防漏构件及清洁装置制造方法及图纸

密封构件２６４用于安装在清洁图像形成装置旋转体表面的清洁装置上，在由清洁装置清洁彩色打印机１的感光鼓１０表面时，防止显影剂从感光鼓１０侧面泄漏。密封构件２６４包括接触部２６４ａ和移动限制部２６４ｂ。接触部２６４ａ，在接近和远离感光鼓１０表面的方向上可弹性变形，其与感光鼓１０表面可保持线接触，以使显影剂不能通过其与感光鼓１０表面之间。移动限制部２６４ｂ，与接触部２６４ａ连接，为用于限制密封构件２６４移动的部分，使其不能随感光鼓１０的转动发生移动。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及防漏构件以及使用该防漏构件的清洁装置，利用清洁构件清洁 图像形成装置的静电潜像载体表面、中间转印部件或显影装置显影辊表面等旋 转体表面时，防止从旋转体表面泄漏显影剂。
技术介绍
通常，图像形成装置具有基于图像信息形成图像的图像形成部、将在图像 形成部形成的图像定影在纸张上的定影部、以及排出由定影部完成定影的纸张 的排出部。在这种图像形成装置中，图像形成部基于图像信息在纸张上形成图 像，由定影部定影图像。随后，完成图像定影的纸张经排出部排出。图像形成部通常具有在表面形成静电潜像的静电潜像载体、向静电潜像载 体提供显影剂的显影装置、以及清洁静电潜像载体表面的清洁装置。在这种图 像形成部中，基于图像信息在静电潜像载体表面形成静电潜像，从显影装置向 静电潜像载体侧提供显影剂。接着，将形成于静电潜像载体表面的图像转印到 纸张上。随后，用清洁装置清洁静电潜像载体。在上述图像形成装置中包含多个承载显影剂的旋转体，有的还设有防止显 影剂从旋转体泄漏的密封构件。例如有的静电潜像载体的清洁装置，包括刮 板构件，从可承载显影剂图像的静电潜像载体表面刮取显影剂；框架，其内部 容纳由刮板构件刮取下的显影剂；密封构件，设置于刮板构件两端部，用于防 止显影剂从刮板构件两端部泄漏。由于密封构件与刮板构件之间的定位精度较 低从而显影剂容易从静电潜像载体和密封构件之间泄漏。为提高密封构件的精度，日本专利特开平7-5794号公报公开了一种根据刮板构件定位密封构件的 清洁装置。可是，由于在已有的清洁装置中与可承载显影剂图像的静电潜像载体接触 的部分是由无纺布制成的，因此清洁装置与静电潜像载体之间会产生细小的缝 隙。而且由于难以将无纺布制作成与静电潜像载体表面完全吻合的形状，清洁 装置与静电潜像载体之间的密封性差。因此，当使用细粒显影剂、液体显影剂 时，显影剂会从上述缝隙中泄漏到外部。另外，上述对比文献虽然提高了相对于刮板构件的密封构件位置精度，却 并未涉及相对于可承载显影剂图像的静电潜像载体的密封构件定位。而实际 上，由于静电潜像载体通常为鼓状物，相对于静电潜像载体的密封构件的定位 也不容忽视。 一旦密封构件相对于静电潜像载体发生位置偏移，密封构件的整 个接触面就不能与鼓状物表面均匀抵接，容易发生泄漏。而当静电潜像载体旋 转时，密封构件可能会随着静电潜像载体的旋转向旋转方向移动，此时很难保 持二者间良好的接触关系。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是，在使用细粒显影剂、液体显影剂时防止其泄 漏。其次，限制密封构件随静电潜像载体旋转而移动。本专利技术提出的第一种防漏构件，是在清洁图像形成装置旋转体表面时用于 防止显影剂从清洁旋转体的清洁构件侧部泄漏的防漏构件，包括接触部和移 动限制部。接触部由弹性材料所构成，可在接近，远离旋转体表面的方向上弹 性变形，并具有第一抵接部。第一抵接部可沿旋转体表面与旋转体表面保持线 接触、以使显影剂不能通过其与旋转体表面之间。移动限制部，与接触部连接， 用于限制接触部在与旋转体的接触状态下产生移动。该防漏构件，在清洁旋转体表面时，其接触部与旋转体表面保持线接触， 以使显影剂不能通过其与旋转体表面之间。在这里，由于第一抵接部可沿旋转体表面与旋转体表面保持线接触状态， 因此与面接触状态相比接触面积少，由接触部分施加到旋转体的压力增大。所 以，显影剂不易向外部泄漏。本专利技术提出的第二种防漏构件是在第一种防漏构件的基础上，接触部还具 有与第一抵接部平行地设置在同一表面上，并可与所述旋转体表面保持线接触 的第二抵接部。在这里，第二抵接部可进一步阻止显影剂向外部泄漏。而且，同接触部整 体与旋转体接触相比，摩擦力的作用面积变小。