一种基于铁皮石斛粉制备的智能研磨设备制造技术

本发明专利技术涉及一种基于铁皮石斛粉制备的智能研磨设备，包括：基座、固定板、横梁、电动推杆、研磨马达、研磨盘、研磨仓、振动板、排料口、中控面板和压力传感器。本发明专利技术通过检测待研磨铁皮石斛的胶质含量和水分含量，中控面板中的中控模块根据待研磨铁皮石斛的胶质含量和水分含量计算铁皮石斛质量评分并根据质量评分对研磨过程中的研磨力度和研磨盘转速进行一次调节，保证了研磨过程中铁皮石斛含有的胶质不被破坏，从而保证了药效的完整性；在采用所述研磨设备进行铁皮石斛研磨前，检测待研磨铁皮石斛的平均粒度，中控模块根据待研磨铁皮石斛的平均粒度调节铁皮石斛的初始研磨时长，通过铁皮石斛的粒度确定研磨所需初始时长，加快研磨完成时间。研磨完成时间。研磨完成时间。

【技术实现步骤摘要】
一种基于铁皮石斛粉制备的智能研磨设备


[0001]本专利技术涉及草药研磨
，尤其涉及一种基于铁皮石斛粉制备的智能研磨设备。

技术介绍

[0002]石斛，又名仙斛兰韵、不死草，茎直立，肉质状肥厚，稍扁的圆柱形，药用植物，性味甘淡微咸，寒，归胃、肾，肺经，益胃生津，滋阴清热。石斛花姿优雅，玲珑可爱，花色鲜艳，气味芳香，被喻为四大观赏洋花之一，在将石斛收集会来之后，需要将石斛进行晾晒，再进行研磨，使其出粉，方便进行收集和存放，且使用的时候，方便进行混合和煎制。
[0003]胶质含量是铁皮石斛质量评价的一项重要标准，然而，在传统铁皮石斛研磨工艺中常常忽略胶质含量的重要性，研磨过程的调节以研磨量与铁皮石斛粒度为主，导致研磨过程中胶质被破坏，降低铁皮石斛的有效药性。

