【技术实现步骤摘要】
一种非金属材料的提纯方法
[0001]本专利技术涉及高纯材料的制备领域,尤其适用于高纯非金属材料的制备,特别是通过金属熔体对易挥发性非金属材料进行提纯的方法。
技术介绍
[0002]磷、硫及砷等为重要的半导体原材料,其可以制备磷化铟、磷化镓、砷化镓、二硫化钼等半导体材料,在国民经济中具有重要作用。制造半导体材料对半导体原材料的纯度要求很高,一般要达到99.999%以上。
[0003]半导体原材料中一般含有Fe、Ca、Co、Mg、Cr、Cd、Mn、Ni、Cu、Pb、Zn、Al等杂质元素。
[0004]以磷为例,在磷的提纯领域,传统的工业制备方法为:粗磷的升华、氯化或水解、精馏、提纯、还原等复杂的工艺,设备复杂,世界上仅有几个国家掌握高纯磷的提纯技术。我国磷资源的储量占世界第二,磷化工产品的产量占世界第一,但是我国磷工业的总体水平与国外尚有较大差距。
[0005]另外,磷、硫及砷等元素的性质相近,在要求提纯的单一元素中,其它的元素会以杂质的形式出现,如磷中的硫和砷、硫中的磷和砷、砷中的磷和硫。传统的方法, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种非金属材料的提纯方法,所述非金属材料为易挥发性材料,其特征在于,包括以下步骤:将气化的非金属材料在高压环境下注入到金属熔体中;降低环境压力,收集从金属熔体中溢出气泡中的非金属材料,从而得到提纯后的非金属材料。2.根据权利要求1所述的提纯方法,其特征在于:所述非金属材料为制作半导体晶体的易挥发性材料。3.根据权利要求2所述的提纯方法,其特征在于:所述金属为III族低熔点金属。4.根据权利要求2所述的提纯方法,其特征在于:提纯前非金属材料的纯度大于95%。5.根据权利要求3所述的提纯方法,其特征在于:所述非金属材料与所述金属合成后的物质为半导体材料。6.根据权利要求1或5所述的提纯方法,其特征在于:所述提纯方法包括以下步骤:步骤A、将金属置于密闭容器中,抽真空至10-5
Pa;步骤B、密闭容器中充入惰性气体,使密闭容器内的压力高于设计压力;步骤C、加热...
【专利技术属性】
技术研发人员:王书杰,孙聂枫,刘惠生,孙同年,徐森锋,史艳磊,邵会民,付莉杰,姜剑,王阳,李晓岚,
申请(专利权)人:中国电子科技南湖研究院,
类型:发明
国别省市:
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