本专利技术提出的第三种防漏构件是在第一种防漏构件的基础上，其接触部还包括形成在与设有第一抵接部面相对的面上的槽。该槽沿第一抵接部的长 度方向延伸。因而防漏构件可在旋转体轴向上弹性变形。 在这里，旋转体延伸方向上的变形变得容易起来。本专利技术提出的第四种防漏构件是在第一种防漏构件的基础上，其移动限制 部，与接触部一体形成，限制接触部随旋转体的转动而移动。在用清洁装置清除残留于旋转体表面上的调色剂时，防漏构件的接触部与旋转体表面保持接触，使显影剂不能在接触部与旋转体表面之间通过；而接触 部在与接触部一体形成的移动限制部的限制下，不能随旋转体的转动而移动。 这样，可限制防漏构件随旋转体的转动产生移动。本专利技术提出的第五种防漏构件是在第四种防漏构件的基础上，其移动限制 部具有配合连接部，嵌合于清洁装置框架。这样，可通过使配合连接部与框架嵌合而限制防漏构件的移动。本专利技术提出的第六种防漏构件是在第五种防漏构件的基础上，移动限制部 的配合连接部为突起部，用于嵌合到形成在框架上的插孔。这样，可通过将突起部嵌入到形成在框架上的插孔内以限制防漏构件的移 动。在这里，该插孔可以是未贯通的凹孔，亦可为贯通孔。本专利技术提出的第七种防漏构件是在第二种防漏构件的基础上，接触部中与 旋转体表面接触的面的曲率，与旋转体表面的曲率相同。因此，可防止接触部与静电潜像载体之间产生缝隙。本专利技术所提出的第一种清洁装置，用于清洁图像形成装置的旋转体表面， 包括框架、刮板构件以及防漏构件。框架，设置于旋转体附近。刮板构件，为安装于框架上的板状构件，沿旋转体轴向延伸，其顶端与旋转体表面相接触。防漏构件，安装在刮板构件的两侧，且其结构为上述权利要求1-7任意一项所 述的防漏构件。利用该清洁装置清洁旋转体时，通过与旋转体接触的刮板构件部分刮除旋 转体表面的残留显影剂。当残留显影剂从刮板构件两端沿旋转体延伸方向向外 侧移动时，通过密封构件限制其向外侧移动，就能防止显影剂泄漏。这样，即使使用液体显影剂时，也难以产生泄漏。本专利技术所提出的第二种清洁装置是在第一种清洁装置的基础上，防漏构件 以弹性变形状态被设置于刮板构件与框架之间，防漏构件的两端分别与刮板构件及框架保持面接触。这样，试图消除弹性变形的防漏构件与框架及刮板构件紧密贴合，其间不 产生缝隙，可防止显影剂泄漏。本专利技术所提出的第三种清洁装置是在第一种清洁装置的基础上，其还具有 向旋转体侧推压防漏构件的推压机构。因此，防漏构件总处于被推压状态，可进一步防止显影剂泄漏。根据本专利技术，在使用细粒显影剂、液体显影剂时可防止发生泄漏。其次， 可限制密封构件随旋转体的旋转产生移动。附图说明图1为彩色打印机的整体剖视图； 图2为感光鼓、清洁刮板及密封构件示意图； 图3为清洁装置的剖视图； 图4为图3的部分放大图5为从感光鼓侧观察到的密封构件的斜视图; 图6为从图5相反侧观察到的密封构件斜视图。符号标记1彩色打印机(图像形成装置)10感光鼓(旋转体)26清洁装置262清洁刮板(刮板构件)263框架263a圆形凹部264密封构件(防漏构件)264a接触部264b移动限制部264cl第一抵接部264c2第二抵接部264e槽265推压机构具体实施例方式下面，参照附图对本专利技术应用于图像形成装置的实施例进行说明。需指出 的是，为便于说明，图中部件的位置及大小与实物不尽相同。下面提到的实施 例，只不过以打印机为例说明本专利技术应用于图像形成装置的实施例，并不限制 本专利技术在其他图像形成装置中的应用。g卩，适用于本专利技术的图像形成装置，可以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防漏构件（２６４），用于安装在清洁图像形成装置旋转体表面的清洁装置上，以防止显影剂从所述清洁构件的两侧泄漏，包括：接触部（２６４ａ），由弹性材料所构成，所述接触部包括第一抵接部（２６４ｃ１），所述第一抵接部（２６４ｃ１）通过与所述旋转体表面保持线接触以防止显影剂通过第一抵接部；移动限制部（２６４ｂ），连接在所述接触部（２６４ａ），用于限制所述接触部的移动。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：小田智之，村瀬幸司，上田博之，竹中秀典，堀内伸浩，保母纯平，
申请(专利权)人：京瓷美达株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]