技术实现思路

[0004]为此，本专利技术提供一种基于铁皮石斛粉制备的智能研磨设备，用以克服现有技术研磨过程中胶质被破坏导致铁皮石斛的有效药性降低的问题。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供一种基于铁皮石斛粉制备的智能研磨设备，包括：基座；两个固定板，其分别竖直焊接在所述基座上；横梁，其设置在所述两个固定板之间；电动推杆，其设置在所述横梁中间并与所述横梁通过螺栓连接；研磨马达，其设置在所述电动推杆下方并与所述电动推杆相连；研磨盘，其与所述研磨马达相连并设置在研磨马达下方；研磨仓，其设置在所述基座上方，用以盛放待研磨铁皮石斛；两个振动板，其分别设置在所述研磨仓两侧并与所述研磨仓和所述基座相连；排料口，其设置在所述基座上，用以排放研磨完成的铁皮石斛粉；压力传感器，其设置在所述电动推杆上，用以检测研磨时研磨盘对铁皮石斛的压力；中控面板，其设置在所述固定板上，所述中控面板设有显示屏、操作板和中控模块，所述中控模块主体为PLC，中控模块与所述电动推杆、所述研磨马达和两个振动板分别相连，用以调控各部件工作状态；在采用所述研磨设备进行铁皮石斛研磨前，对铁皮石斛进行抽检，检测待研磨铁皮石斛的胶质含量和水分含量，所述中控模块根据待研磨铁皮石斛的胶质含量和水分含量计算铁皮石斛质量评分并根据质量评分对研磨过程中的研磨力度和研磨盘转速进行一次调节；在采用所述研磨设备进行铁皮石斛研磨前，检测待研磨铁皮石斛的平均粒度，所述中控模块根据待研磨铁皮石斛的平均粒度调节铁皮石斛的初始研磨时长；在采用所述研磨设备进行铁皮石斛研磨前，检测待研磨铁皮石斛的质量，所述中控模
块根据待研磨铁皮石斛的质量对研磨过程中的研磨力度进行二次调节并对振动板振动频率进行调节；当采用所述研磨设备研磨铁皮石斛时，所述中控模块控制所述电动推杆下压，所述压力传感器监测所述研磨盘对待研磨铁皮石斛的压力并将监测结果传递至所述中控模块；当所述压力传感器监测到压力值达到二次调节后的研磨力度时，所述中控模块控制所述电动推杆停止下压，中控模块启动研磨马达使研磨盘以一次调节后的转速对铁皮石斛进行研磨；所述中控模块控制所述振动板以一次调节后的振动频率振动；当所述研磨设备对铁皮石斛进行研磨并经过初始研磨时长时，检测所述研磨仓内铁皮石斛粉的粒度并将检测结果传递至所述中控模块，中控模块将检测结果与铁皮石斛粉研磨合格粒度参数进行对比，根据对比结果确定补偿研磨时长。
[0006]进一步地，在进行铁皮石斛研磨前，在待研磨的质量为M的铁皮石斛中抽取质量为m的铁皮石斛，检测铁皮石斛胶质含量A、水分含量B和铁皮石斛平均粒度D，将铁皮石斛胶质含量A、水分含量B和铁皮石斛平均粒度D输入至所述中控模块，中控模块计算铁皮石斛质量评分C:其中，a为铁皮石斛胶质含量对铁皮石斛质量评分补偿参数，b为水分含量对铁皮石斛质量评分补偿参数。
[0007]进一步地，所述中控模块内设有铁皮石斛质量评分参数C0、铁皮石斛质量评分对研磨盘转速调节参数e、铁皮石斛质量评分对研磨力度调节参数f1、研磨盘标准转速E和标准研磨力度F;所述中控模块将C与铁皮石斛质量评分参数C0做对比，根据对比结果调节所述研磨设备的研磨速度与研磨力度；当C≤C0时，所述中控模块判定铁皮石斛质量评分参数过低，中控模块加大研磨设备的研磨力度与研磨速度，中控模块将研磨力度调节至F
’
并将研磨盘转速调节至E
’
,其中，F
’
= (C0-C)
×
f1+F，E
’
= (C0-C)
×
e+E;当C＞C0时，所述中控模块判定铁皮石斛质量评分参数合格。
[0008]进一步地，所述中控模块内还设有初始研磨时长参数T1、粒度参数矩阵G0和粒度参数对初始研磨时间调节参数矩阵K0;对于粒度参数矩阵G0，G0(G1,G2)，其中，G1为第一预设粒度参数，G2为第二预设粒度参数，G1＜G2；对于粒度参数对初始研磨时间调节参数矩阵K0，K0(K1,K2)，其中，K1为第一预设粒度参数对初始研磨时间调节参数，K2为第二预设粒度参数对初始研磨时间调节参数；在进行铁皮石斛研磨前，检测待研磨铁皮石斛平均粒度G并将检测结果传递至中控模块，中控模块将G与粒度参数矩阵G0内参数进行对比：当G≤G1时，所述中控模块判定铁皮石斛粒度过低，对铁皮石斛研磨到标准粒度所需时间较小，中控模块从粒度参数对初始研磨时间调节参数矩阵K0中选取K1作为粒度参数对初始研磨时间调节参数；当G1＜G≤G2时，所述中控模块判定铁皮石斛粒度在合理范围，中控模块不因铁皮石斛
粒度调节初始研磨时间；当G＞G2时，所述中控模块判定铁皮石斛粒度过高，对铁皮石斛研磨到标准粒度所需时间较长，中控模块从粒度参数对初始研磨时间调节参数矩阵K0中选取K2作为粒度参数对初始研磨时间调节参数；当所述中控模块从矩阵K0中选取Ki作为粒度参数对初始研磨时间调节参数时，i=1,2,中控模块将初始研磨时间调节为T1
’
，当G≤G1时，T1
’
=T1-（G1-G）
×
K1, 当G＞G2时，T1
’
=T1+（G-G2）
×
K2。
[0009]进一步地，所述中控模块内还设有待研磨铁皮石斛质量参数矩阵M0、铁皮石斛质量对研磨力度调节参数f2；对于待研磨铁皮石斛质量参数矩阵M0，M0(M1,M2,M3),其中，M1为第一预设待研磨铁皮石斛质量参数，M2为第二预设待研磨铁皮石斛质量参数，M3为第三预设待研磨铁皮石斛质量参数，M1＜M2＜M3；在进行铁皮石斛研磨前，检测待研磨铁皮石斛质量M并将检测结果传递至所述中控模块，中控模块将待研磨铁皮石斛质量M与待研磨铁皮石斛质量参数矩阵M0内参数进行对比，根据对比结果中控模块将研磨力度调节至F”；当M≤M1时，所述中控模块判定待研磨铁皮石斛质量较少，中控模块降低研磨力度，F”= F
