一种胶囊模板制造技术

技术编号:27550886 阅读:17 留言:0更新日期:2021-03-03 19:38
本实用新型专利技术公开了一种胶囊模板,包括上帽模板、下帽模板,所述上帽模板上设置有上帽腔,所述下帽模板上设置有下帽腔,所述下帽腔、上帽腔的数量为多个。所述上帽模板、下帽模板均为板状的矩形结构,且所述上帽模板、下帽模板的尺寸均为400

【技术实现步骤摘要】
一种胶囊模板


[0001]本技术涉及模板
,具体为一种胶囊模板。

技术介绍

[0002]地质勘探发现有工业价值的油后就要进行石油开采的工作,再利用同位素测井,在同位素测井的同时就要使用同位素。现有技术将同位素整体放置,用的时候取出来,这样容易造成粉尘对同位素的污染。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种胶囊模板,以解决上述
技术介绍
中提出的现有技术将同位素整体放置,用的时候取出来,这样容易造成粉尘对同位素的污染的问题。
[0004]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种胶囊模板,包括上帽模板、下帽模板,所述上帽模板上设置有上帽腔,所述下帽模板上设置有下帽腔,所述下帽腔、上帽腔的数量为多个。
[0005]优选的,所述上帽模板、下帽模板均为板状的矩形结构,且所述上帽模板、下帽模板的尺寸均为400
㎜ꢀ
X200


[0006]优选的,所述下帽腔的深度大于上帽腔的深度,所述下帽腔、上帽腔均为半个胶囊的形状。
[0007]优选的,多个所述下帽腔、上帽腔位置对应,所述下帽腔、上帽腔组合形成的尺寸为Ф17X38


[0008]有益效果
[0009]本技术提供了一种胶囊模板,具备以下有益效果:
[0010]该Ф17X38

胶囊制作模具可生产Ф17X38

胶囊,将同位素放置于胶囊中,使同位素有效管理,避免粉尘污染。该Ф17X38
r/>胶囊制作模具400
㎜ꢀ
X200

,分上帽模板和下帽模板两部分组成。经生产实验,可生产出合格容积胶囊。
附图说明
[0011]图1为本技术的一种胶囊模板的上帽模板正面结构图;
[0012]图2为本技术的一种胶囊模板的上帽模板侧面结构图;
[0013]图3为本技术的一种胶囊模板的下帽模板正面结构图;
[0014]图4为本技术的一种胶囊模板的下帽模板侧面结构图。
[0015]图中:上帽模板1、上帽腔2、下帽模板3、下帽腔4。
具体实施方式
[0016]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的
实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0017]请参阅图1-4,本技术提供一种技术方案:一种胶囊模板,包括上帽模板1、下帽模板3,所述上帽模板1上设置有上帽腔2,所述下帽模板3上设置有下帽腔4,所述下帽腔4、上帽腔2的数量为多个。
[0018]进一步地,所述上帽模板1、下帽模板3均为板状的矩形结构,且所述上帽模板1、下帽模板3的尺寸均为400
㎜ꢀ
X200


[0019]进一步地,所述下帽腔4的深度大于上帽腔2的深度,所述下帽腔4、上帽腔2均为半个胶囊的形状。
[0020]进一步地,多个所述下帽腔4、上帽腔2位置对应,所述下帽腔4、上帽腔2组合形成的尺寸为Ф17X38


[0021]具体的:该Ф17X38

胶囊制作模具可生产Ф17X38

胶囊,将同位素放置于胶囊中,使同位素有效管理,避免粉尘污染。该Ф17X38

胶囊制作模具400
㎜ꢀ
X200

,分上帽模板和下帽模板两部分组成。经生产实验,可生产出合格容积胶囊。
[0022]尽管已经示出和描述了本技术的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种胶囊模板,包括上帽模板(1)、下帽模板(3),其特征在于:所述上帽模板(1)上设置有上帽腔(2),所述下帽模板(3)上设置有下帽腔(4),所述下帽腔(4)、上帽腔(2)的数量为多个。2.根据权利要求1所述的一种胶囊模板,其特征在于:所述上帽模板(1)、下帽模板(3)均为板状的矩形结构,且所述上帽模板(1)、下帽模板(3)的尺寸均为400

X2...

【专利技术属性】
技术研发人员:梁一霖孙旭联
申请(专利权)人:陕西鑫玛电子仪器有限公司
类型:新型
国别省市:

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