抗刺穿性增强的经再拉制的玻璃制造技术

用于电子装置的盖板元件，其包括经再拉制的玻璃元件，第一和第二主表面，以及设置在第一主表面上方的聚合物层。经再拉制的玻璃元件具有减小的厚度以及小于或等于1纳米的平均表面粗糙度。进一步地，所述盖板元件可经受得住大于6厘米的笔落高度，或者所述笔落高度比具有非经再拉制的玻璃元件层的盖板元件的对照笔落高度大2.5倍或更大，所述笔落高度根据掉落测试1测量。落测试1测量。落测试1测量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】抗刺穿性增强的经再拉制的玻璃
[0001]相关申请的交叉参考
[0002]本申请根据35 U.S.C.
§
119要求2018年7月17日提交的系列号为62/699210的美国临时申请的优先权权益，本文以该申请的内容为基础并将其通过引用全文纳入本文。


[0003]本公开一般涉及经再拉制的玻璃制品、元件和层，以及其各种制造方法。更具体地，本公开涉及抗刺穿的这些经再拉制的制品、元件和层及其制造方法。

技术介绍

[0004]用于装置应用的薄的形式的玻璃产品和部件变得越来越受欢迎。例如，玻璃已经持续多年用作电子装置的盖板以保护显示器和触摸传感器不受损伤。为了有助于设备设计变化和减轻电子装置的重量，工业上正更加频繁地使用厚度减小的玻璃。
[0005]这些电子装置中的一些也可使用挠性显示器。光学透明性和热稳定性常是挠性显示应用的期望性质。另外，挠性显示器应具有高的抗疲劳性和抗刺穿性，包括抗小弯曲半径下的失效，对于具有触摸屏功能和/或可折叠的挠性显示器尤为如此。
[0006]常规挠性玻璃材料提供了挠性基材和/或显示应用所需的许多有益性质。然而，将玻璃材料用于这些应用的努力至今仍不成功。一般来说，可将玻璃基材制造到非常低的厚度水平(<25μm)，以获得越来越小的弯曲半径。这些“薄”玻璃基材承受着有限的抗刺穿性。同时，可制造出抗刺穿性更好的较厚的玻璃基材(>150μm)，但是当弯曲时，这些玻璃基材缺少合适的抗疲劳性和机械可靠性。
[0007]因此，需要能可靠地用于挠性基材和/或显示应用和功能，尤其是用于挠性电子装置应用的改进的电子装置组件和玻璃盖板元件。