’-
(M1-M)
×
f2；当M1＜M≤M2时，所述中控模块判定待研磨铁皮石斛质量适中，中控模块不因铁皮石斛质量调节研磨力度；当M2＜M≤M3时，所述中控模块判定待研磨铁皮石斛质量较大，中控模块加大研磨力度，F”=F
’
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于铁皮石斛粉制备的智能研磨设备，其特征在于，包括：基座；两个固定板，其分别竖直焊接在所述基座上；横梁，其设置在所述两个固定板之间；电动推杆，其设置在所述横梁中间并与所述横梁通过螺栓连接；研磨马达，其设置在所述电动推杆下方并与所述电动推杆相连；研磨盘，其与所述研磨马达相连并设置在研磨马达下方；研磨仓，其设置在所述基座上方，用以盛放待研磨铁皮石斛；两个振动板，其分别设置在所述研磨仓两侧并与所述研磨仓和所述基座相连；排料口，其设置在所述基座上，用以排放研磨完成的铁皮石斛粉；压力传感器，其设置在所述电动推杆上，用以检测研磨时研磨盘对铁皮石斛的压力；中控面板，其设置在所述固定板上，所述中控面板设有显示屏、操作板和中控模块，所述中控模块主体为PLC，中控模块与所述电动推杆、所述研磨马达和两个振动板分别相连，用以调控各部件工作状态；在采用所述研磨设备进行铁皮石斛研磨前，对铁皮石斛进行抽检，检测待研磨铁皮石斛的胶质含量和水分含量，所述中控模块根据待研磨铁皮石斛的胶质含量和水分含量计算铁皮石斛质量评分并根据质量评分对研磨过程中的研磨力度和研磨盘转速进行一次调节；在采用所述研磨设备进行铁皮石斛研磨前，检测待研磨铁皮石斛的平均粒度，所述中控模块根据待研磨铁皮石斛的平均粒度调节铁皮石斛的初始研磨时长；在采用所述研磨设备进行铁皮石斛研磨前，检测待研磨铁皮石斛的质量，所述中控模块根据待研磨铁皮石斛的质量对研磨过程中的研磨力度进行二次调节并对振动板振动频率进行调节；当采用所述研磨设备研磨铁皮石斛时，所述中控模块控制所述电动推杆下压，所述压力传感器监测所述研磨盘对待研磨铁皮石斛的压力并将监测结果传递至所述中控模块；当所述压力传感器监测到压力值达到二次调节后的研磨力度时，所述中控模块控制所述电动推杆停止下压，中控模块启动研磨马达使研磨盘以一次调节后的转速对铁皮石斛进行研磨；所述中控模块控制所述振动板以一次调节后的振动频率振动；当所述研磨设备对铁皮石斛进行研磨并经过初始研磨时长时，检测所述研磨仓内铁皮石斛粉的粒度并将检测结果传递至所述中控模块，中控模块将检测结果与铁皮石斛粉研磨合格粒度参数进行对比，根据对比结果确定补偿研磨时长。2.根据权利要求1所述的基于铁皮石斛粉制备的智能研磨设备，其特征在于，在进行铁皮石斛研磨前，抽取质量为m的待研磨铁皮石斛，检测铁皮石斛胶质含量A、水分含量B和铁皮石斛平均粒度D，将铁皮石斛胶质含量A、水分含量B和铁皮石斛平均粒度D输入至所述中控模块，中控模块计算铁皮石斛质量评分C:其中，a为铁皮石斛胶质含量对铁皮石斛质量评分补偿参数，b为水分含量对铁皮石斛质量评分补偿参数。3.根据权利要求1所述的基于铁皮石斛粉制备的智能研磨设备，其特征在于，所述中控
模块内设有铁皮石斛质量评分参数C0、铁皮石斛质量评分对研磨盘转速调节参数e、铁皮石斛质量评分对研磨力度调节参数f1、研磨盘标准转速E和标准研磨力度F;所述中控模块将C与铁皮石斛质量评分参数C0做对比，根据对比结果调节所述研磨设备的研磨速度与研磨力度；当C≤C0时，所述中控模块判定铁皮石斛质量评分参数过低，中控模块加大研磨设备的研磨力度与研磨速度，中控模块将研磨力度调节至F
’
并将研磨盘转速调节至E
’
,其中，F
’
= (C0-C)
×
f1+F，E
’
= (C0-C)
×
e+E;当C＞C0时，所述中控模块判定铁皮石斛质量评分参数合格。4.根据权利要求1所述的基于铁皮石斛粉制备的智能研磨设备，其特征在于，所述中控模块内还设有初始研磨时长参数T1、粒度参数矩阵G0和粒度参数对初始研磨时间调节参数矩阵K0;对于粒度参数矩阵G0，G0(G1,G2)，其中，G1为第一预设粒度参数，G2为第二预设粒度参数，G1＜G2；对于粒度参数对初始研磨时间调节参数矩阵K0，K0(K1,K2)，其中，K1为第一预设粒度参数对初始研磨时间调节参数，K2为第二预设粒度参数对初始研磨时间调节参数；在进行铁皮石斛研磨前，检测待研磨铁皮石斛平均粒度G并将检测结果传递至中控模块，中控模块将G与粒度参数矩阵G0内参数进行对比：当G≤G1时，所述中控模块判定铁皮石斛粒度过低，对铁皮石斛研磨到标准粒度所需时间较小，中控模块从粒度参数对初始研磨时间调节参数矩阵K0中选取K1作为粒度参数对初始研磨时间调节参数；当G1＜G≤G2时，所述中控模块判定铁皮石斛粒度在合理范围，中控模块不因铁皮石斛粒度调节初始研磨时间；当G＞G2时，所述中控模块判定铁皮石斛粒度过高，对铁皮石斛研磨到标准粒度所需时间较长，中控模块从粒度参数对初始研磨时间调节参数矩阵K0中选取K2作为粒度参数对初始研磨时间调节参数；当所述中控模块从矩阵K0中选取Ki作为粒度参数对初始研磨时间调节参数时，i=1,2,中控模块将初始研磨时间调节为T1
’
，当G≤G1时，T1
’
=T1-（G1-G）
×
K1, 当G＞G2时，T1
’
=T...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋飒飒，徐超越，叶玉婷，宋仙水，宋敏全，
申请(专利权)人：浙江铁枫堂药业有限公司，
类型：发明
国别省市：