，该静电复印光感受器在高温和高湿下反复使用时表现出高的表面硬度、良好的抗磨性、和稳定的静电复印特性，故能在反复使用时产生良好的图像，因而可克服上述的缺点，本专利技术还提出一种制造该静电复印光感受器的方法、并提供使用所述光感受器的处理盒和成像设备。本专利技术的专利技术人作了的最大努力。最终发现应用下述的任何一个实施方案能够实现本专利技术的目的。1.一种静电复印光感受器，其特征在于包括含可硬化的基于硅氧烷的树脂的树脂层。 其中，X代表电荷可转移性提供基、即经构成所述提供基的碳原子而键合到式中Y上的基团，Y代表除去邻接Y的键合原子(Si和C)的二价或多价基。2.一种静电复印光感受器，其特征在于包括含有具有以下局部结构的可硬化的基于硅氧烷的树脂的树脂层 其中，X代表电荷可转移性提供基、即经构成所述提供基的碳原子而键合到式中Y的基团，Y代表O、S、和NR，其中R代表H或单价的有机基团。3.一种静电复印光感受器，其特征在于包括含可硬化的基于硅氧烷的树脂的树脂层，通过使具有羟基或可水解基的有机硅氧烷化合物与具有羟基的电荷转移化合物起反应而制成该树脂层。4.一种静电复印光感受器，其特征在于包括含可硬化的基于硅氧烷的树脂的树脂层，通过使具有羟基或可水解基的有机硅氧烷化合物与具有氨基的电荷转移化合物起反应而制成该树脂层。5.一种静电复印光感受器，其特征在于包括含可硬化的基于硅氧烷的树脂的树脂层，通过使具有羟基或可水解基的有机硅氧烷化合物与具有巯基的电荷转移化合物起反应而制成该树脂层。6.一种如上述1-5项中任意一项所述的静电复印光感受器，其特征在于，所述含基于硅氧烷的树脂的树脂层被硬化。7.一种如上述1-6项中任意一项所述的静电复印光感受器，其特征在于，所述树脂层是表面层。8.一种如上述第7项中所述的静电复印光感受器，其特征在于，在所述表面层下面设有电荷产生层和电荷转移层。9.一种如上述第7项中所述的静电复印光感受器，其特征在于，包含电荷产生层和电荷转移层。10.一种如上述第7或8项中所述的静电复印光感受器，其特征在于，包含一个导电支承体，导电支承体上设有中间层，中间层上设有电荷产生层，电荷产生层上设有电荷转移层。11.一种如上述第7至8项中任一项所述的静电复印光感受器，其特征在于，所述表面层厚度是0.1-0.20μm。12.一种如上述第7至11项中任一项所述的静电复印光感受器，其特征在于，一个粘接层设置在所述表面层与邻接该表面层的层之间。13.一种如上述第1、2、和6至12项中任一项所述的静电复印光感受器，其特征在于，电荷转移性提供基是基于三芳基胺的化合物基团。14.一种如上述第1、2、和6至12项中任一项所述的静电复印光感受器，其特征在于，电荷转移性提供基是基于联氨的化合物基团。15.一种如上述第1、2、和6至12项中任一项所述的静电复印光感受器，其特征在于，电荷转移性提供基是基于苯乙烯三苯胺的化合物基团。16.一种如上述第1、2、和6至12项中任一项所述的静电复印光感受器，其特征在于，电荷转移性提供基是基于联苯胺的化合物基团。17.一种如上述第1、2、和6至12项中任一项所述的静电复印光感受器，其特征在于，电荷转移性提供基是基于丁二烯的化合物基团。18.在一个使用静电复印光感受器的成像设备中，成像过程经过充电、图像曝光、显影、转印、分离、和清洁处理，静电复印成像设备的特征在于，上述1至17项中任一项所述的静电复印光感受器被用作所述的静电复印光感受器。19.在用于成像设备、且其中装有静电复印光感受器的处理盒中，成像过程经过充电、图像曝光、显影、转印、分离、和清洁处理，该处理盒的特征在于，处理盒由上述1至17项中任一项中所述的静电复印光感受器与充电装置、图像曝光装置、显影装置、转印装置或分离装置、或清洁装置中的至少一个装置组合制成。20.一种制作静电复印光感受器的方法，其特征在于，涂覆在导电支承体上的是由可硬化的基于硅氧烷的树脂构成的一个树脂层，该树脂层是通过使具有羟基或可水解基的有机硅氧烷化合物与具有羟基的电荷转移化合物起反应而制成的，然后，在50℃温度以上使得到的涂层硬化。21.一种制作静电复印光感受器的方法，其特征在于，涂覆在导电支承体上的是由可硬化的基于硅氧烷的树脂构成的一个树脂层，该树脂层是通过使具有羟基或可水解基的有机硅氧烷化合物与具有氨基的电荷转移化合物起反应而制成的，然后，在约50℃温度以上使得到的涂层硬化。22.一种制作静电复印光感受器的方法，其特征在于，涂覆在导电支承体上的是由可硬化的基于硅氧烷的树脂构成的一个树脂层，该树脂层是通过使具有羟基或可水解基的有机硅氧烷化合物与具有巯基的电荷转移化合物起反应而制成的，然后，在约50℃温度以上使得到的涂层硬化。 附图说明图1是包含本专利技术光感受器的成像设备的截面图。下面进一步说明本专利技术。在本专利技术中，所述的电荷可转移性提供基在这里表示包含常用电荷转移材料(以下称作CTM或电荷可转移化合物)结构的基团、和经过构成所述电荷可转移化合物的碳原子或经过含有作为部分结构的所述电荷可转移化合物的化合物的碳原子而键合到化学式中Y的结构的基团。也就是说，可列为典型的电荷可转移性提供基的材料是具有实用电荷转移化合物结构的基团，例如三芳基胺衍生物，如噁唑衍生物、噁二唑衍生物、咪唑衍生物、三苯胺和类似物、9-(对-二乙氨基苯乙烯基)蒽、1，1-双-(4-二苄基氨基酚)丙烷、苯乙烯蒽、苯乙烯吡唑啉、苯腙、α-苯芪衍生物、噻唑衍生物、三唑衍生物、吩嗪衍生物、氮蒽衍生物、苯并呋喃衍生物、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种静电复印光感受器，包括：一个支承体，一个感光层，和一个通过硬化含有以下化学式表示的电荷转移化合物的可硬化硅氧烷树脂所得到的树脂层， －＊－Ｙ－Ｘ 其中，Ｘ表示经碳原子键合到化学式中Ｙ的电荷可转移性提供基，该碳原子构成所述提供基；Ｙ表示除去邻接Ｙ的键合原子（Ｓｉ和Ｃ）的二价或多价基。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：崎村友男，伊丹明彦，渡边一雅，藤本信吾，芝田丰子，崎村友子，
申请(专利权)人：柯尼卡株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]