技术实现思路

[0008]在第1个方面中，具有一种盖板元件，其包括经再拉制的玻璃元件和聚合物层，所述经再拉制的玻璃元件的厚度为约25μm至约125μm，并且平均表面粗糙度(Ra)等于或小于1nm，所述再拉制的玻璃元件还具有第一主表面、第二主表面，所述聚合物层的厚度为约25μm至约125μm，并且设置在经再拉制的玻璃元件的第一主表面上方，其中，所述盖板元件的经再拉制的玻璃元件可经受得住大于6cm的笔落高度，其中，笔落高度根据掉落测试1进行测量。
[0009]在方面1的一些实例中，经再拉制的玻璃元件可经受得住大于8cm，大于10cm或大于14cm的笔落高度。
[0010]在方面1的另一个实例中，经再拉制的玻璃元件的厚度为约50μm至约75μm。
[0011]在方面1的另一个实例中，经再拉制的玻璃元件的平均表面粗糙度(Ra)小于或等于0.7nm或者小于或等于0.4nm。
[0012]在方面1的另一个实例中，聚合物层包含聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳
酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯。
[0013]在方面1的另一个实例中，聚合物层通过粘合剂连接到经再拉制的玻璃元件，其中，所述粘合剂直接接触经再拉制的玻璃元件和聚合物层。
[0014]在方面1的另一个实例中，盖板元件与电子装置进一步组合。
[0015]在第2个方面中，具有一种制造盖板元件组件的方法，所述方法包括：通过对玻璃片进行再拉制来形成经再拉制的玻璃片元件，例如，经熔合拉制的玻璃片，所述经再拉制的玻璃片元件具有第一主表面，第二主表面，约25μm至约125μm的最终厚度，以及等于或小于1nm的最终平均表面粗糙度(Ra)；在经再拉制的玻璃片元件的第一主表面的上方设置聚合物层，所述聚合物层的厚度为约25μm至约125μm，并且其中，所述盖板元件的经再拉制的玻璃元件可经受得住大于6cm的笔落高度，其中，笔落高度根据掉落测试1进行测量。
[0016]在方面2的一个实例中，在再拉制以形成经再拉制的玻璃片元件之前，玻璃片的厚度为约250μm至约750μm。
[0017]在方面2的另一个实例中，玻璃片被进料到再拉制炉中，玻璃片在再拉制炉中加热以具有约100,000泊至约10,000,000泊的粘度，并且被拉制到约25μm至约125μm的最终厚度以形成经再拉制的玻璃片元件。
[0018]在方面2的另一个实例中，经再拉制的玻璃片元件的平均表面粗糙度(Ra)为约0.1nm至约0.7nm。
[0019]在方面2的另一个实例中，经再拉制的玻璃片元件的厚度为约50μm至约75μm。
[0020]在方面2的另一个实例中，经再拉制的玻璃片元件可经受得住大于10cm的笔落高度。
[0021]在方面2的另一个实例中，经再拉制的玻璃片元件可经受得住约10cm至约16cm的笔落高度。
[0022]在方面2的另一个实例中，聚合物层包含聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯。
[0023]在方面2的另一个实例中，聚合物层通过粘合剂连接到经再拉制的玻璃片元件，其中，所述粘合剂直接接触经再拉制的玻璃片元件和聚合物层。
[0024]在方面2的另一个实例中，所述方法还包括：在经再拉制的玻璃片元件的主表面上方设置聚合物层之前，将经再拉制的玻璃片元件切割成分离的经再拉制的玻璃片零件。
[0025]上述各方面(或这些方面的实例)中的任意一个方面(或方面的实例)可以单独提供或与上文论述的该方面的任何一个或多个实例组合来提供；例如，第1个方面可以单独提供或与上文论述的第1个方面的任意一个或多个实例组合提供；第2个方面可以单独提供或与上文的第2个方面的任意一个或多个实例组合提供；以此类推。
[0026]在以下的具体实施方式中给出了其他特征和优点，其中的部分特征和优点对本领域的技术人员而言，根据所作描述就容易看出，或者通过实施包括以下具体实施方式、权利要求书以及附图在内的本文所述的各个实施方式而被认识。
[0027]应理解，前面的一般性描述和以下的具体实施方式都仅仅是示例性的，并且旨在提供用于理解权利要求的性质和特性的总体评述或框架。所附附图提供了进一步理解，附图被结合在本说明书中并构成说明书的一部分。附图说明了一个或多个实施方式，并与说明书一起用来解释各个实施方式的原理和操作。本文所用的方向术语—例如上、下、右、左、
前、后、顶、底—仅仅是参照绘制的附图而言，并不用来暗示绝对的取向。
[0028]附图简要说明
[0029]图1是根据本公开的一个方面所述的形成经再拉制的玻璃和化学薄化的玻璃的方法的流程图。
[0030]图2是根据本公开的一个方面所述的包括经再拉制的玻璃层的堆叠组件的截面图。
[0031]图3是根据本公开的一个方面所述的包括经再拉制的玻璃层的堆叠组件的截面图。
[0032]图4是根据本公开的一个方面所述的各种不同玻璃样品的笔落失效高度的图表。
[0033]图5是根据本公开的一个方面所述的在立方角接触之后，各种不同的玻璃样品在两点弯曲下的失效概率与强度的韦布尔图。
[0034]图6A是根据本公开的方面所述的样品玻璃的表面图像。
[0035]图6B是根据本公开的方面所述的样品玻璃的表面本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种盖板元件，其包括：经再拉制的玻璃元件，其包括约25μm至约125μm的厚度和等于或小于1nm的平均表面粗糙度(Ra)，所述经再拉制的玻璃元件还包括第一主表面，第二主表面，和聚合物层，其包括约25μm至约125μm的厚度并且被设置在经再拉制的玻璃元件的第一主表面的上方，其中，盖板元件的经再拉制的玻璃元件可经受得住大于6cm的笔落高度，其中，所述笔落高度根据掉落测试1进行测量。2.如权利要求1所述的盖板元件，其中，经再拉制的玻璃元件包括经受得住大于8cm的笔落高度的能力。3.如权利要求1或权利要求2所述的盖板元件，其中，经再拉制的玻璃元件包括约50μm至约75μm的厚度。4.如权利要求3所述的盖板元件，其中，经再拉制的玻璃元件可经受得住大于10cm的笔落高度。5.如权利要求3所述的盖板元件，其中，经再拉制的玻璃元件可经受得住大于14cm的笔落高度。6.如权利要求1-5中任一项所述的盖板元件，其中，经再拉制的玻璃元件的平均表面粗糙度(Ra)小于或等于0.7nm。7.如权利要求1-6中任一项所述的盖板元件，其中，经再拉制的玻璃元件的平均表面粗糙度(Ra)小于或等于0.4nm。8.如权利要求1-7中任一项所述的盖板元件，其中，聚合物层包含聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯。9.如权利要求1-8中任一项所述的盖板元件，其中，聚合物层通过粘合剂连接到经再拉制的玻璃元件，其中，所述粘合剂直接接触经再拉制的玻璃元件和聚合物层。10.如权利要求1-9中任一项所述的盖板元件，其中，所述盖板元件与电子装置进一步组合。11.一种制造盖板元件组件的方法，其包括：通过对玻璃片进行再拉制来形成经再拉制的玻璃片元件，所述经再拉制的玻璃片元件包括第一主表面，第二主表面，约25μm至约125μm的最...

【专利技术属性】
技术研发人员：B，
申请(专利权)人：康宁股份有限公司，
类型：发明
国别省市：